CN111029289A - 一种刻蚀槽 - Google Patents
一种刻蚀槽 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111029289A CN111029289A CN201911389402.4A CN201911389402A CN111029289A CN 111029289 A CN111029289 A CN 111029289A CN 201911389402 A CN201911389402 A CN 201911389402A CN 111029289 A CN111029289 A CN 111029289A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- roller
- annular
- movable block
- gear
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 34
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 9
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 9
- 210000005056 cell body Anatomy 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 6
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 101001073212 Arabidopsis thaliana Peroxidase 33 Proteins 0.000 description 5
- 101001123325 Homo sapiens Peroxisome proliferator-activated receptor gamma coactivator 1-beta Proteins 0.000 description 5
- 102100028961 Peroxisome proliferator-activated receptor gamma coactivator 1-beta Human genes 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 235000019994 cava Nutrition 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1804—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic System
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
- H01L21/67086—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68764—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a movable susceptor, stage or support, others than those only rotating on their own vertical axis, e.g. susceptors on a rotating caroussel
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
本发明公开了一种刻蚀槽，包括有槽体和硅片输送机构，硅片输送机构由若干个依次间隔连接的送料单元构成，每个送料单元包括有两个支撑板和位于两个支撑板之间的若干辊筒，支撑板包括有底座部分和挡板部分，辊筒的两端分别安装有活动块，挡板部分设有安装槽，活动块通过调节杆调节在安装槽内的高度，辊筒的一端穿过轴承后连接有齿轮，所有齿轮通过与齿轮配合的链条联动，链条由驱动机构驱动转动。本发明的刻蚀槽，可以实现硅片的平稳输送，在线实施监测硅片运行过程，发现刻蚀槽变形导致的辊筒水平异常后可以及时在线调整辊筒状态，从而避免液面波动异常影响硅片刻蚀效果。
Description
技术领域
本发明属于刻蚀设备技术领域，具体涉及一种刻蚀槽。
背景技术
单晶PERC SE电池相比于传统太阳能电池具有以下优点：1、降低了扩散层复合速率，提高了光线的短波响应；2、减少了前金属电极与硅的接触电阻，提高了短路电流、开路电压和填充因子；3、降低了背表面复合速率，提升了开路电压；4、增强了背表面长波光反射效应，提升短路电流。单晶PERC SE电池包括有制绒-扩散-激光SE-刻蚀-PECVD/ARC-丝网印刷-烧结-测试分选等，刻蚀工序的作用是去掉硅片背面和硅片侧面的PN结，达到正面与背面绝缘的目的。刻蚀工序所采用的设备一般是链式刻蚀机。现有的链式刻蚀机刻蚀槽存在液面波动大、刻蚀槽容易变形等缺点。与传统电池相比，单晶PERC SE电池对工艺要求更为严格。因此，现有的链式刻蚀机难以满足单晶PERC SE电池的刻蚀工艺要求，需要对刻蚀槽进行改进，才能提高单晶PERC SE电池的良品率。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种刻蚀槽，包括有槽体和安装在槽体内的硅片输送机构，所述硅片输送机构由若干个依次间隔连接的送料单元构成，每个送料单元包括有两个支撑板和位于两个支撑板之间的若干辊筒，支撑板包括有固定在槽体上的底座部分和与底座部分一体连接的挡板部分，所述辊筒的两端分别通过轴承可转动的安装有活动块，挡板部分设有供活动块上下移动的安装槽，活动块通过调节杆调节在安装槽内的高度，所述辊筒的一端穿过轴承后连接有齿轮，所有齿轮通过与齿轮配合的链条联动，链条由驱动机构驱动转动。
作为上述技术方案的优选，所述活动块的两侧分别固定有导向条，安装槽的两侧分别设有供导向条上下移动的导向槽。
作为上述技术方案的优选，所述活动块的上端设有连接柱，连接柱内具有空腔，空腔设有可在空腔内水平转动的圆板，连接柱的上端具有连通空腔的通孔，调节杆的下端可活动的插入通孔后固定连接圆板，通孔的直径小于圆板的直径，安装槽的上端设有固定粱，固定粱的两端分别固定在挡板部分上，固定粱的中部设有螺纹孔，调节杆上具有与螺纹孔相配合的外螺纹，调节杆的上端具有调节把手。
作为上述技术方案的优选，所述辊筒的中部内陷形成环形槽，环形槽上套有环状透明管，环状透明管内具有环形空腔，环形空腔内具有液体和水准气泡，环状透明管的中部设有由两个刻度圈构成的水准区。
作为上述技术方案的优选，所述环状透明管由耐腐蚀玻璃制成。
作为上述技术方案的优选，所述环形槽两侧的辊筒上设有若干均匀间隔设置的环形开槽。
作为上述技术方案的优选，所述送料单元的一个支撑板上可转动的安装有导向齿轮，导向齿轮与链条相匹配，其中一个导向齿轮连接有第一锥形齿轮，驱动机构包括有电机和由电机驱动转动的齿轮轴，齿轮轴上安装有第二锥形齿轮，第二锥形齿轮与第一锥形齿轮齿合，齿轮轴垂直于辊筒。
作为上述技术方案的优选，所述齿轮、第二锥形齿轮、第一锥形齿轮均有耐腐蚀材料制成，所述链条为耐腐蚀链条。
本发明的有益效果是：本发明的刻蚀槽，可以实现硅片的平稳输送，在线实施监测硅片运行过程，发现刻蚀槽变形导致的辊筒水平异常后可以及时在线调整辊筒状态，从而避免液面波动异常影响硅片刻蚀效果。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图2是本发明的截面示意图；
图3是本发明另一角度的截面示意图；
图4是本发明部分结构示意图；
图5是送料单元的截面示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
如图1-5所示，一种刻蚀槽，包括有槽体1和安装在槽体内的硅片输送机构，所述硅片输送机构由若干个依次间隔连接的送料单元2构成，每个送料单元2包括有两个支撑板3和位于两个支撑板3之间的若干辊筒4，支撑板3包括有固定在槽体1上的底座部分5和与底座部分5一体连接的挡板部分6，所述辊筒4的两端分别通过轴承可转动的安装有活动块7，挡板部分6设有供活动块7上下移动的安装槽8，活动块7通过调节杆9调节在安装槽8内的高度，所述辊筒4的一端穿过轴承后连接有齿轮10，所有齿轮10通过与齿轮10配合的链条11联动，链条11由驱动机构驱动转动。当辊筒4的水平出现异常时，通过调节调节杆9，调节辊筒4的高度及水平。通过链条11驱动，使得辊筒4的具有一定的上下调节空间。
进一步的，所述活动块7的两侧分别固定有导向条12，安装槽8的两侧分别设有供导向条12上下移动的导向槽13。导向条12和导向槽13使得活动块7的上下移动平稳。
进一步的，所述活动块7的上端设有连接柱14，连接柱14内具有空腔15，空腔15设有可在空腔15内水平转动的圆板16，连接柱14的上端具有连通空腔15的通孔，调节杆9的下端可活动的插入通孔后固定连接圆板17，通孔的直径小于圆板17的直径，安装槽8的上端设有固定粱18，固定粱18的两端分别固定在挡板部分6上，固定粱18的中部设有螺纹孔，调节杆9上具有与螺纹孔相配合的外螺纹，调节杆9的上端具有调节把手19。通过螺纹配合，使得活动块7的调节更加精准。
进一步的，所述辊筒4的中部内陷形成环形槽20，环形槽20上套有环状透明管21，环状透明管21内具有环形空腔，环形空腔内具有液体和水准气泡，环状透明管21的中部设有由两个刻度圈构成的水准区。通过水准气泡在水准区的位置，时刻在线反应辊筒4的水平度，避免长期工作后辊筒4因刻蚀槽形变发生水平异常而不被察觉，观察到辊筒4水平异常后可以立即通过调节杆9使得辊筒4恢复正常状态。
进一步的，所述环状透明管21由耐腐蚀玻璃制成。
进一步的，所述环形槽20两侧的辊筒4上设有若干均匀间隔设置的环形开槽。环形开槽可以减少辊筒4与硅片的接触面积，提高刻蚀效率。
进一步的，所述送料单元2的一个支撑板3上可转动的安装有若干导向齿轮22，导向齿轮22与链条11相匹配，其中一个导向齿轮22连接有第一锥形齿轮23，驱动机构包括有电机和由电机驱动转动的齿轮轴24，齿轮轴24上安装有第二锥形齿轮25，第二锥形齿轮25与第一锥形齿轮23齿合，齿轮轴24垂直于辊筒4。
进一步的，所述齿轮10、第二锥形齿轮25、第一锥形齿轮23均有耐腐蚀材料制成，所述链条11为耐腐蚀链条。
值得一提的是，本发明专利申请涉及的刻蚀槽为链式刻蚀机中的刻蚀槽，链式刻蚀机、电机等技术特征应被视为现有技术，链式刻蚀机中的其他机构部件参考现有链式刻蚀机，这些技术特征的具体结构、工作原理以及可能涉及到的控制方式、空间布置方式采用本领域的常规选择即可，不应被视为本发明专利的发明点所在，本发明专利不做进一步具体展开详述。
以上详细描述了本发明的较佳具体实施例，应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思做出诸多修改和变化，因此，凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
Claims (8)
1.一种刻蚀槽，其特征在于，包括有槽体和安装在槽体内的硅片输送机构，所述硅片输送机构由若干个依次间隔连接的送料单元构成，每个送料单元包括有两个支撑板和位于两个支撑板之间的若干辊筒，支撑板包括有固定在槽体上的底座部分和与底座部分一体连接的挡板部分，所述辊筒的两端分别通过轴承可转动的安装有活动块，挡板部分设有供活动块上下移动的安装槽，活动块通过调节杆调节在安装槽内的高度，所述辊筒的一端穿过轴承后连接有齿轮，所有齿轮通过与齿轮配合的链条联动，链条由驱动机构驱动转动。
2.如权利要求1所述的刻蚀槽，其特征在于，所述活动块的两侧分别固定有导向条，安装槽的两侧分别设有供导向条上下移动的导向槽。
3.如权利要求2所述的刻蚀槽，其特征在于，所述活动块的上端设有连接柱，连接柱内具有空腔，空腔设有可在空腔内水平转动的圆板，连接柱的上端具有连通空腔的通孔，调节杆的下端可活动的插入通孔后固定连接圆板，通孔的直径小于圆板的直径，安装槽的上端设有固定粱，固定粱的两端分别固定在挡板部分上，固定粱的中部设有螺纹孔，调节杆上具有与螺纹孔相配合的外螺纹，调节杆的上端具有调节把手。
4.如权利要求1所述的刻蚀槽，其特征在于，所述辊筒的中部内陷形成环形槽，环形槽上套有环状透明管，环状透明管内具有环形空腔，环形空腔内具有液体和水准气泡，环状透明管的中部设有由两个刻度圈构成的水准区。
5.如权利要求4所述的刻蚀槽，其特征在于，所述环状透明管由耐腐蚀玻璃制成。
6.如权利要求4所述的刻蚀槽，其特征在于，所述环形槽两侧的辊筒上设有若干均匀间隔设置的环形开槽。
7.如权利要求1所述的刻蚀槽，其特征在于，所述送料单元的一个支撑板上可转动的安装有导向齿轮，导向齿轮与链条相匹配，其中一个导向齿轮连接有第一锥形齿轮，驱动机构包括有电机和由电机驱动转动的齿轮轴，齿轮轴上安装有第二锥形齿轮，第二锥形齿轮与第一锥形齿轮齿合，齿轮轴垂直于辊筒。
8.如权利要求7所述的刻蚀槽，其特征在于，所述齿轮、第二锥形齿轮、第一锥形齿轮均有耐腐蚀材料制成，所述链条为耐腐蚀链条。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911389402.4A CN111029289A (zh) | 2019-12-30 | 2019-12-30 | 一种刻蚀槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911389402.4A CN111029289A (zh) | 2019-12-30 | 2019-12-30 | 一种刻蚀槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111029289A true CN111029289A (zh) | 2020-04-17 |
Family
ID=70195586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201911389402.4A Pending CN111029289A (zh) | 2019-12-30 | 2019-12-30 | 一种刻蚀槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111029289A (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112512294A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-03-16 | 佛山市坦斯盯科技有限公司 | 一种应用于aoi设备的送料机构 |
| CN113823712A (zh) * | 2021-11-01 | 2021-12-21 | 江苏龙恒新能源有限公司 | 电池片链式刻蚀碱背抛光装置 |
| WO2022063301A1 (zh) * | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 晶澳（扬州）太阳能科技有限公司 | 一种用于湿法刻蚀的带液滚轮及湿法刻蚀方法 |
-
2019
- 2019-12-30 CN CN201911389402.4A patent/CN111029289A/zh active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022063301A1 (zh) * | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 晶澳（扬州）太阳能科技有限公司 | 一种用于湿法刻蚀的带液滚轮及湿法刻蚀方法 |
| CN112512294A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-03-16 | 佛山市坦斯盯科技有限公司 | 一种应用于aoi设备的送料机构 |
| CN113823712A (zh) * | 2021-11-01 | 2021-12-21 | 江苏龙恒新能源有限公司 | 电池片链式刻蚀碱背抛光装置 |
| CN113823712B (zh) * | 2021-11-01 | 2023-10-13 | 江苏龙恒新能源有限公司 | 电池片链式刻蚀碱背抛光装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111029289A (zh) | 一种刻蚀槽 | |
| CN211208411U (zh) | 一种刻蚀槽 | |
| CN110470997B (zh) | 一种锂电池检测装置 | |
| CN207852634U (zh) | 载板及太阳能电池镀膜模具 | |
| CN217280820U (zh) | 一种光伏组件封边装置 | |
| CN213305330U (zh) | 一种可调节角度的新能源太阳能板 | |
| CN113977055B (zh) | 一种用于太阳能路灯板材的加工设备及加工方法 | |
| CN215496763U (zh) | 一种常温湿法刻蚀槽 | |
| CN111014348A (zh) | 光伏组件层压机用焊带矫正装置 | |
| CN211707768U (zh) | 光伏组件层压机用焊带矫正装置 | |
| CN220725477U (zh) | 一种光伏幕墙的可调节连接结构 | |
| CN217901973U (zh) | 用于方形锂离子自适应高温负压化成测试设备的运动机构 | |
| CN216751614U (zh) | 一种高发电效率光伏支架 | |
| CN220383882U (zh) | 一种智能水闸灌溉系统 | |
| CN212137590U (zh) | 一种新型曲面太阳能电池板安装结构 | |
| CN220796679U (zh) | 一种新型硅片石英舟 | |
| CN219551636U (zh) | 一种水库管理用水位在线测量装置 | |
| CN216246699U (zh) | 一种水利工程施工勘测用水位预警装置 | |
| CN219421318U (zh) | 一种便于装配的太阳能控制器 | |
| CN215785090U (zh) | 一种太阳能电站用自动清洗装置 | |
| CN219780057U (zh) | 一种建筑用光伏板固定结构 | |
| CN220372570U (zh) | 一种薄壁罐体焊接用支撑装置 | |
| CN211150582U (zh) | 一种mwt电池激光打孔偏移检查装置 | |
| CN220440668U (zh) | 光伏组件虚焊检测机构 | |
| CN217300769U (zh) | 一种风机基础上锚板的固定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |