CN109147656A - 显示面板的修复系统和修复方法 - Google Patents

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Abstract

一种显示面板的修复系统和修复方法。该显示面板的修复系统包括超声生成装置和波束控制装置。超声生成装置配置为生成超声波；波束控制装置配置为将超声波引导发射至预定位置，使得可基于超声波修复待修复的显示面板。该显示面板的修复系统和修复方法可以提升显示面板的修复率并可以降低对显示面板的待修复像素单元周边的像素单元的影响。

Description

显示面板的修复系统和修复方法
技术领域
本公开的实施例涉及一种显示面板的修复系统和修复方法。
背景技术
在有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示面板的生产过程中，如果异物导通了像素的阳极(例如，ITO)和高电位电源线(例如，VDD)，会导致显示面板出现亮点不良，也即，显示面板的至少一个像素表现为持续发光。
发明内容
本公开的一个实施例提供了一种显示面板的修复系统，该显示面板的修复系统包括超声生成装置和波束控制装置。超声生成装置配置为生成超声波；波束控制装置配置为将超声波引导发射至预定位置，使得可基于超声波修复待修复的显示面板。
本公开的另一个实施例提供了一种显示面板的修复方法，该显示面板的修复方法包括：生成超声波；将超声波引导发射至待修复的显示面板上的预定位置，从而基于超声波修复显示面板。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，并非对本公开的限制。
图1是一种OLED显示面板的像素单元的像素电路的示例性电路图；
图2(a)是OLED显示面板的像素单元在存在亮点不良情况下的像素电路的示例性电路图；
图2(b)是存在亮点不良的显示面板在全黑工作模式下的显示情况的示意图；
图3(a)是使用激光切割高电位电源线的方法修复显示面板的示意图；
图3(b)是使用激光破坏待修复像素单元的方法修复显示面板的示意图；
图4是本公开实施例一提供的显示面板的修复系统的示例性框图；
图5(a)是本公开实施例一提供的显示面板的修复系统的一种示例性侧视图；
图5(b)是图5(a)所示的显示面板的修复系统的截面示意图；
图6是本公开实施例一提供的波束尺寸控制元件的一种示例性的结构图；
图7是实施例二提供的显示面板的修复系统的示例性框图；
图8(a)是本公开实施例二提供的显示面板的修复系统的一种示例性侧视图；
图8(b)是图8(a)所示的显示面板的修复系统的截面示意图；
图9是本公开实施例二提供的另一种显示面板的修复系统的示例性侧视图；以及
图10是本公开实施例三提供的显示面板的修复方法的示例性流程图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
发明人在研究中注意到基于下述的原因，OLED显示面板的像素单元会出现亮点不良，下面结合图1-图3具体说明显示面板的出现亮点不良的原因。
例如，图1是一种OLED显示面板的像素单元的像素电路的示例性电路图，如图1所示，OLED显示面板的像素电路包括第一晶体管T1、第二晶体管T2、第三晶体管T3、存储电容Cst和发光元件EL。第三晶体管T3为驱动晶体管，且第三晶体管T3的控制端G、第一端S和第二端D分别电连接到第一节点161、第二节点162和高电位电源线VDD。第一晶体管T1为开关晶体管，且包括控制端G1、第一端111和第二端112，第一晶体管T1的第一端111和第二端112分别电连接到信号线151和第一节点161。第二晶体管T2为感测晶体管，且包括控制端G2、第一端121和第二端122，第二晶体管T2的第一端121和第二端122分别电连接到第二节点162和感测线152。存储电容Cst的第一端141和第二端142分别电连接到第一节点161和第二节点162。发光元件EL的第一端131(即，阳极端)和第二端132(即，阴极端)分别与第二节点162和低电位电源线VSS电连接。
例如，对于图1所示的像素电路中的发光元件EL，在信号线151输出的导通信号(例如，高电平信号)经导通的第一晶体管T1传输到第一节点161(即，第三晶体管T3的控制端)并存储在存储电容Cst中的情况下，第三晶体管T3导通且发光元件EL的第一端131(即，阳极端)被施加源自高电位电源线VDD的高电位，当第三晶体管T3两端压降比较小时，则该高电位可以认为近似等于电源电压VDD。在该高电位与低电位电源线VSS(例如，VSS)之间的压差大于发光元件EL的开启电压时，发光元件EL发光。在信号线151输出的截止信号(例如，低电平信号)经导通的第一晶体管T1传输到第一节点161并存储在存储电容Cst中的情况下的情况下，第三晶体管T3截止，发光元件EL不发光。
例如，图2(a)是OLED显示面板的像素单元在存在亮点不良情况下的像素电路的示例性电路图。例如，相比于图1所示的像素电路，图2(a)所示的像素电路的高电位电源线VDD与发光元件EL的第一端131(即，阳极端)短接，导致发光元件EL的第一端131与高电位电源线VDD短接的原因有多种，例如，可以是异物将第三晶体管T3的第一端S和第二端D导通，由于第三晶体管T3的第一端S与发光元件EL的第一端131电连接且第三晶体管T3的第二端D电连接至高电位电源线VDD，由此使得发光元件EL的第一端131与高电位电源线VDD短接。
例如，在高电位电源线VDD的电压为24V、低电位电源线VSS的电压为0V的情况下，高电位电源线VDD与发光元件EL的阳极端之间短接使得发光元件EL的阳极端的电压为24V，并使得发光元件EL的阳极端与阴极端之间的压差恒为24V。此时，无论第三晶体管T3是否导通，发光元件EL将持续发光，也即，显示面板的像素单元存在亮点不良问题。图2(b)是存在亮点不良的显示面板171在全黑工作模式下的显示情况的示意图，如图2(b)所示，对于存在亮点不良的显示面板171，在全黑工作模式下，显示面板也会存在至少一个亮点172。
发明人还注意到可以使用激光切割高电位电源线的方法或者使用激光破坏存在亮点不良的像素单元(例如，像素单元的有机发光层材料)的方法将存在亮点不良像素单元修复为暗点，然而发明人注意到上述两种修复方法存在以下技术问题。
例如，图3(a)示出了使用激光切割高电位电源线的方法修复显示面板的示意图。例如，如图3(a)所示，可以使用激光在例如切割位置191切割高电位电源线VDD，并使得切割位置191左侧的高电位电源线VDD无法电连接到高电位电源端。此时，无论第三晶体管T3是否导通，高电位电源端的电位均不能通过断开的高电位电源线VDD传递到发光元件EL的阳极端，因此发光元件EL不发光，并由此可以将亮点修复为暗点。然而，发明人注意到，为了保证成膜时的平坦度，OLED显示面板的高电位电源线VDD与发光元件EL的阴极之间可能存在很厚的树脂层。例如，在使用激光切割高电位电源线VDD的过程中，由于树脂层的阻挡，被激光融化的高电位电源线VDD形成的导电微粒的至少部分不能脱离OLED显示面板，而是聚集在高电位电源线VDD的两侧，并使得高电位电源线VDD依然能够导通，由此导致使用激光切割高电位电源线VDD修复显示面板的亮点不良的方法的修复成功率较低。
例如，如图3(b)所示，对于使用激光破坏存在亮点不良的像素单元(例如，像素单元的有机发光层材料)的修复方法，可以将激光作用在待修复的像素单元1121(例如，像素单元的有机发光层材料)中的作用点121上，激光被待修复的像素单元1121吸收后转化为热，并且激光的热效应影响区域122可以超出待修复的像素单元，因此，在使用激光修复待修复的像素单元1121的过程中，待修复的像素单元1211周边的像素单元(例如，待修复的像素单元1121左右两侧的像素单元)也可能被激光的热效应所影响，由此致使待修复的像素单元1211周边的像素单元(例如，正常发光的像素单元)也变为暗点，进而降低了上述方法的维修效果。
本公开的实施例提供了一种显示面板的修复系统和修复方法，该显示面板的修复系统和修复方法可以提升显示面板的修复率并可以降低对显示面板的待修复像素单元周边的像素单元的影响。
本公开的至少一个实施例提供了一种显示面板的修复系统，该显示面板的修复系统包括超声生成装置和波束控制装置。超声生成装置配置为生成超声波；波束控制装置配置为将超声波引导发射至预定位置，使得可基于超声波修复待修复的显示面板。
本公开的至少一个实施例还提供了一种显示面板的修复方法，该显示面板的修复方法包括：生成超声波；将超声波引导发射至待修复的显示面板上的预定位置，从而基于超声波修复显示面板。
下面通过几个实施例对根据本公开实施例的显示面板的修复系统和修复方法进行说明。
实施例一
本实施例提供一种显示面板的修复系统200，该显示面板的修复系统200可用于修复显示面板(例如，OLED显示面板)的不良(例如，亮点不良)。例如，图4示出了本公开实施例一提供的显示面板的修复系统200的示例性框图。例如，显示面板的修复系统200可以包括超声生成装置211和波束控制装置212。例如，超声生成装置211和波束控制装置212的具体形式可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。
例如，图5(a)是本公开实施例一提供的显示面板的修复系统200的一种示例性侧视图，图5(b)是图5(a)所示的显示面板的修复系统200的截面示意图。
例如，如图5(a)和图5(b)所示，超声生成装置211配置为生成超声波。例如，超声生成装置211的具体类型、所输出的超声波的频率(例如，0.5-5MHz)和功率可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。例如，超声波的定向性随着超声波的频率的增强而增加，因此，在显示面板213的分辨率较高的情况下可以选用可以输出高频(例如，2MHz)超声波的超声生成装置211。例如，可以根据超声波传输过程中的能量损耗、待修复的像素单元214的具体结构、待修复的像素单元214的有机发光层的材料以及显示面板213的分辨率等因素确定超声生成装置211输出的超声波的功率以及超声波作用于待修复的像素单元214的时间。例如，超声生成装置211输出的超声波的功率以及超声波作用于待修复的像素单元214的时间的具体数值例如可以通过实验进行测定。
例如，波束控制装置212可以配置为将超声波引导发射至预定位置，使得可基于超声波修复待修复的显示面板213。例如，显示面板213可以包括多个并列设置的子像素(例如，像素单元)，超声波可以被引导发射至待修复的显示面板213上的预定子像素(例如，待修复的像素单元214)之上。
例如，在超声生成装置211输出的超声波入射到待修复像素单元214(例如，存在亮点不良的像素单元)之后，超声波的剧烈震动会使得像素单元的相关结构(例如，有机发光层的材料)做高频振动；此外，超声波的部分能量将转变为热能、并且导致超声波作用点(即，超声波在待修复像素单元214上的入射点)附近的局部区域的温度升高；因此，超声波会破坏像素单元的相关结构(例如，有机发光层的材料)，并使得待修复的像素单元214不能发光。由此，本公开实施例一提供的显示面板的修复系统200可以将待修复像素单元214修复为暗点，并且该修复系统200具有较高的修复成功率。
例如，由于超声波引起的热效应小于激光引起的热效应，因此超声生成装置211输出的超声波可以仅作用于待修复的像素单元214，而不会影响待修复的像素单元214周边的像素单元(例如，待修复像素单元214左右两侧的像素单元)的正常发光。由此，本公开实施例一提供的显示面板的修复系统200在将待修复的像素单元214修复为暗点的过程中，可以降低对待修复的像素单元214周边的像素单元的影响，由此可以提升修复效果。
例如，如图5(a)和图5(b)所示，显示面板的修复系统200还可以包括位移机构217。例如，位移机构217可以配置为基于显示面板213的待修复点(例如，待修复的像素单元214)的位置信息，使得超声生成装置211和波束控制装置212相对于待修复的显示面板213移动，以实现超声生成装置211与待修复点之间的对准。例如，位移机构217可以带动超声生成装置211和波束控制装置212沿D1方向和D2方向运动。例如，D1方向和D2方向可以在平行于待修复的显示面板213的平面内相互垂直。
例如，显示面板213的待修复点的位置信息可以是指示待修复点位于显示面板213第几行、第几列的信息；又例如，显示面板213的待修复点的位置信息还可以是待修复点相对于参考点的位置坐标。例如，显示面板213的待修复点的位置信息可以从修复系统200外部传入位移机构217的控制装置；又例如，显示面板213的待修复点的位置信息还可以由修复系统200的相关装置获取并提供给位移机构217的控制装置(例如，具体方法可以参见实施例二)。
例如，位移机构217可以为二维电动调整架，但本公开的实施例不限于此。例如，位移机构217的调整精度可以根据显示面板213的分辨率进行设定，例如，位移机构217的调整精度可以使得超声生成装置211输出的超声波作用在待修复的像素单元214之中。例如，位移机构217可以通过移动(例如，平移)超声生成装置211和波束控制装置212，以实现超声生成装置211与待修复点(例如，待修复的像素单元)之间的对准；又例如，位移机构217还可以通过移动待修复的显示面板213，以实现超声生成装置211与待修复点之间的对准。
例如，波束控制装置212的具体结构和设置方式可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。
例如，如图5(a)和图5(b)所示，波束控制装置212可以包括设置于超声波发射路径上的波束尺寸控制元件215，波束尺寸控制元件215包含透射超声波的透射区221和遮挡超声波的遮挡区222。例如，波束尺寸控制元件215可以控制入射到待修复的像素单元214上的超声波的尺寸，因此可以进一步的降低超声波对待修复的像素单元214周边的像素单元的影响，由此可以进一步的提升修复效果。例如，波束尺寸控制元件215的具体结构可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。
例如，如图6所示，波束尺寸控制元件215可以包括相互交叉且间距可调的两个狭缝223，两个狭缝223的交叉区域构成超声波的透射区221。例如，两个狭缝223可以相互垂直，由此两个狭缝223的交叉区域构成超声波的透射区221为矩形。例如，每个狭缝223可以由相对设置且间距可调的两个遮挡单元(金属片224)构成，入射到金属片224上的超声波可以被金属片224反射，由此对应于金属片224的区域构成了波束尺寸控制元件的遮挡区222；两个狭缝223的交叉区域构成的超声波的透射区221对应于波束尺寸控制元件的透射区221。因此，可以通过控制波束尺寸控制元件的透射区221的尺寸控制控制入射到待修复像素单元上的超声波束的尺寸，由此可以降低超声波束对待修复像素单元214周边的像素单元的影响。例如，波束尺寸控制元件215的具体结构不限于图6所示的结构，波束尺寸控制元件215例如还可以包括圆形的透射区和圆环型的遮挡区，本公开的实施例对此不做具体限定。
例如，如图5(a)和5(b)所示，波束控制装置212还可以包括设置于超声波发射路径上的波束聚焦元件216，波束聚焦元件216可以配置为对超声波进行会聚。例如，通过在超声波发射路径上设置波束聚焦元件216，可以降低入射到待修复像素单元214上的超声波束的尺寸，提升入射到待修复像素单元214上的超声波束的能量密度，由此可以提升显示面板213的修复率，而且还可以降低对待修复像素单元214周边的像素单元的影响，也即，提升显示面板213的修复效果。
例如，波束聚焦元件216的具体结构可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。例如，可以使用声学聚焦(例如，几何聚焦或机械聚焦)或电子聚焦的方法实现超声波束的聚焦。例如，几何聚焦包括声透镜聚焦和声反射镜聚焦；例如，机械聚焦包括凹面振子聚焦法。例如，波束聚焦元件216的具体结构和参数的设置可以参照现有的超声波束聚焦技术，在此不再赘述。
例如，根据实际应用需求，波束控制装置212可以包括波束尺寸控制元件215和波束聚焦元件216的任意一种或者两种的组合。例如，如图5(a)和5(b)所示，在波束控制装置212包括波束尺寸控制元件215和波束聚焦元件216的情况下，相比于波束尺寸控制元件215，波束聚焦元件216可以更靠近待修复的显示面板213，由此可以降低对波束尺寸控制元件215的调节精度的要求，但本公开的实施例不限于此。
实施例二
本实施例提供一种显示面板的修复系统200，该显示面板的修复系统200可用于修复显示面板213(例如，OLED显示面板)的不良(例如，亮点不良)。例如，图7示出了实施例二提供的显示面板的修复系统200的示例性框图。例如，显示面板的修复系统200可以包括超声生成装置211、波束控制装置212和对准装置231。例如，超声生成装置211、波束控制装置212以及其它相关装置的具体描述和设置方式可以参见实施例一，在此不再赘述。
例如，图8(a)是本公开实施例二提供的显示面板的修复系统200的一种示例性侧视图，图8(b)是图8(a)所示的显示面板的修复系统200的截面示意图。例如，如图8(a)和图8(b)所示，对准装置231可以包括第一图像采集装置232，第一图像采集装置232可以配置为通过采集显示面板213的至少部分显示区域(例如，几个像素单元)的图像获取待修复点的位置信息。例如，第一图像采集装置232可以配置为采集显示面板213的几个像素单元的图像，由此可以根据所采集的几个像素单元的图像将超声生成装置211与待修复像素单元214的例如中心对准，由此可以进一步降低对待修复像素单元214的周边像素的影响。例如，在超声波对待修复的像素单元214进行修复处理之后，第一图像采集装置232可以采集修复后的待修复像素单元214的图像以及待修复像素单元214周边的像素单元的图像，然后可以分析判断特定参数的超声波对待修复像素单元214的修复效果，以及对待修复像素单元214周边的像素单元的影响，上述分析判断结果可以用于进一步优化例如超声生成装置211的输出参数和/或波束控制装置212的相关结构的设定参数，由此可以进一步的提升显示面板的修复系统200修复率和修复效果。
例如，为了将第一图像采集装置232集成在修复系统200中，本公开实施例二提供的显示面板的修复系统200还可以包括波轴整合结构。例如，波轴整合结构配置为可以使得第一图像采集装置的光路和超声波的波轴在显示面板上重合(例如，实质上重合)。例如，波轴整合结构的具体形式可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。
例如，波轴整合结构233可以配置为通过反射使得至少部分超声生成装置211输出的超声波入射到待修复点上，且通过透射使得第一图像采集装置232可以采集待修复点的图像，由此使得第一图像采集装置的光路219和超声波的波轴218在显示面板213上处于重合状态(例如，一直处于重合状态)。
例如，如图8(a)和图8(b)所示，波轴整合结构233可以包括平板玻璃234，平板玻璃234包括第一面235和第二面236；超声生成装置211面向第一面235，超声生成装置211输出的超声波入射到第一面235，且经由第一面235反射至待修复点上；第一图像采集装置232面向第二面236，待修复点的图像的光线入射到第一面235，且通过透射可从第一面235传输至设置在位于平板玻璃234的第二面236一侧的第一图像采集装置232上。例如，平板玻璃234可以配置为使得超声波的波轴218与平板玻璃234和显示面板213的相交点分别与第一图像采集装置的光路219(例如，光轴)与平板玻璃234和显示面板213的相交点重合，由此可以使得位于平板玻璃234和待修复的显示面板213之间的超声波的波轴218与第一图像采集装置的光路219重合，进而可以实时监测待修复像素单元214的修复情况和/或超声波对待修复像素单元214的周边像素的影响情况，以提升修复系统200的修复率和修复效果。
例如，图9是本公开实施例二提供的另一种显示面板的修复系统200的示例性侧视图。例如，如图9所示，本公开实施例二提供的修复系统200利用第二波轴整合结构240将第一图像采集装置232集成在修复系统200中。例如，第二波轴整合结构240配置为通过移动超声生成装置211和第一图像采集装置232使得第一图像采集装置的光路219和超声波的波轴218依次与显示面板213的预定位置相交。例如，第二波轴整合结构240的具体形式可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。
例如，如图9所示，第二波轴整合结构240可以包括导轨241、第一滑块243和第二滑块245。导轨241包括对位标记242；第一滑块243与第一图像采集装置232固定连接，第二滑块245与超声生成装置211固定连接，第一滑块243和第二滑块245可以在导轨241上滑动；第一滑块243(例如，第一滑块的对位标记244)在与对位标记242对准的情况下，第一图像采集装置的光路219与显示面板213的预定位置(例如，待修复的像素单元的中心位置)相交；第二滑块245(例如，第二滑块的对位标记246)在与对位标记242对准的情况下，超声波的波轴218与显示面板213的预定位置(例如，待修复像素单元214的中心位置)相交。例如，第二波轴整合结构240还可以包括位置锁定机构(图9中未示出)，位置锁定机构可以在将第一滑块243和/或第二滑块245移动到预定位置后将第一滑块243和/或第二滑块245锁定在导轨241上。
例如，在修复系统200的第二波轴整合结构240配置为通过移动超声生成装置211和波束控制装置212实现超声生成装置211与待修复点之间的对准的情况下，导轨241可以与修复系统200的位移机构217固定连接。例如，首先，可以基于显示面板213的待修复点的位置信息，使得位移机构217带动超声生成装置211和波束控制装置212相对于待修复的显示面板213移动，由此可以实现超声生成装置211与待修复点之间的相对对准(例如，在第二滑块的对位标记246与导轨的对位标记242对准的情况下，可以实现超声生成装置211与待修复点之间的对准，在第一滑块的对位标记244与导轨的对位标记242对准的情况下，可以实现第一图像采集装置232与待修复点之间的对准)；然后，可以使得第一滑块的对位标记244与导轨的对位标记242对准，然后可以基于第一图像采集装置232采集的显示面板213的至少部分显示区域(例如，几个像素单元)的图像精细调节位移机构217的位置，以使得例如第一图像采集装置232与待修复像素单元214的中心位置重合；最后，将第一滑块243移开，将第二滑块的对位标记246与导轨的对位标记242对准，并使得超声生成装置211输出超声波以实现对待修复像素单元214的修复。由于此时超声波的波轴218与待修复像素单元214的中心位置相交，因此可以进一步的提升修复系统200的修复率和修复效果。
例如，本公开实施例提供的移动装置不限于图9所示的移动型结构，本公开实施例提供的移动装置还可以是其它可以使得第一图像采集装置的光路219和超声波的波轴218依次与显示面板213的预定位置相交结构。例如，根据实际应用需求，本公开实施例提供的移动装置还可以是转动型的结构；例如，该转动型结构的具体设置方式可以参见显微镜的用于改变多个目镜相对于物镜位置的转换器的设置方式，在此不再赘述。
例如，根据实际应用需求，修复系统200的对准装置231还可以包括第二图像采集装置。例如，第二图像采集系统可以配置为通过采集显示面板213的整体图像获取待修复点的位置信息。例如，第二图像采集系统可以通过采集显示面板213在全黑工作模式下的整体图像获取显示面板213的亮点的个数以及亮点的位置信息。例如，亮点的位置信息可以是亮点所在的行和列，或者亮点相对于显示面板213参考点(例如，参考点可以为显示面板213发光侧左下角)的位置坐标，本公开的实施例对此不做具体限定。例如，亮点的位置信息可以提供给位移机构217的控制装置，以使得超声生成装置211和波束控制装置212相对于待修复的显示面板213移动，进而实现超声生成装置211与待修复点之间的对准。例如，第二图像采集系统可以固定设置在显示面板213的发光侧；又例如，第二图像采集系统还可以仅在需要采集显示面板213的整体图像的情况下，设置在显示面板213的发光侧，本公开的实施例对此不做具体限定。
实施例三
本实施例提供一种显示面板的修复方法，如图10所示，该显示面板的修复方法，包括以下步骤：
步骤S110：生成超声波；
步骤S120：将超声波引导发射至待修复的显示面板上的预定位置，从而基于超声波修复显示面板。
例如，显示面板包括多个并列设置的子像素，可以将超声波被引导发射至待修复的显示面板上的预定子像素(例如，待修复的子像素)。例如，可以通过控制入射到待修复的显示面板上的预定子像素上的超声波的参数(例如，超声波束的尺寸和/或能量密度)，以使得超声波仅作用于待修复的显示面板上的预定子像素。例如，超声波的生成方法，超声波的参数的设置和控制方法、以及超声波束与待修复的显示面板的预定子像素对准的方法可以参见实施例一和实施例二，在此不再赘述。
例如，在超声生成装置输出的超声波入射到待修复像素单元(例如，存在亮点不良的像素单元)之后，超声波的剧烈震动会使得像素单元的相关结构(例如，有机发光层的材料)做高频振动；此外，超声波的部分能量会转变为热能、并且导致超声波作用点附近的局部区域的温度升高；因此，超声波会破坏像素单元的相关结构(例如，有机发光层的材料)，并使得待修复的像素单元不能发光。由此，本公开实施例三提供的显示面板的修复方法可以将待修复像素单元修复为暗点，并且该修复方法具有较高的修复成功率。例如，由于超声波引起的热效应远小于激光引起的热效应，因此超声生成装置输出的超声波对待修复的像素单元周边的像素单元的影响较小。由此，本公开实施例三提供的显示面板的修复方法在将待修复的像素单元修复为暗点的过程中，可以降低对待修复的像素单元周边的像素单元的影响，由此可以提升修复效果。例如，可以通过控制入射到待修复的显示面板上的预定子像素上的超声波的尺寸和/或能量密度，可以提升显示面板的修复率和/或降低对待修复像素单元周边像素单元的影响(即，提升显示面板的修复效果)。
显然，本领域的技术人员可以对本公开的实施例进行各种改动、变型、组合而不脱离本公开的精神和范围。这样，倘若本公开的实施例的这些修改、变型、组合属于本公开权利要求及其等同技术的范围之内，则本公开也意图包含这些改动和变型在内。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims (18)

1.一种显示面板的修复系统，包括：
超声生成装置，配置为生成超声波；
波束控制装置，配置为将所述超声波引导发射至预定位置，使得可基于所述超声波修复待修复的显示面板。
2.根据权利要求1所述的修复系统，还包括位移机构，其中，
所述位移机构配置为基于所述显示面板的待修复点的位置信息，使得所述超声生成装置和所述波束控制装置相对于所述待修复的显示面板移动，以实现所述超声生成装置与所述待修复点之间的对准。
3.根据权利要求2所述的修复系统，其中，
所述位移机构通过移动所述超声生成装置和所述波束控制装置，以实现所述超声生成装置与所述待修复点之间的对准。
4.根据权利要求1所述的修复系统，其中，
所述波束控制装置包括设置于所述超声波发射路径上的波束尺寸控制元件，所述波束尺寸控制元件包含透射所述超声波的透射区和遮挡所述超声波的遮挡区。
5.根据权利要求4所述的修复系统，其中，
所述波束尺寸控制元件包括相互交叉且间距可调的两个狭缝，所述两个狭缝的交叉区域构成所述超声波的透射区。
6.根据权利要求1所述的修复系统，其中，
所述波束控制装置包括设置于所述超声波发射路径上的波束聚焦元件，所述波束聚焦元件配置为对所述超声波进行会聚。
7.根据权利要求1-6任一所述的修复系统，还包括对准装置，其中，所述对准装置配置将所述波束控制装置与所述待修复点对准。
8.根据权利要求7所述的修复系统，其中，
所述对准装置包括第一图像采集装置，所述第一图像采集装置配置为通过采集所述显示面板的至少部分显示区域的图像获取所述待修复点的位置信息。
9.根据权利要求8所述的修复系统，还包括波轴整合结构，其中，
所述波轴整合结构配置为可以使得所述第一图像采集装置的光路和所述超声波的波轴在所述显示面板上重合。
10.根据权利要求9所述的修复系统，其中，
所述波轴整合结构配置为通过反射使得至少部分所述超声生成装置输出的所述超声波入射到所述待修复点上，且通过透射使得所述第一图像采集装置可以采集所述待修复点的图像，由此使得所述第一图像采集装置的光路和所述超声波的波轴在所述显示面板上处于重合状态。
11.根据权利要求10所述的修复系统，其中，
所述波轴整合结构包括平板玻璃，所述平板玻璃包括第一面和第二面；
所述超声生成装置面向所述第一面，且所述超声生成装置输出的所述超声波入射到所述第一面，且经由所述第一面反射至所述待修复点上；
所述第一图像采集装置面向所述第二面，且所述待修复点的图像的光线入射到所述第一面，且通过透射可从所述第一面传输至设置在位于所述平板玻璃的所述第二面一侧的所述第一图像采集装置上。
12.根据权利要求8所述的修复系统，还包括第二波轴整合结构，其中，所述第二波轴整合结构配置为通过移动所述超声生成装置和所述第一图像采集装置使得所述第一图像采集装置的光路和所述超声波的波轴依次与所述显示面板的预定位置相交。
13.根据权利要求12所述的修复系统，其中，所述第二波轴整合结构包括：
导轨，包括对位标记，
第一滑块，与所述第一图像采集装置固定连接，所述第一滑块在与所述对位标记对准的情况下，所述第一图像采集装置的光路与所述显示面板的预定位置相交，
第二滑块，与所述超声生成装置固定连接，所述第二滑块在与所述对位标记对准的情况下，所述超声波的波轴与所述显示面板的预定位置相交。
14.一种显示面板的修复方法，包括：
生成超声波；
将所述超声波引导发射至待修复的显示面板上的预定位置，从而基于所述超声波修复所述显示面板。
15.根据权利要求14所述的修复方法，其中，
所述显示面板包括多个并列设置的子像素，所述超声波被引导发射至所述待修复的显示面板上的预定子像素。
16.根据权利要求14或15所述的修复方法，还包括：
控制入射到所述待修复的显示面板上的预定子像素上的所述超声波的参数，使得所述超声波仅作用于所述待修复的显示面板上的预定子像素。
17.根据权利要求16所述的修复方法，其中，
控制入射到所述待修复的显示面板上的预定子像素上的超声波束的尺寸。
18.根据权利要求16所述的修复方法，其中，
控制入射到所述待修复的显示面板上的预定子像素上的超声波束的能量密度。
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