CN109132547B - 单面制绒分片装置及其使用方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种单面制绒分片装置，包括分片平台、真空吸附机构、真空吸附传送带、喷嘴、真空泵及前端的输送带；所述分片平台上设有真空吸附机构，所述分片平台与真空吸附机构之间设有真空吸附传送带，所述真空吸附传送带向后运动与后输送带对接；所述真空泵通过管道与真空吸附机构和真空吸附传送带连接，该管道上设有控制阀，用于控制真空泵的电气；所述真空吸附传送带的左右两侧设有喷嘴。本发明借助空气压力和皮带的粘连力，在不损伤硅片的情况下，对上下两层硅片进行分离；本发明操作简单，解决了人工分片，效率低，工时长且产品不合格率高的难题。
Description
技术领域
本发明涉及一种制绒分片装置，具体涉及单面制绒分片装置，属于光伏设备制绒的技术领域。
背景技术
制绒，是光伏行业术语，处理太阳能级硅片的一种工艺方法，硅太阳能电池片生产的一道工序。
传统技术中，单面制绒需要将两片硅片的非制绒面叠加之后放在片盒的同一分格之中，然后进入制绒工序。对硅片进行单面制绒之后，为了不损伤制绒面，又需要将两片分开进入下一道工序。传统采用人工分片，效率低，工时长且产品的不合格率高。
发明内容
本发明的目的是提供一种可以对硅片在单面制绒后，能顺利分片，提高工期且合格率高的单面制绒分片装置。
为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是提供了单面制绒分片装置，包括分片平台、真空吸附机构、真空吸附传送带、真空泵及前输送带；所述分片平台上设有真空吸附机构，所述分片平台与真空吸附机构之间设有真空吸附传送带，所述真空泵通过管道与真空吸附机构和真空吸附传送带连接；所述真空吸附传送带向后运动与后输送带对接；打开真空泵后，真空吸附机构和真空吸附传送带的真空管路工作，将硅片放置在真空吸附传送带上，当制绒后双层的硅片通过真空吸附传送带输送至真空吸附机构的工位时，上层的硅片被真空吸附机构吸附，下层的硅片被真空吸附传送带吸附，并通过真空吸附传送带继续带动向后输送，直至传送至对接的后输送带上，此时真空吸附机构的负压消失，其吸附的上层的硅片脱离吸附，并掉落在真空吸附传送带上，通过向后输送的真空吸附传送带继续往后输送至对接的后输送带，成功将上、下层的硅片剥离；
所述真空泵与真空吸附机构和真空吸附传送带连接的管道上设有控制阀，用于控制真空泵的真空电气；
所述单面制绒分片装置包括一套电气控制系统，电气控制系统与真空管道上的控制阀相连，所有电气通过电气控制系统上的传感器信号来进行控制，当硅片放置在真空吸附传送带上时，传感器给电气控制系统发出信号，电气控制系统给真空管道上的控制阀信号，控制阀打开真空吸附机构和真空吸附传送带的真空管路；
所述真空吸附传送带的左右两侧设有喷嘴，所述喷嘴在上下层的硅片分别被吸附于真空吸附机构与真空吸附传送带时，喷出的水流减弱了硅片之间的相互作用力；
所述真空吸附机构与分片平台之间设有两条真空吸附传送带；
所述分片平台上设有与真空吸附传送带的前端对接的前输送带，硅片通过放置在前输送带，并向后输送至真空吸附传送带上。
优选地，所述真空吸附传送带长度为400mm。
本发明还提供了一种实施单面制绒分片装置的方法，打开电气控制系统，将单面制绒的硅片通过分片平台上的前输送带向后运动输送至真空吸附传送带；当硅片输送至真空吸附传送带上时，传感器给电气控制系统发出信号，电气控制系统给真空管道上的控制阀信号，控制阀打开真空吸附机构和真空吸附传送带的真空管路开始工作；当硅片在真空吸附传送带输送至真空吸附机构的工位时，在真空泵的大气压力作用下，此时上层的硅片被真空吸附机构吸附，下层的硅片被吸附在真空吸附传送带上，同时真空吸附传送带左右两侧的喷嘴同时喷出的水流减弱了上下硅片之间的相互作用力，下层的硅片在真空吸附传送带的粘连力的作用下，继续带动向后输送；待下层的硅片输送至与真空吸附传送带对接的后输送带时，真空吸附机构的负压消失，其吸附的上层的硅片脱离吸附，并掉落在真空吸附传送带上，通过向后运动的真空吸附传送带继续往后输送至对接的后输送带，成功将上、下层的硅片剥离。
本发明借助空气压力和皮带的粘连力，在不损伤硅片的情况下，对上下两层硅片进行分离；本发明操作简单，解决了人工分片，效率低，工时长且产品不合格率高的难题。
附图说明
图1为本发明提供的单面制绒分片装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明更明显易懂，兹以优选实施例，并配合附图作详细说明如下。
如图1所示，为本发明提供的单面制绒分片装置，包括分片平台1、真空吸附机构2、真空吸附传送带3、喷嘴4、真空泵5及前输送带6；
所述分片平台1上设有真空吸附机构2，所述分片平台1与真空吸附机构2之间设有两条真空吸附传送带3，所述两条真空吸附传送带3之间的距离根据实际硅片的长宽决定，所述真空吸附传送带3前端与前输送带6对接；所述真空泵5通过管道与真空吸附机构2和真空吸附传送带3连接，该真空管道上设有控制阀，用于控制真空回路；
打开真空管道上的控制阀后，与真空泵5连接的真空吸附机构2和真空吸附传送带3的真空管路工作，将硅片8放置在真空吸附传送带上，当制绒后双层的硅片8通过真空吸附传送带3输送至真空吸附机构2的工位时，上层的硅片8被真空吸附机构2吸附，下层的硅片8被真空吸附传送带3吸附，并通过真空吸附传送带3继续带动向后输送，直至传送至对接的后端的后输送带7上，此时真空吸附机构2的负压消失，其吸附的上层的硅片8脱离吸附，并掉落在真空吸附传送带3上，通过向后运动的真空吸附传送带3继续往后输送至对接的后输送带7，成功将上、下层的硅片8剥离。
进一步，改单面制绒分片装置包括一套电气控制系统，所有电气通过传感器的信号来进行控制，当硅片8放置在真空吸附传送带3上时，传感器给电气控制系统发出信号，系统给真空管道上的控制阀信号，打开真空吸附机构2和真空吸附传送带3的真空管路。
进一步在分片平台1上设有与真空吸附传送带3后端对接的后输送带7；真空吸附传送带3长度为400mm。
根据上述描述，本发明提供的一种单面制绒分片装置的实施方法为：
打开电气控制系统，将单面制绒的硅片8通过分片平台1上的前输送带6向后运动输送至真空吸附传送带3；当硅片8输送至真空吸附传送带3上时，传感器给电气控制系统发出信号，电气控制系统给真空管道上的控制阀信号，控制阀打开真空吸附机构2和真空吸附传送带3的真空管路开始工作；当硅片8在真空吸附传送带3输送至真空吸附机构2的工位时，在真空泵5的大气压力作用下，此时上层的硅片8被真空吸附机构2吸附，下层的硅片8被吸附在真空吸附传送带3上，同时真空吸附传送带3左右两侧的喷嘴4同时喷出的水流减弱了上下硅片8之间的相互作用力，下层的硅片8在真空吸附传送带3的粘连力的作用下，继续带动向后输送；待下层的硅片8输送至与真空吸附传送带3对接的后输送带7时，输送距离大于200mm，当传感器感应到下层的硅片到位时，真空吸附机构2的负压消失，其吸附的上层的硅片8脱离吸附，并掉落在真空吸附传送带3上，通过向后运动的真空吸附传送带3继续往后输送至对接的后输送带7，成功将上、下层的硅片8剥离。
Claims (3)
1.单面制绒分片装置，其特征在于，包括分片平台(1)、真空吸附机构(2)、真空吸附传送带(3)、真空泵(5)及前输送带(6)；所述分片平台(1)上设有真空吸附机构(2)，所述分片平台(1)与真空吸附机构(2)之间设有真空吸附传送带(3)，所述真空泵(5)通过管道与真空吸附机构(2)和真空吸附传送带(3)连接；所述真空吸附传送带(3)向后运动与后输送带(7)对接；打开真空泵(5)后，真空吸附机构(2)和真空吸附传送带(3)的真空管路工作，将硅片(8)放置在真空吸附传送带(3)上，当制绒后双层的硅片(8)通过真空吸附传送带(3)输送至真空吸附机构(2)的工位时，上层的硅片(8)被真空吸附机构(2)吸附，下层的硅片(8)被真空吸附传送带(3)吸附，并通过真空吸附传送带(3)继续带动向后输送，直至传送至对接的后输送带(7)上，此时真空吸附机构(2)的负压消失，其吸附的上层的硅片(8)脱离吸附，并掉落在真空吸附传送带(3)上，通过向后输送的真空吸附传送带(3)继续往后输送至对接的后输送带(7)，成功将上、下层的硅片(8)剥离；
所述真空泵(5)与真空吸附机构(2)和真空吸附传送带(3)连接的管道上设有控制阀，用于控制真空泵(5)的真空电气；
所述单面制绒分片装置包括一套电气控制系统，电气控制系统与真空管道上的控制阀相连，所有电气通过电气控制系统上的传感器信号来进行控制，当硅片(8)放置在真空吸附传送带(3)上时，传感器给电气控制系统发出信号，电气控制系统给真空管道上的控制阀信号，控制阀打开真空吸附机构(2)和真空吸附传送带(3)的真空管路；
所述真空吸附传送带(3)的左右两侧设有喷嘴(4)，所述喷嘴(4)在上下层的硅片(8)分别被吸附于真空吸附机构(2)与真空吸附传送带(3)时，喷出的水流减弱了硅片(8)之间的相互作用力；
所述真空吸附机构(2)与分片平台(1)之间设有两条真空吸附传送带(3)；
所述分片平台(1)上设有与真空吸附传送带(3)的前端对接的前输送带(6)，硅片(8)通过放置在前输送带(6)，并向后输送至真空吸附传送带(3)上。
2.如权利要求1所述的单面制绒分片装置，其特征在于，所述真空吸附传送带(3)长度为400mm。
3.一种实施权利要求1-2任一项所述的单面制绒分片装置的方法，其特征在于，打开电气控制系统，将单面制绒的硅片(8)通过分片平台(1)上的前输送带(6)向后运动输送至真空吸附传送带(3)；当硅片(8)输送至真空吸附传送带(3)上时，传感器给电气控制系统发出信号，电气控制系统给真空管道上的控制阀信号，控制阀打开真空吸附机构(2)和真空吸附传送带(3)的真空管路开始工作；当硅片(8)在真空吸附传送带(3)输送至真空吸附机构(2)的工位时，在真空泵(5)的大气压力作用下，此时上层的硅片(8)被真空吸附机构(2)吸附，下层的硅片(8)被吸附在真空吸附传送带(3)上，同时真空吸附传送带(3)左右两侧的喷嘴(4)同时喷出的水流减弱了上下硅片(8)之间的相互作用力，下层的硅片(8)在真空吸附传送带(3)的粘连力的作用下，继续带动向后输送；待下层的硅片(8)输送至与真空吸附传送带(3)对接的后输送带(7)时，真空吸附机构(2)的负压消失，其吸附的上层的硅片(8)脱离吸附，并掉落在真空吸附传送带(3)上，通过向后运动的真空吸附传送带(3)继续往后输送至对接的后输送带(7)，成功将上、下层的硅片(8)剥离。
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