CN109037301B - 阵列基板及制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示器技术领域，提出一种阵列基板及制作方法、显示装置。该阵列基板包括多个第一像素单元、多个第二像素单元和调节单元。所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构；所述第二像素单元中每一个子像素单元不具有微腔结构，且所述第一像素单元与所述第二像素单元均匀分布于所述阵列基板上；调节单元用于在第一工作模式下控制所述第一像素单元主发光，以及用于在第二工作模式下控制所述第二像素单元主发光。该阵列基板可以兼顾显示器的视角和色域。

Description

阵列基板及制作方法、显示装置
技术领域
本公开涉及显示器技术领域，尤其涉及一种阵列基板及制作方法、显示装置。
背景技术
有机电致发光器(OLED)显示技术相对于液晶显示技术(LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。
相关技术中，有机电致发光器(OLED)显示技术通常通过在有机电致发光器(OLED)中设置微腔结构的方式提高有机电致发光器(OLED)显示技术的色域。
然而，微腔结构同时也会减小有机电致发光器(OLED)的视角。
需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开的目的在于提供一种阵列基板及制作方法、显示装置，进而至少在一定程度上克服相关技术中，有机电致发光器(OLED)显示技术中视角与色域不能兼顾的技术问题。
根据本发明的一个方面，提供一种阵列基板，该阵列基板包括多个第一像素单元、多个第二像素单元以及调节单元。所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构；所述第二像素单元中每一个子像素单元不具有微腔结构，且所述第一像素单元与所述第二像素单元均匀分布于所述阵列基板上；调节单元用于在第一工作模式下控制所述第一像素单元主发光，以及用于在第二工作模式下控制所述第二像素单元主发光。
在本发明的一种示例性实施例中，所述第一像素单元与所述第二像素单元的数量相同，所述第一像素单元与所述第二像素单元间隔分布。
在本发明的一种示例性实施例中，所述第一像素单元主发光时，所述第一像素的亮度与所述第二像素的亮度之比大于3：2且小于4:1；
所述第二像素单元主发光时，所述第一像素的亮度与所述第二像素的亮度之比小于2：3且小于4:1。
在本发明的一种示例性实施例中，所述第一像素单元包括第一子像素、第二像素以及第三子像素。第一子像素设置有第一有机电致发光器，所述第一有机电致发光器的功能层厚度为300-360nmm；第二子像素设置有第二有机电致发光器，所述第二有机电致发光器的功能层厚度为230-300nmnm；第三子像素设置有第三有机电致发光器，所述第三有机电致发光器的功能层厚度为180-240nmnm。
在本发明的一种示例性实施例中，所述第二像素单元包括第四子像素、第五子像素以及第六子像素。第四子像素设置有第四有机电致发光器，所述第四有机电致发光器的功能层厚度为100-140nm；第五子像素设置有第五有机电致发光器，所述第五有机电致发光器的功能层厚度为90-130nm；第六子像素设置有第六有机电致发光器，所述第六有机电致发光器的功能层厚度为80-120nm。
在本发明的一种示例性实施例中，所述第一有机电致发光器、所述第二有机电致发光器、所述第三有机电致发光器、所述第四有机电致发光器、所述第五有机电致发光器、所述第六有机电致发光器均设置于平坦层上；
所述平坦层与所述第一有机电致发光器、所述第二有机电致发光器、所述第三有机电致发光器、所述第四有机电致发光器、所述第五有机电致发光器、所述第六有机电致发光器之间分别设置有预设厚度的垫高层，所述垫高层用于调节与其对应的有机电致发光器中功能层的厚度，其中，垫高层厚度越大功能层厚度越小。
根据本发明的一个方面，提供一种阵列基板的制作方法，该方法包括：
在同一阵列基板上形成第一像素单元和第二像素单元，所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构，所述第二像素单元中每一个子像素单元不具有微腔结构，且所述第一像素单元与所述第二像素单元均匀分布于所述阵列基板上；
在所述阵列基板上设置调节单元，所述调节单元用于在第一工作模式下控制所述第一像素单元主发光，以及用于在第二工作模式下控制所述第二像素单元主发光。
在本发明的一种示例性实施例中，所述在同一阵列基板上形成第一像素单元和第二像素单元包括：
在平坦层上形成多个预设厚度的垫高层；
在每个所述垫高层上形成第一电极层；
在所述平坦层上形成等高的像素界定层；
通过整面涂覆工艺在所述像素界定层内形成空穴注入材料层；
对所述空穴注入材料层进行干燥处理，从而将所述空穴注入材料层形成多个预设厚度的空穴注入层。
在本发明的一种示例性实施例中，所述像素界定层为由疏水材料组成。
在本发明的一种示例性实施例中，所述在平坦层上形成多个预设厚度的垫高层包括：
在所述平坦层上形成垫高材料层；
在所述垫高材料层上形成光刻胶层；
通过半色调掩膜对所述光刻胶层进行曝光、显影，从而分别在每个所述垫高层位置上形成预设厚度的光刻胶层；
对所述垫高材料层和部分所述光刻胶层进行刻蚀，从而形成多个预设厚度的垫高层。
在本发明的一种示例性实施例中，所述在每个所述垫高层上形成第一电极层包括：
在部分所述平坦层和所述垫高层上溅射等厚度的第一电极材料层；
在所述第一电极材料层上涂覆光刻胶层；
对所述光刻胶层进行曝光、显影，从而在所述光刻胶层上形成与所述垫高层对应的图案；
对所述第一电极材料层进行刻蚀，从而在每个所述垫高层上形成第一电极层。
在本发明的一种示例性实施例中，在所述平坦层上形成等高的像素界定层包括：
在部分所述平坦层和所述第一电极层上形成等高度像素定义材料层，所述像素定义材料层由有机光刻胶组成；
通过掩膜版对所述像素定义材料层进行曝光、显影，从而在所述平坦层上形成等高的像素界定层。
根据本发明的一个方面，提供一种显示装置，该显示装置包括上述的阵列基板。
本发明提出一种阵列基板及制作方法、显示装置。该阵列基板包括多个第一像素单元、多个第二像素单元，所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构；所述第二像素单元中每一个子像素单元不具有微腔结构。当观看者正面观看时，调节单元控制第一像素单元主发光，由于所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构，子像素单元具有较高的色域，从而可以提高显示的色域；当观看者侧面观看时，调节单元控制第二像素单元主发光，由于所述第二像素单元中每一个子像素单元不具有微腔结构，子像素单元具有较好的视角，从而可以改善显示的视角。该阵列基板一方面可以根据不同使用情况切换工作模式，从而实现了视角和色域的兼顾；另一方面，该阵列基板结构简单，成本较低。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本公开阵列基板一种示例性实施例中像素单元的分布图；
图2为本公开阵列基板一种示例性实施例中有机电致发光器功能层的结构示意图；
图3为本公开阵列基板的制作方法一种示例性实施例的流程图；
图4为本公开阵列基板的制作方法一种示例性实施例中在同一阵列基板上形成不同预设厚度空穴注入层的制作流程图；
图5-10为本公开阵列基板的制作方法一种示例性实施例中在同一阵列基板上形成不同预设厚度空穴注入层过程不同阶段的结构示意图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而，示例实施例能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施例使得本发明将更加全面和完整，并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。
虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语，例如“高”“低”“顶”“底”“左”“右”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。
用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。
本示例性实施例首先提供一种阵列基板，如图1所示，为本公开阵列基板一种示例性实施例中像素单元的分布图。该阵列基板包括多个第一像素单元P1、多个第二像素单元P2以及调节单元。所述第一像素单元P1中每一个子像素单元具有微腔结构；所述第二像素单元P2中每一个子像素单元不具有微腔结构，且所述第一像素单元与所述第二像素单元均匀分布于所述阵列基板上；调节单元用于在第一工作模式下控制所述第一像素单元主发光，以及用于在第二工作模式下控制所述第二像素单元主发光。其中，调节单元可以通过Mux数据选择器实现第一工作模式和第二工作模式的电流转换。
本示例性实施例中，像素单元可以包括多个子像素单元(例如R、G、B)，每个子像素单元用于发出不同颜色的光(例如，R子像素发出红光；G子像素发出绿光；B子像素发出蓝光)。子像素单元具有微腔结构是指，在每一个子像素单元的电致发光器中，电致发光器的功能层(包括空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层、电子注入层)为预设的厚度，该预设厚度的功能层在电致发光器的阳极与阴极之间形成微腔结构，从而使得只有特定波长的光在符合该微腔结构的谐振模式后，得以从特定的角度射出。例如，R子像素中电致发光器发出的光会在其微腔结构的谐振模式下，将红光对应波长的光从特定的角度射出；G子像素中电致发光器发出的光会在其微腔结构的谐振模式下，将绿光对应波长的光从特定的角度射出；B子像素中电致发光器发出的光会在其微腔结构的谐振模式下，将蓝光对应波长的光从特定的角度射出。
调节单元可以控制阵列基板工作模式的转换，在第一工作模式下，所述第一像素单元主发光；在第二工作模式下，所述第二像素单元主发光。其中，第一像素单元主发光是指第一像素单元的发光亮度大于第二像素单元；第二像素单元主发光是指第二像素单元的发光亮度大于第一像素单元。
本示例性实施例提出一种阵列基板。该阵列基板包括多个第一像素单元、多个第二像素单元，所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构；所述第二像素单元中每一个子像素单元不具有微腔结构。当观看者正面观看时，调节单元控制第一像素单元主发光，由于所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构，子像素单元具有较高的色域，从而可以提高显示的色域；当观看者侧面观看时，调节单元控制第二像素单元主发光，由于所述第二像素单元中每一个子像素单元不具有微腔结构，子像素单元具有较好的视角，从而可以改善显示的视角。该阵列基板一方面可以根据不同使用情况切换工作模式，从而实现了视角和色域的兼顾；另一方面，该阵列基板结构简单，成本较低。
本示例性实施例中，所述第一像素单元主发光可以是所述第一像素的亮度与所述第二像素的亮度之比大于3：2且小于4:1；所述第二像素单元主发光时可以是指所述第一像素的亮度与所述第二像素的亮度之比小于2：3且小于4:1。在上述的亮度比范围下，阵列基板可以兼具较好视角和较高的色域。
本示例性实施例中，如图1所示，所述第一像素单元P1与所述第二像素单元P2的数量可以相同，所述第一像素单元P1与所述第二像素单元P2可以间隔分布。该设置可以使得该阵列基板兼顾色域和视角更加均衡。应该理解的是，在其他示例性实施例中，所述第一像素单元P1与所述第二像素单元P2的数量也可以不相同，例如，第一像素单元P1与第二像素单元P2的数量之比可以为1:2、2:3等，这些都属于本公开的保护范围。
本示例性实施例中，如图2所示，为本公开阵列基板一种示例性实施例中有机电致发光器功能层的结构示意图。电致发光器的功能层可以包括空穴注入层1、空穴传输层2、发光材料层3、电子传输层4、电子注入层5。
本示例性实施例中，所述第一像素单元可以包括第一子像素、第二像素以及第三子像素。第一子像素可以为R子像素，第二子像素可以为G子像素，第三子像素可以为B子像素。第一子像素、第二像素以及第三子像素均具有微腔结构的一种实施方式可以是，第一子像素设置有第一有机电致发光器，所述第一有机电致发光器的功能层厚度为300-360nmnm；第二子像素设置有第二有机电致发光器，所述第二有机电致发光器的功能层厚度为230-300nmnm；第三子像素设置有第三有机电致发光器，所述第三有机电致发光器的功能层厚度为180-240nmnm。
在本发明的一种示例性实施例中，所述第二像素单元包括第四子像素、第五子像素以及第六子像素。第四子像素可以为R子像素，第五子像素可以为G子像素，第六子像素可以为B子像素。第四子像素、第五子像素以及第六子像素均不具有微腔结构的一种实施方式可以是，第四子像素设置有第四有机电致发光器，所述第四有机电致发光器的功能层厚度为100-140nm；第五子像素设置有第五有机电致发光器，所述第五有机电致发光器的功能层厚度为90-130nm；第六子像素设置有第六有机电致发光器，所述第六有机电致发光器的功能层厚度为80-120nm。
本示例性实施例中，第一像素单元和第二像素单元中子像素单元的功能层不尽相同。可以通过调节空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层、电子注入层调节功能层的厚度。本示例性实施例中通过设置不同厚度的空穴注入层来实现不同厚度的功能层。本示例性实施例可以在平坦层上设置不同厚度的垫高层，从而通过涂覆工艺形成不同厚度的空穴注入层。
本示例性实施例还提供一种阵列基板的制作方法，如图3所示，为本公开阵列基板的制作方法一种示例性实施例的流程图。该方法包括：
步骤S1：在同一阵列基板上形成第一像素单元和第二像素单元，所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构，所述第二像素单元中每一个子像素单元不具有微腔结构，且所述第一像素单元与所述第二像素单元均匀分布于所述阵列基板上；
步骤S2：在所述阵列基板上设置调节单元，所述调节单元用于在第一工作模式下控制所述第一像素单元主发光，以及用于在第二工作模式下控制所述第二像素单元主发光。
本示例性实施例中，第一像素单元P1和第二像素单元P2制备中，子像素具有不同厚度的功能层。如图2所示，电致发光器的功能层可以包括空穴注入层1、空穴传输层2、发光材料层3、电子传输层4、电子注入层5。第一像素单元P1和第二像素单元P2中的子像素可以通过在同一阵列基板上设置不同厚度的空穴注入层来实现不同厚度的功能层，从而实现第一像素单元具有微腔结构以及第二像素单元不具有微腔结构。因此，通过制作不同预设厚度的空穴注入层即可实现第一像素单元和第二像素单元的制作。
本示例性实施例中，如图4所示，为本公开阵列基板的制作方法一种示例性实施例中在同一阵列基板上形成不同预设厚度空穴注入层的制作流程图；如图5-10所示，为本公开阵列基板的制作方法一种示例性实施例中在同一阵列基板上形成不同预设厚度空穴注入层过程不同阶段的结构示意图。所述在同一阵列基板上形成第一像素单元和第二像素单元可以包括：
步骤S401：在平坦层上形成多个预设厚度的垫高层；
步骤S402：在每个所述垫高层上形成第一电极层；
步骤S403：在所述平坦层上形成等高的像素界定层；
步骤S404：通过整面涂覆工艺在所述像素界定层内形成空穴注入材料层；
步骤S405：对所述空穴注入材料层进行干燥处理，从而将所述空穴注入材料层形成多个预设厚度的空穴注入层。
本示例性实施例提供了一种在同一阵列基板上形成多个不同预设厚度空穴注入层的制作方法，该制作方法通过在平坦层上设置多个预设厚度垫高层的方式，实现了可以直接通过涂覆工艺直接形成多个不同预设厚度空穴注入层，该方法工序简单，成本较低。
本示例性实施例中，第一子像素中功能层的厚度大于第二子像素中功能层的厚度，第二子像素中功能层的厚度大于第三子像素中功能层的厚度，第三子像素中功能层的厚度大于第四子像素中功能层的厚度，第四子像素中功能层的厚度等于第五子像素中功能层的厚度，第五子像素中功能层的厚度大于第六子像素中功能层的厚度。因此，通过在同一阵列基板上设置不同厚度的空穴注入层来实现不同厚度的功能层时，第一子像素中空穴注入层的厚度大于第二子像素中空穴注入层的厚度，第二子像素中空穴注入层的厚度大于第三子像素中空穴注入层的厚度，第三子像素中空穴注入层的厚度大于第四子像素中空穴注入层的厚度，第四子像素中空穴注入层的厚度等于第五子像素中空穴注入层的厚度，第五子像素中空穴注入层的厚度大于第六子像素中空穴注入层的厚度。以下本示例性实施例仅以形成一个第一像素单元和一个第二像素单元为例进行说明。
在步骤S401中，如图5所示，在平坦层6上形成多个预设厚度的垫高层71、72、73、74、75、76；其中，垫高层71厚度大于垫高层72厚度，垫高层72厚度大于垫高层73厚度，垫高层73厚度大于垫高层74厚度，垫高层74厚度等于垫高层75厚度，垫高层75厚度大于垫高层76厚度。其中，垫高层的预设厚度可以在0-150nm，所述在平坦层上形成多个预设厚度的垫高层可以包括：在所述平坦层上形成垫高材料层；在所述垫高材料层上形成光刻胶层；通过半色调掩膜对所述光刻胶层进行曝光、显影，从而分别在每个所述垫高层位置上形成预设厚度的光刻胶层；对所述垫高材料层和部分所述光刻胶层进行刻蚀，从而形成多个预设厚度的垫高层。应该理解的是，在其他示例性实施例中，在平坦层上形成多个预设厚度的垫高层还有更多的实现方式，例如通过喷墨打印技术在平坦层上形成多个预设厚度的垫高层，这些都属于本公开的保护范围。
在步骤S402中，如图6所示，在每一个垫高层71、72、73、74、75、76上形成等厚度的第一电极层8，本示例性实施例中，第一电极层8可以为阳极层。其中，所述在每个所述垫高层上形成等厚度的第一电极层可以包括：在部分所述平坦层和所述垫高层上溅射等厚度的第一电极材料层；在所述第一电极材料层上涂覆光刻胶层；对所述光刻胶层进行曝光、显影，从而在所述光刻胶层上形成与所述垫高层对应的图案；对所述第一电极材料层进行刻蚀，从而在每个所述垫高层上形成第一电极层。
在步骤S403中，如图7所示，在所述平坦层6上形成等高的像素界定层9。其中，在所述平坦层上形成等高的像素界定层可以包括：在部分所述平坦层和所述第一电极层上形成等高度像素定义材料层，所述像素定义材料层由有机光刻胶组成；通过掩膜版对所述像素定义材料层进行曝光、显影，从而在所述平坦层上形成等高的像素界定层。
在步骤S404中，如图8所示，通过整面涂覆工艺在像素界定层9上涂覆空穴注入材料层10，其中，空穴注入材料层10覆盖素界定层9。由于像素界定层9由疏水材料组成，如图9所示，穴注入材料层10在像素界定层内形成等高的凸型液面。
在步骤S405中，如图10所示，对所述空穴注入材料层10进行干燥处理，从而将所述空穴注入材料层10形成多个预设厚度的空穴注入层111、112、113、114、115、116。其中，空穴注入层111位于垫高层71正上方，空穴注入层112位于垫高层72正上方，空穴注入层113位于垫高层73正上方，空穴注入层114位于垫高层74正上方，空穴注入层115位于垫高层75正上方，空穴注入层116位于垫高层76正上方。由于空穴注入层111、112、113、114、115、116所在的像素界定层9的开口内的容积各不相同，空穴注入层111所在像素界定层9的开口内的容积小于空穴注入层112所在像素界定层9的开口内的容积，空穴注入层112所在像素界定层9的开口内的容积等于空穴注入层113所在像素界定层9的开口内的容积，空穴注入层113所在像素界定层9的开口内的容积小于空穴注入层114所在像素界定层9的开口内的容积，空穴注入层114所在像素界定层9的开口内的容积小于空穴注入层115所在像素界定层9的开口内的容积，空穴注入层115所在像素界定层9的开口内的容积小于空穴注入层116所在像素界定层9的开口内的容积，因此，空穴注入层111的厚度小于空穴注入层112的厚度，空穴注入层112的厚度等于空穴注入层113的厚度，空穴注入层113的厚度小于空穴注入层114的厚度，空穴注入层114的厚度小于空穴注入层115的厚度，空穴注入层115的厚度小于空穴注入层116的厚度。本示例性实施例中，像素界定层的高度以及第一电极层的厚度可以不变，因此，通过调节垫高层的厚度可以实现空穴注入层厚度的调节。
本示例性实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括上述的阵列基板。
本示例性实施例提供的显示装置与上述阵列基板具有相同的技术特征和工作原理，此处不再赘述。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里发明的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未发明的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由所附的权利要求指出。
上述所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中，如有可能，各实施例中所讨论的特征是可互换的。在上面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本发明的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本发明的技术方案而没有特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组件、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本发明的各方面。

Claims (9)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
多个第一像素单元，所述第一像素单元中每一个子像素单元具有微腔结构；
多个第二像素单元，所述第二像素单元中每一个子像素单元均不具有微腔结构，且所述第一像素单元与所述第二像素单元均匀分布于所述阵列基板上；
调节单元，用于在第一工作模式下控制所述第一像素单元主发光，以及用于在第二工作模式下控制所述第二像素单元主发光；
其中，所述第一像素单元主发光时，所述第一像素的亮度与所述第二像素的亮度之比大于3：2且小于4:1；
所述第二像素单元主发光时，所述第一像素的亮度与所述第二像素的亮度之比小于2：3且小于4:1；
其中，所述第一像素单元包括：第一子像素，设置有第一有机电致发光器；第二子像素，设置有第二有机电致发光器；第三子像素，设置有第三有机电致发光器；
所述第二像素的单元包括：
第四子像素，设置有第四有机电致发光器；第五子像素，设置有第五有机电致发光器；第六子像素，设置有第六有机电致发光器；
所述第一有机电致发光器、所述第二有机电致发光器、所述第三有机电致发光器、所述第四有机电致发光器、所述第五有机电致发光器、所述第六有机电致发光器均设置于平坦层上；
所述平坦层与所述第一有机电致发光器、所述第二有机电致发光器、所述第三有机电致发光器、所述第四有机电致发光器、所述第五有机电致发光器、所述第六有机电致发光器之间分别设置有预设厚度的垫高层，所述垫高层用于调节与其对应的有机电致发光器中功能层的厚度，其中，垫高层厚度越大功能层厚度越小；
其中，所述垫高层用于调节与其对应的有机电致发光器中功能层的厚度，包括：
在所述平坦层上设置不同厚度的所述垫高层，从而通过涂覆工艺形成不同厚度的空穴注入层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
所述第一像素单元与所述第二像素单元的数量相同，所述第一像素单元与所述第二像素单元间隔分布。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素单元包括：
所述第一有机电致发光器的功能层厚度为300-360nm；
所述第二有机电致发光器的功能层厚度为230-300nm；
所述第三有机电致发光器的功能层厚度为180-240nm。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第二像素单元包括：
所述第四有机电致发光器的功能层厚度为100-140nm；
所述第五有机电致发光器的功能层厚度为90-130nm；
所述第六有机电致发光器的功能层厚度为80-120nm。
5.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：
在同一阵列基板上形成第一像素单元和第二像素单元，所述第一像素单元中的子像素单元具有微腔结构，所述第二像素单元中的子像素单元不具有微腔结构，且所述第一像素单元与所述第二像素单元均匀分布于所述阵列基板上；
在所述阵列基板上设置调节单元，所述调节单元用于在第一工作模式下控制所述第一像素单元主发光，以及用于在第二工作模式下控制所述第二像素单元主发光；
其中，所述第一像素单元主发光时，所述第一像素的亮度与所述第二像素的亮度之比大于3：2且小于4:1；
所述第二像素单元主发光时，所述第一像素的亮度与所述第二像素的亮度之比小于2：3且小于4:1；
所述在同一阵列基板上形成第一像素单元和第二像素单元包括：
在平坦层上形成多个预设厚度的垫高层；
在每个所述垫高层上形成第一电极层；
在所述平坦层上形成等高的像素界定层；
通过整面涂覆工艺在所述像素界定层内形成空穴注入材料层；
对所述空穴注入材料层进行干燥处理，从而将所述空穴注入材料层形成多个预设厚度的空穴注入层；
所述在平坦层上形成多个预设厚度的垫高层包括：
在所述平坦层上形成垫高材料层；
在所述垫高材料层上形成光刻胶层；
通过半色调掩膜对所述光刻胶层进行曝光、显影，从而分别在每个所述垫高层位置上形成预设厚度的光刻胶层；
对所述垫高材料层和部分所述光刻胶层进行刻蚀，从而形成多个预设厚度的垫高层；
其中，所述第一像素单元包括：第一子像素，设置有第一有机电致发光器；第二子像素，设置有第二有机电致发光器；第三子像素，设置有第三有机电致发光器；
所述第二像素的单元包括：第四子像素，设置有第四有机电致发光器；第五子像素，设置有第五有机电致发光器；第六子像素，设置有第六有机电致发光器；
所述第一有机电致发光器、所述第二有机电致发光器、所述第三有机电致发光器、所述第四有机电致发光器、所述第五有机电致发光器、所述第六有机电致发光器均设置于平坦层上。
6.根据权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述像素界定层为由疏水材料组成。
7.根据权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在每个所述垫高层上形成第一电极层包括：
在部分所述平坦层和所述垫高层上溅射等厚度的第一电极材料层；
在所述第一电极材料层上涂覆光刻胶层；
对所述光刻胶层进行曝光、显影，从而在所述光刻胶层上形成与所述垫高层对应的图案；
对所述第一电极材料层进行刻蚀，从而在每个所述垫高层上形成第一电极层。
8.根据权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述平坦层上形成等高的像素界定层包括：
在部分所述平坦层和所述第一电极层上形成等高度像素定义材料层，所述像素定义材料层由有机光刻胶组成；
通过掩膜版对所述像素定义材料层进行曝光、显影，从而在所述平坦层上形成等高的像素界定层。
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的阵列基板。
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