CN108947206B - 一种玻璃窑炉的气泡聚集引流去除装置 - Google Patents

一种玻璃窑炉的气泡聚集引流去除装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种玻璃窑炉的气泡聚集引流去除装置，所述装置包括：聚集系统(1、2)，用于聚集玻璃液的气泡；引流控制系统(7)，用于控制气泡流向；引流系统(8)，用于收集引流出的玻璃液；和水淬系统(6)，用于对引流出的玻璃液进行水淬。

Description

一种玻璃窑炉的气泡聚集引流去除装置
技术领域
本发明涉及一种玻璃窑炉内玻璃液洁净装置，特别适用于玻璃窑炉澄清部内玻璃液上表面气泡杂物等的清理。
背景技术
传统的玻璃窑炉一般采取耳池去泡方法，对于特种电子玻璃而言，需要的玻璃液质量高，玻璃内的气泡杂质少，因此特种电子玻璃一般采取利用耳池溢流，将玻璃液上表面的气泡杂物等进行清除的方法。但玻璃液在往外大量溢流时需要保持较高温度，就需要利用加热系统进行二次加热；利用耳池溢流需要保持较大的流量，还会浪费大量的优质玻璃液；耳池结构复杂，长时间在玻璃液的侵蚀冲刷及高温烧损情况下的使用，严重影响熔窑的使用寿命。要提玻璃液的质量及降低熔窑的使用风险，就要降低溢流的量及取消耳池结构。因此需要采用直接引流来清除玻璃液表面的气泡及杂物的方法。
在专利文献1中公开了一种用于3D玻璃窑炉耳池的澄清结构，包括两个耳池，在每个耳池内设置有至少一个降温设备，上述降温设备关于玻璃液流向通道的轴线对称。
在专利文献2中公开了一种熔融玻璃的减压脱泡装置，包括减压脱泡槽、上升管和下降管，且具有通过至少2条连接管与所述减压脱泡槽连接的中空结构的气氛控制部，在上述气氛控制部设有用于对该气氛控制部内进行排气而减压的排气口，在上述气氛控制部设有与至少1条所述连接管的关系满足特定条件的第一气体供给管。
在上述专利文献1中涉及的澄清结构耳池侧壁在耳池内安装降温设备，解决了现有安装在耳池上的玻璃液澄清装置结构过于复杂、耗能较大、不利于玻璃液的澄清的问题。然而，该澄清结构仍为溢流方式，仍旧不能在同时有效聚集并引流气泡杂物以及收集处理玻璃液。
在上述专利文献2中提供了一种由过度减压导致的泡层增厚引起的减压脱泡效果的下降得到防止的熔融玻璃的减压脱泡装置。然而，该装置是对整个熔融玻璃进行处理，存在装置过大，能耗大、不够灵活的问题。
而且，以往的玻璃去泡方法存在不能有效地将玻璃液的气泡聚集在引流区前端并引流，以及当气泡随着玻璃液引流出来时，如何进行水淬冷却收集的问题。
现有技术文献
专利文献1CN206645999U公告文本
专利文献2CN 101959807 B公告文本
发明内容
本发明是鉴于现有技术中存在的问题作出的，本发明要解决的技术问题就是：如何将玻璃液表面的气泡杂物有效聚集并引流，该发明专利提供一种玻璃窑炉内气泡杂物聚集方法并设计出一种配套的溢流装置，该装置可以根据生产的需要，随时将气泡杂物聚集并溢流；并且具备在高温环境下长期工作的特性，同时还可以解决熔窑安全等问题。
为了解决上述技术问题，本发明专利采用的技术方案是：
1.一种玻璃窑炉的气泡聚集引流去除装置，其包括：
聚集系统，用于聚集玻璃液的气泡；
引流控制系统，用于控制气泡流向；
引流系统，用于收集引流出的玻璃液；和
水淬系统，用于对引流出的玻璃液进行水淬。
2.根据项1所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述聚集系统为与所述引流控制系统连接的至少2根管道。
3.根据项2所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述管道之间的夹角不小于90°。
4.根据项1～3中任一项所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述引流控制系统包括温度控制系统和负压控制系统。
5.根据项4所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述温度控制系统为至少覆盖一部分所述引流控制系统的水包。
6.根据项5所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述水包覆盖所述引流控制系统的面积小于等于耳池内表面积。
7.根据项4所述的气泡聚集引流去除装置，其中，负压控制系统通过负压气体控制，负压气体为压缩空气。
8.根据项1～7中任一项所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述引流控制系统为带有水包的通道，其与所述聚集系统的管道的夹角不小于90°。
9.根据项1～8中任一项所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述水淬系统位于所述引流控制系统上。
10.根据项1～9中任一项所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述引流系统位于所述引流控制系统的下方，且独立于所述引流控制系统。
11.根据项1～10中任一项所述的气泡聚集引流去除装置，其安装在玻璃窑炉澄清部的耳池中。
本发明的气泡聚集引流去除装置，通过采取将钢管制作为水包形式，用冷却水对装置进行冷却，利用玻璃液表层的气泡随着自然液流，通过装置与玻璃液的温差将气泡聚集在引流区前端，同时在引流控制系统上使用负压引流气泡的方法清除气泡，由此能够将玻璃液表层的气泡聚集在引流区前端并引流。
另外，本发明的气泡聚集引流去除装置对于当气泡随着少量的玻璃液引流出来时，如何进行水淬冷却收集的问题上，在设计上采用了水雾处理，当气泡流出熔窑时，用冷却水形成水雾直接喷洒在玻璃液上面，因玻璃液与冷却水雾存在巨大温差，玻璃液瞬间会被水淬，因此可以大大降低由于引流出来的玻璃液处理难度。
本发明提供的玻璃窑炉的气泡聚集引流去除装置，所述装置包括：聚集系统、引流控制系统、引流系统和水淬系统。通过以上装置，可以根据生产的需要，随时将气泡杂物聚集并溢流；并且具备在高温环境下长期工作的特性，同时还可以解决熔窑安全等问题。
附图说明
图1是表示本发明的气泡聚集引流去除装置在澄清部中的安装状态示意图。
图2是图1中A部的放大图。
图3是本发明的气泡聚集引流去除装置的示意性的各视图，其中，(a)是主视图，(b)是侧视图，(c)是俯视图。
符号说明
1、2聚集系统；3水包出水口；4负压气体进口；5水包进水口；6水淬系统；7引流控制系统；8引流系统；9含有气泡有杂质的废玻璃
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本发明的具体实施例。虽然附图中显示了本发明的具体实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本发明而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本发明，并且能够将本发明的范围完整的传达给本领域的技术人员。
需要说明的是，在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可以理解，技术人员可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名词的差异来作为区分组件的方式，而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包含”或“包括”为一开放式用语，故应解释成“包含但不限定于”。说明书后续描述为实施本发明的较佳实施方式，然所述描述乃以说明书的一般原则为目的，并非用以限定本发明的范围。本发明的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。
图1是表示本发明的气泡聚集引流去除装置在澄清部中的安装状态示意图。其中，图1中表示的是澄清部的耳池，本发明的气泡聚集引流去除装置设置于耳池中，并且大部分处于熔融的玻璃液(图中细阴影线表示的部分)中。如图2所示，本发明的气泡聚集引流去除装置包括聚集系统1、2、引流控制系统7、引流系统8和水淬系统6。引流控制系统包括温度控制系统和负压控制系统，在一个具体的实施方式中，温度控制系统可以为在引流控制系统7上设置的水包，冷却水从水包进水口5进入水包，从水包出水口3排出水包。负压控制系统可以使用负压引流气泡的方法，例如，在引流控制系统7上设置负压气体进口4。由此，通过用冷却水对装置进行冷却，通过装置与玻璃液的温差将气泡聚集在引流区前端，同时在引流控制系统上使用负压引流气泡的方法清除气泡，由此能够将玻璃液的气泡聚集在引流区前端并引流。从而玻璃液的气泡随着自然液流通过聚集系统1、2进入引流控制系统7，并作为含有气泡有杂质的废玻璃9落下到引流系统8中，其中，引流系统8与其他系统相独立，例如位于引流控制系统7的下方。
如图2所示，在引流控制系统7还设置有水淬系统6。由此通过水雾处理，当气泡流出熔窑时，用冷却水形成水雾直接喷洒在玻璃液上面，因玻璃液与冷却水雾存在巨大温差，玻璃液瞬间会被水淬，因此可以大大降低由于引流出来的玻璃液处理难度。
图3是本发明的气泡聚集引流去除装置的示意性的各视图，其中，图3的(a)是主视图，(b)是侧视图，(c)是俯视图。
在一个具体的实施方式中，如图3所示，聚集系统1、2为与引流控制系统7连接的至少2根管道。管道的数量和形状尺寸可以根据情况变通，并没有特别限定，但管道的直径需小于耳池预留孔直径，例如可以为300mm，长度为2500mm，聚集系统1、2的管道之间的夹角为不小于90°的角即可，优选为钝角。聚集系统的管道与引流控制系统7之间的夹角不小于90°的角即可，优选为钝角，例如为120°。这些夹角都可以根据生产工艺和环境的变化，稍做修改调整。由此，能够更容易地聚集玻璃液、特别是玻璃液表层的气泡。
在一个具体的实施方式中，引流控制系统7可以为带有水包的通道，包括温度控制系统和负压控制系统。温度控制系统为至少覆盖一部分引流控制系统7的水包，例如，可以覆盖整个引流系统7或者其他部件，但不限于此，也可以为水包以外的温度控制方法。水包覆盖引流控制系统7的面积比例为小于耳池内表面积即可，水包的使用角度为耳池内夹角。负压控制系统的压力例如可以为8Pa，负压控制系统可以通过负压气体控制，负压气体例如可以为压缩空气。由此，能够更有效地将玻璃液、特别是玻璃液表层的气泡聚集在引流区前端并引流。
在一个具体的实施方式中，水淬系统6位于引流控制系统7的通道上，具体位置为引流系统的上端部。由此从水淬系统6喷出的冷却水形成水雾直接喷洒在玻璃液上面，能够更好地将玻璃液瞬间水淬，从而使引流出来的玻璃液容易处理。
该装置只是表达了一种清除气泡装置的基本结构，但并不限于此，可以根据生产工艺和环境的变化，稍做修改调整。比如可以增大或者缩小气泡聚集水包的区域大小；增大或者减小聚集水包的覆盖面积和水包的使用角度；负压的压力大小等。
尽管以上结合附图对本发明的实施方案进行了描述，但本发明并不局限于上述的具体实施方案和应用领域，上述的具体实施方案仅仅是示意性的、指导性的，而不是限制性的。本领域的普通技术人员在本说明书的启示下和在不脱离本发明权利要求所保护的范围的情况下，还可以做出很多种的形式，这些均属于本发明保护之列。

Claims (4)

1.一种玻璃窑炉的气泡聚集引流去除装置，其安装在玻璃窑炉澄清部的耳池中，其特征在于，所述装置包括：
聚集系统，用于聚集玻璃液的气泡；
引流控制系统，用于控制气泡流向；
引流系统，用于收集引流出的玻璃液；和
水淬系统，用于对引流出的玻璃液进行水淬；
其中，所述引流控制系统包括温度控制系统和负压控制系统；
其中，所述温度控制系统为至少覆盖一部分所述引流控制系统的水包；
其中，所述聚集系统为与所述引流控制系统连接的至少2根管道；
其中，所述引流控制系统为带有水包的通道，其与所述聚集系统的管道的夹角不小于90°；
其中，所述水淬系统位于所述引流控制系统上；
其中，所述引流系统位于所述引流控制系统的下方，且独立于所述引流控制系统。
2.根据权利要求1所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述管道之间的夹角不小于90°。
3.根据权利要求1所述的气泡聚集引流去除装置，其中，所述水包覆盖所述引流控制系统的面积小于耳池内表面积。
4.根据权利要求1所述的气泡聚集引流去除装置，其中，负压控制系统通过负压气体控制，负压气体为压缩空气。
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