CN108878477A - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

公开了可以实现工艺简化和成本降低的显示装置。在具有触摸传感器的显示装置中，触摸传感器被布置在布置为覆盖发光元件的封装单元上，并且包括光敏材料和黑色颜料的减反射膜被布置在连接至触摸传感器的布线以及被布置为在触摸传感器中包括的复数个导电层中的最上层的导电层上。由此，可以通过减反射膜改善外部光的可视性，并且触摸电极被布置在封装单元上而没有单独的附接工艺，并且因此可以实现显示装置的工艺简化和成本降低。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2017年5月12日提交的韩国专利申请第10-2017-0059426号的权益，其通过引用并入本文如同在本文中完全阐述一样。
技术领域
本发明涉及显示装置，并且更具体地涉及可以实现工艺简化和成本降低的显示装置。
背景技术
触摸屏是输入设备，通过该输入设备，可以通过利用人手或物品选择显示在显示装置的屏幕上的指令来输入用户命令。也就是说，触摸屏将直接接触人手或物品的接触位置转换成电信号，并接收在接触位置处选择的指令作为输入信号。这样的触摸屏可以替代连接至显示装置并因此工作的单独的输入设备，例如键盘或鼠标，并且因此触摸屏的使用范围趋于逐渐扩展。
通常，触摸屏通过粘合剂附接至诸如液晶显示面板或有机电致发光二极管显示面板之类的显示面板的前表面。在这种情况下，由于触摸屏被单独制造并且然后附接至显示面板的前表面，所以添加了附接工艺，因此整个工艺复杂并且成本增加。
发明内容
因此，本发明涉及一种显示装置，其基本上消除了由于相关技术的限制和缺点而导致的一个或更多个问题。
本发明的一个目的是提供一种可以实现工艺简化和成本降低的显示装置。
本发明的另外的优点、目的和特征将在下面的描述中部分阐述，并且对于本领域的普通技术人员而言在研究以下内容时将部分地变得明显，或者可以根据本发明的实践习得。本发明的目的和其他优点可以通过书面说明书及其权利要求以及附图中特别指出的结构来实现和获得。
为了实现这些目的和其他优点，并根据本发明的目的，如在本文实施和广泛描述的那样，在具有触摸传感器的显示装置中，触摸传感器被布置在布置为覆盖发光元件的封装单元上，并且包括光敏材料和黑色颜料的减反射膜被布置在连接至触摸传感器的布线以及被布置为在触摸传感器中包括的复数个导电层中的最上层的导电层上。由此，通过减反射膜改善外部光的可视性，并且触摸电极被布置在封装单元上而没有单独的附接工艺，并且因此实现显示装置的工艺简化和成本降低。
应当理解，本发明的上述一般描述和以下详细描述都是示例性和解释性的，并且旨在提供对所要求保护的本发明的进一步解释。
附图说明
包括附图以提供对本发明的进一步理解并且附图被并入本申请中并且构成本申请的一部分，附图示出了本发明的实施方案并且与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：
图1是示出根据本发明的一个实施方案的具有触摸传感器的有机发光显示装置的透视图；
图2是示出图1所示的有机发光显示装置的平面图；
图3是沿着线I-I’和II-II’截取的图2所示的有机发光显示装置的截面图；
图4是示出在图3中示出的触摸电极的另一实施方案的截面图；
图5是示出在图3中示出的触摸焊盘的另一实施方案的截面图；
图6是示出在图3中示出的抗反射层的另一实施方案的截面图；
图7A至图7D是示出制造图3所示的有机发光显示装置的方法的截面图；
图8是示出根据本发明的另一实施方案的具有触摸传感器的有机发光显示装置的截面图；以及
图9A和图9B是示出根据本发明的具有触摸传感器的有机发光显示装置的另一种类型的桥的平面图和截面图。
具体实施方式
现在将详细参考本发明的优选实施方案，其实施例在附图中示出。
图1是示出根据本发明的一个实施方案的具有触摸传感器的有机发光显示装置的透视图。
图1中所示的有机发光显示装置通过感测在触摸时段期间由于用户触摸通过图2所示的触摸电极152e和154e而引起的互电容Cm(触摸传感器)的变化，来感测是否发生用户触摸以及触摸位置。此外，图1中所示的有机发光显示器通过包括发光元件120的单位像素来显示图像。单位像素包括红(R)色子像素PXL、绿(G)色子像素PXL和蓝(B)色子像素PXL，或者包括红(R)色子像素PXL、绿(G)色子像素PXL、蓝(B)色子像素PXL和白色(W)子像素PXL。
为此，图1中所示的有机发光显示器包括在基板111上以矩阵形式布置的复数个子像素PXL、布置在子像素PXL上的封装单元140以及布置在封装单元140上的互电容Cm。
每个子像素PXL包括像素驱动电路和连接至像素驱动电路的发光元件120。
像素驱动电路包括开关晶体管T1、驱动晶体管T2和存储电容器Cst。
当扫描脉冲被提供给扫描线SL时，开关晶体管T1导通并且因此将提供给数据线DL的数据信号提供给存储电容器Cst和驱动晶体管T2的栅电极。
响应于提供给驱动晶体管T2的栅电极的数据信号，驱动晶体管T2控制从高电压(VDD)供应线提供到发光元件120的电流I，由此调节从发光元件120发射的光的量。此外，即使开关晶体管T1截止，驱动晶体管T2也通过充载存储电容器Cst的电压来提供正常电流直到提供下一帧的数据信号，并且因此发光元件120保持发光。
这种驱动薄膜晶体管T2(在图3中由130表示)如图3中示例性所示包括：栅电极132、有源层134以及源电极136和漏电极138。栅电极132与有缘层134交叠并且在其间设置有栅极绝缘膜118。源电极136和漏电极138形成在层间绝缘膜114上并接触有源层134。在缓冲层112上的有源层134由非晶半导体材料、多晶半导体材料和氧化物半导体材料中的至少一种形成。这里，缓冲层112布置在有源层134与基板111之间，并且防止来自基板111的杂质被引入到有源层134中。层间绝缘膜114布置在源电极136和漏电极138与栅电极132之间，并且因此将源电极136和漏电极138与栅电极132彼此电绝缘。
发光元件120包括阳极122、形成在阳极122上的至少一个发光堆叠体124以及形成在至少一个发光堆叠体124上的阴极126。
阳极122导电地连接至通过穿过保护膜116形成的像素接触孔露出的驱动晶体管130的漏电极138。这里，在源电极136和漏电极138与发光元件120之间的保护膜116由无机绝缘材料或有机绝缘材料形成。
该至少一个发光堆叠体124形成在由堤部128提供的发光区的阳极122上。该至少一个发光堆叠体124通过按照正常顺序或相反顺序在阳极122上堆叠空穴相关层、有机发光层以及电子相关层而形成。此外，至少一个发光堆叠体124可以包括彼此相对设置的第一发光堆叠体和第二发光堆叠体，其间设置有电荷产生层CGL。在这种情况下，第一发光堆叠体和第二发光堆叠体中的一者的有机发光层产生蓝光，而第一发光堆叠体和第二发光堆叠体中的另一者的有机发光层产生黄绿光，因此，通过第一发光堆叠体和第二发光堆叠体产生白光。由至少一个发光堆叠体124产生的白光入射到位于发光堆叠体124上或下方的滤色器(未示出)，从而实现彩色图像。否则，在没有单独的滤色器的情况下，每个发光堆叠体124可以生成对应于每个子像素的彩色光，从而实现彩色图像。也就是说，红色(R)子像素的发光堆叠体124可以产生红光，绿色(G)子像素的发光堆叠体124可以产生绿光，以及蓝色(B)子像素的发光堆叠体124可以产生蓝光。
阴极126形成为与阳极122相对，其间设置有至少一个发光堆叠体124，并且阴极126连接至低电压(VSS)供应线。
封装单元140防止外部水分或氧气渗入易受外部水分或氧气影响的发光元件120中。为此，封装单元140包括复数个无机封装层142和146以及布置在无机封装层142和146之间的有机封装层144，并且无机封装层146被布置为最上层。这里，封装单元140包括至少两个无机封装层142和146以及至少一个有机封装层144。在本发明中，将示例性地描述封装单元140的结构，其中有机封装层144布置在第一无机封装层142和第二无机封装层146之间。
第一无机封装层142形成在设置有形成在上面的阴极126的基板111上，从而位于发光元件120附近。这种第一无机封装层142由可以在低温下沉积的无机绝缘材料形成，例如硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)、氮氧化硅(SiON)或氧化铝(Al2O3)。由于第一无机封装层142在低温气氛中沉积，所以可以防止在第一无机封装层142的沉积过程期间对易受高温气氛影响的发光堆叠体124的损坏。
有机封装层144用作缓冲，以抑制根据有机发光显示装置的弯曲的各个层之间的应力，并且增强有机发光显示装置的平坦化性能。有机封装层144由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯或碳氧化硅(SiOC)的有机绝缘材料形成。
第二无机封装层146形成为覆盖有机封装层144的上表面和侧表面以及通过有机封装层144露出的第一无机封装层142的上表面。从而，第二无机封装层146最小化和防止外部水分或氧气渗透到第一无机封装层142和有机封装层144中。第二无机封装层146由无机绝缘材料形成，例如硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)、氮氧化硅(SiON)或氧化铝(Al2O3)。
触摸感测线154和触摸驱动线152被布置在封装单元140上，从而彼此交叉，其中在其间设置有触摸绝缘膜158。互电容Cm形成在触摸感测线154和触摸驱动线152之间的交叉点处。因此，互电容Cm通过提供到触摸驱动线152的触摸驱动脉冲而被充载有电荷，并且将电荷放电到触摸感测线154，因此用作触摸传感器。
触摸驱动线152包括复数个第一触摸电极152e和导电地连接第一触摸电极152e的第一桥152b。
第一触摸电极152e在第二无机封装层146上以规则间隔在第一方向(即，Y轴方向)上彼此间隔开。每个第一触摸电极152e通过第一桥152b导电地连接至相邻的第一触摸电极152e。
第一桥152b布置在第二无机封装层146上以与第一触摸电极152e共面，并且在没有单独的接触孔的情况下导电地连接至第一触摸电极152e。
触摸感测线154包括复数个第二触摸电极154e和导电地连接第二触摸电极154e的第二桥154b。
第二触摸电极154e在第二无机封装层146上以规则间隔在第二方向(即，X轴方向)上彼此间隔开。每个第二触摸电极154e通过第二桥154b导电地连接至相邻的第二触摸电极154e。以与第一触摸电极152e相同的方式，第二触摸电极154e具有堆叠有第一导电层和第二导电层的结构。
第二桥154b形成在触摸绝缘膜158上并且导电地连接至通过经由触摸绝缘膜158形成的触摸接触孔150露出的第二触摸电极154e。以与第一桥152b相同的方式，第二桥154b布置成与堤部128交叠，并且因此可以防止由于第一桥152b和第二桥154b导致的开口率的降低。
第一触摸电极152e和第二触摸电极154e以及第一桥152b中的每一个使用具有高耐腐蚀性和耐酸性以及优异导电性的诸如Al、Ti、Cu和Mo的不透明导电层161形成为具有单层结构或多层结构。第一触摸电极152e和第二触摸电极154e以及第一桥152b中的每一个都包括不透明导电层161和布置在不透明导电层161上或下方的透明导电层163。例如，不透明导电层161具有三层结构，例如Ti/Al/Ti或Mo/Al/Mo，并且铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO)被用作透明导电层163。这里，不透明导电层161可以在第二无机封装层146上形成为网状，如图3中示例性示出的那样，或者可以在透明导电层163上形成为网状，如图4中示例性示出的那样。透明导电层163的电阻和电容通过网状不透明导电层161减小，并且因此可以降低RC时间常数并且可以改善触摸灵敏度。此外，网状不透明导电层161具有非常细的线宽，并且因此可以防止由于网状不透明导电层161导致的开口率和透射率的降低。
包括触摸电极152e和154e以及桥152b和154b的触摸驱动线152和触摸感测线154通过布置在非有源(边框)区中的布线160和触摸焊盘170连接至触摸驱动单元(未示出)。
由此，布线160通过触摸焊盘170将由触摸驱动单元生成的触摸驱动脉冲传输到触摸驱动线152，并且将触摸信号从触摸感测线154传输到触摸焊盘170。
布线160布置在第一触摸电极152e和第二触摸电极154e与触摸焊盘170之间以便连接至第一触摸电极152e和第二触摸电极154e与触摸焊盘170。连接至第一触摸电极152e的布线160在有源区的向上和向下方向中的至少一个方向上延伸并连接至触摸焊盘170，如图2中示例性示出的。连接至第二触摸电极154e的布线160在有源区的向左和向右方向中的至少一个方向上延伸并连接至触摸焊盘170。布线160的布置不限于图2的结构，并且可以根据显示装置的设计规格进行各种改变。
这种布线160可以具有单层结构，如图3中示例性示出的，或者具有多层结构，如图4和图5中示例性示出的。
具有图3中所示的单层结构的布线160由与第二桥154b的材料相同的材料形成，以覆盖封装单元140的侧表面，同时接触封装单元140的侧表面。此外，图3中示出的每个布线160形成为覆盖布置在基板111的外部区域处的第一触摸电极152e和第二触摸电极154e中的每一个的另一侧表面以及上表面的一部分，并因此连接至第一触摸电极152e和第二触摸电极154e中的每一个。此外，图3所示的每个布线160形成为覆盖每个触摸焊盘170的一个侧表面以及上表面的一部分，并因此连接至每个触摸焊盘170。
图4和图5中所示的布线160包括下布线162和上布线164。
下布线162通过与第一桥152b相同的掩模工艺由与第一桥152b的材料相同的材料形成。下布线162形成为覆盖封装单元140的侧表面同时接触封装单元140的侧表面。上布线164通过与第二桥154b相同的掩模工艺由与第二桥154b的材料相同的材料形成。上布线164通过穿过触摸绝缘膜158形成的布线接触孔166接触下布线162，如图4中示例性示出的，或者在没有单独的接触孔的情况下直接接触通过触摸绝缘膜158露出的下布线162，如图5中示例性示出的。这样，在图4和图5中示出的布线160形成为具有多层结构，并且因此可以减小布线160的电阻。此外，即使发生上布线162和下布线164中的一个的断开，触摸驱动脉冲和触摸信号也可以通过其余的布线来传输，因此可以提高可靠性。
具有图4和图5所示的多层结构的每个布线160从布置在基板111的外部区域处的第一触摸电极152e和第二触摸电极154e中的每一个的另一侧表面延伸并且连接至第一触摸电极152e和第二触摸电极154e中的每一个。此外，在图4所示的布线160中，下布线162延伸到基板111的在上布线164外部的边缘区域，并连接至触摸焊盘170。
触摸焊盘170形成为暴露于外部并因此连接至上面安装有触摸驱动单元(未示出)的信号传输膜。触摸焊盘170与连接至数据线、栅极线、低电压电源线和高电压电源线中至少之一的显示焊盘180一起可以布置在基板111的一侧区域和另一侧区域至少之一中，或者触摸焊盘170和显示焊盘180可以布置在非显示区的不同区域中。触摸焊盘170和显示焊盘180的布置不限于图2的结构，并且可以根据显示装置的设计规格进行各种改变。
触摸焊盘170和显示焊盘180布置在选自布置于基板111与封装单元140之间的缓冲层112、层间绝缘膜114和保护膜116中的至少一个绝缘膜上，并且接触该至少一个绝缘膜。例如，触摸焊盘170和显示焊盘180可以布置在层间绝缘膜114上。
布置在层间绝缘膜上的显示焊盘180中的每一个包括显示焊盘电极182和显示盖电极184，如图3中示例性地示出的那样。
显示焊盘电极182被形成为连接至在形成有发光元件120的有源区中的扫描线SL、数据线、低电压(VSS)电源线和高电压(VDD)电源线中至少之一。显示焊盘电极182由与驱动晶体管130(T2)的栅电极132或源电极136和漏电极138中的至少一个的材料相同的材料形成，以便在与栅电极132或源电极136和漏电极138中的至少一个相同的平面上具有单层或多层结构。例如，具有单层结构的显示焊盘电极182由与源电极136和漏电极138的材料相同的材料形成在层间绝缘膜114上，或者由与栅电极132的材料相同的材料形成在基板111上。具有多层结构的显示焊盘电极182包括：由与栅电极132的材料相同的材料形成在基板111上的第一显示焊盘电极(未示出)；以及由与源电极136和漏电极138的材料相同的材料形成在层间绝缘膜114上并且连接至第一显示焊盘电极的第二显示焊盘电极(未示出)。
显示盖电极184布置为覆盖显示焊盘电极182。显示器盖电极184通过与第一桥152b的掩模工艺相同的掩模工艺由与第一桥152b的材料相同的材料形成。也就是说，显示盖电极184包括不透明导电层161和布置在不透明导电层161上或下方的透明导电层163。这里，在显示盖电极184中，具有高耐腐蚀性和耐酸性的透明导电层163可以被布置为最上层。
触摸焊盘170通过与第一桥152b的掩模工艺相同的掩模工艺由与第一桥152b的材料相同的材料形成。也就是说，触摸焊盘170包括不透明导电层161和布置在不透明导电层161上或下方的透明导电层163，如图3和4中示例性地示出的。这里，在触摸焊盘170中，具有高耐腐蚀性和耐酸性的透明导电层163可以布置为最上层。否则，触摸焊盘170可以通过将下布线162的透明导电层163延伸到焊盘区域而形成，如图4中示例性示出的。
这样，在根据本发明的触摸传感器中包括的复数个导电层中，布置为最上层的第二桥154b和布线160使用选自Ti、Ta、Cr、Mo、MoTi、Al、Ag、Au和Co中的至少一种而具有单层或多层结构。例如，第二桥154b和布线160具有三层结构，例如Ti/Al/Ti或Mo/Al/Mo。为了防止由第二桥154b和布线160反射外部光引起的可视性的降低，在第二桥154b和布线160上布置减反射膜110。减反射膜110由包含黑色颜料的光敏材料形成。即使第二桥154b和布线160不是由高价格的低反射率金属形成，包含在减反射膜110中的黑色颜料也可以减少外部光的反射。
这样的减反射膜110被形成为具有图5和6中所示的任何一种结构。
图5中所示的减反射膜110形成在第二桥154b和布线160上，从而具有与第二桥154b和布线160的线宽相同的线宽。因此，减反射膜110可以防止外部光通过第二桥154b和布线160的上表面进行反射。
图6所示的减反射膜110形成在第二桥154b和布线160上，以具有比第二桥154b和布线160的线宽大的线宽。也就是说，图6所示的减反射膜110形成为覆盖第二桥154b和布线160的侧面和上表面。因此，减反射膜110可以防止通过第二桥154b和布线160的侧表面和上表面反射外部光。
图7A至图7D是示出制造图3所示的有机发光显示装置的方法的截面图。
首先，通过沉积工艺，在设置有形成在上面的开关晶体管T1、驱动晶体管130(T2)、发光元件120、显示焊盘电极182以及封装单元140的基板111的整个表面上沉积不透明导电层161和透明导电层163。之后，通过光刻工艺和蚀刻工艺对不透明导电层161和透明导电层163进行图案化，从而形成第一触摸电极152e和第二触摸电极154e、第一桥152b、触摸焊盘170以及显示盖电极184，如在图7A中示例性地示出的那样。这里，第一触摸电极152e和第二触摸电极154e、第一桥152b、触摸焊盘170和显示盖电极184中的每一个具有其中不透明导电层161和透明导电层163以正常顺序或相反顺序堆叠的结构。
此后，在设置有形成在上面的第一触摸电极152e和第二触摸电极154e、第一桥152b、触摸焊盘170和显示盖电极184的基板111上沉积无机或有机绝缘材料，从而形成触摸绝缘膜158，如图7B中示例性示出的。此处，可以使用诸如SiNx、SiON或SiOx的无机膜或诸如丙烯酸类有机膜、环氧类有机膜、聚对二甲苯-C、聚对二甲苯-N、聚对二甲苯-F或硅氧烷类有机膜的有机膜作为触摸绝缘膜158。之后，通过光刻工艺和蚀刻工艺来图案化触摸绝缘膜158，由此形成触摸接触孔150。
此后，在设置有触摸接触孔150的触摸绝缘膜158的整个表面上沉积最上面的导电层113，如图7C中示例性地示出的。在最上面的导电层113的整个表面上沉积包括黑色颜料的光敏膜，然后通过光刻工艺进行图案化，由此形成减反射膜110。利用减反射膜110作为掩模通过蚀刻工艺来图案化最上面的导电层113，从而形成第二桥154b和布线160，如图7D中示例性示出的那样。在形成第二桥154b和布线160之后，通过固化工艺，通过回流，图5所示的减反射膜110被形成为覆盖第二桥154b和布线160的侧表面。在固化工艺期间，减反射膜110在不损坏发光元件120的温度下固化。
这样，在本发明中，包括光敏材料和黑色颜料的减反射膜110被布置在作为在触摸传感器中包括的复数个导电层中的最上层的第二桥154b和布线160上。因此，即使不使用高价格的低反射金属，减反射膜110也可以防止外部光线的反射，因此可以提高可视性。此外，由于减反射膜110保护第二桥154b和布线160，所以不需要用于保护第二桥154b和布线160的另外的结构，从而简化了显示装置的结构和制造工艺。此外，在使用包括光敏材料和黑色颜料的减反射膜110对第二桥154b和布线160进行图案化之后，减反射膜110未被剥离并保留在第二桥154b和布线160上。因此，不需要形成第二桥154b和布线160的另外的工艺，并且可以省略减反射膜110的剥离工艺，并且因此简化了显示装置的制造工艺。
图8是示出根据本发明的另一实施方案的具有触摸传感器的有机发光显示装置的截面图。
除了还设置有布置在封装单元140与触摸电极152e和154e之间的滤色器192之外，图8所示的有机发光显示装置包括与图3所示的有机发光显示装置的要素相同的要素。因此，将省略根据本实施方案的有机发光显示装置的与根据前一实施方案的有机发光显示装置的要素相同的要素的详细描述。
滤色器192形成在每个触摸驱动线152和触摸感测线154与发光元件120之间。每个触摸驱动线152和触摸感测线154与发光元件120之间的距离通过滤色器192增加。因此，在每个触摸驱动线152和触摸感测线154与发光元件120之间形成的寄生电容器的电容值可以被最小化，并且因此，可以防止由于每个触摸驱动线152和触摸感测线154与发光元件120之间的耦合产生的每个触摸驱动线152和触摸感测线154与发光元件120之间的相互影响。此外，滤色器192可防止在触摸感测线154和触摸驱动线152的制造工艺期间使用的液体化学品(显影溶液或蚀刻溶液)或外部水分渗入发光堆叠体124。因此，滤色器192防止易受液体化学品或水分影响的发光堆叠体124的损坏。此外，尽管图8示例性地示出了触摸电极152e和154e布置在滤色器192上，但是滤色器192可以布置在触摸电极152e和154e上。在这种情况下，触摸电极152e和154e布置在滤色器192与封装单元140之间。
黑矩阵194布置在滤色器192之间。黑矩阵194用于将各个子像素区彼此分开并防止相邻子像素区之间的光学相干性和光泄漏。黑矩阵194由具有高阻抗的黑色绝缘材料形成，或者通过堆叠选自红色(R)滤色器、绿色(G)滤色器和蓝色(B)滤色器的至少两种滤色器形成。另外，在设置有形成在上面的滤色器192和黑矩阵194的基板111上形成有触摸平坦化膜196。触摸平坦化膜196使设置有形成在上面的滤色器192和黑矩阵194的基板111平坦。
根据本发明的第一桥152b和第二桥154b可以包括复数个狭缝153，如图9A和图9B中示例性示出的。与图3中所示的无狭缝的第二桥154b相比，在图9A和图9B中示出的包括狭缝153的第二桥154b可以具有减小的面积。因此，可以减少第二桥154b对外部光的反射，并且因此可以防止可视性的降低。在这种情况下，布置在第二桥154b上的减反射膜110形成为具有与第二桥154b的狭缝153的形状相同的形状的狭缝。
此外，尽管本发明示例性地描述了其中第一触摸电极152e和第二触摸电极154e以及第一桥152b中的每一个都包括网状不透明导电层161的结构，但是第一触摸电极152e和第二触摸电极154e以及第一桥152b中的每一个可以包括仅透明导电层163而没有网状不透明导电层161。
根据以上描述明显的是，在根据本发明的显示装置中，包括黑色颜料的减反射膜可以防止外部光的反射，并且因此可以提高可视性。此外，由于减反射膜保护第二电桥和布线，因此不需要用于保护第二电桥和布线的另外的结构，从而简化了显示装置的制造工艺。此外，省略了减反射膜的剥离工艺，从而简化了显示装置的制造工艺。此外，虽然触摸屏通过粘合剂附接至常规有机发光显示装置，但是触摸电极布置在根据本发明的显示装置的封装单元上，而没有单独的附接工艺，并且因此可以实现工艺简化和成本降低。
对于本领域技术人员来说明显的是，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以在本发明中进行各种修改和变化。因此，本发明旨在覆盖落入所附权利要求及其等同物范围内的本发明的修改和变化。

Claims (12)

1.一种显示装置，包括：
布置在基板上的发光元件；
布置在所述发光元件上的封装单元；
布置在所述封装单元上的复数个触摸传感器；
分别连接至所述触摸传感器的布线；以及
减反射膜，其布置在作为包括于所述触摸传感器中的复数个导电层中的最上层布置的导电层和所述布线上并且包括光敏材料和黑色颜料。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述触摸传感器包括布置在所述封装单元上以彼此交叉的触摸感测线和触摸驱动线，
其中所述触摸驱动线中的每一个包括：
在所述封装单元上沿第一方向布置的第一触摸电极；以及
配置成连接所述第一触摸电极的第一桥，
其中所述触摸感测线中的每一个包括：
第二触摸电极，其沿与所述第一方向交叉的第二方向布置；以及
第二桥，其被配置成连接所述第二触摸电极并且被布置为所述触摸传感器的最上层。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述减反射膜布置在所述第二桥和所述布线上，以具有跟所述第二桥和所述布线相同的线宽。
4.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述减反射膜布置在所述第二桥和所述布线上，以具有比所述第二桥和所述布线大的线宽。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述减反射膜布置在所述第二桥和所述布线上，以覆盖所述第二桥和所述布线的侧表面和上表面。
6.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第二桥和所述布线中的每一个使用选自Ti、Ta、Cr、Mo、MoTi、Al、Ag、Au和Co中的至少一种而具有单层或多层结构。
7.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述第二桥和所述布线中的每一个具有Ti/Al/Ti的多层结构。
8.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述第一桥和所述第二桥中的至少之一包括至少一个狭缝。
9.根据权利要求1所述的显示装置，还包括布置在所述封装单元与所述触摸传感器之间的滤色器。
10.根据权利要求1所述的显示装置，还包括布置在所述触摸传感器上的滤色器，
其中所述触摸传感器布置在所述滤色器与所述封装单元之间。
11.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
布置在所述基板与所述封装单元之间的至少一个绝缘膜；
连接至所述布线的复数个触摸焊盘；
连接至所述发光元件的薄膜晶体管；以及
连接至所述薄膜晶体管并且布置在所述基板上的显示焊盘，
其中所述布线接触所述封装单元的侧表面，并且所述显示焊盘和所述触摸焊盘接触所述至少一个绝缘膜。
12.根据权利要求11所述的显示装置，还包括：
布置在所述薄膜晶体管的有源层与所述基板之间的缓冲层；
布置在所述薄膜晶体管的栅电极与源电极和漏电极之间的层间绝缘膜；以及
布置在所述源电极和所述漏电极与所述发光元件之间的保护膜，
其中所述至少一个绝缘膜包括所述缓冲层、所述层间绝缘膜和所述保护膜中至少之一。
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