CN108707920A - 一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法 - Google Patents

一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法,该方法包括以下步骤:A,制备包含有锰盐和酸的电解液,其中锰盐和酸的阴离子相同,阴离子包括硫酸根离子或氯离子中的任一种;B,将电解液、阴极和阳极放入电解槽中,在阳极上施加光照,采用恒电流电解沉积二氧化锰,其中,光照中含有能量大于或等于0.58eV的光子;C,将二氧化锰从阳极上剥落,并将剥落后的二氧化锰依次进行粉碎、洗涤、中和以及干燥,得到二氧化锰产品。本发明提出的技术方案降低了电极欧姆压降、反应阻抗、槽电压和电解温度,提升了可采用的阳极电流密度,且槽电压不会因此升高,进而提升沉积速率和产能,降低能耗。

Description

一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法
技术领域
本发明涉及光电冶金领域,尤其涉及一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法。
背景技术
二氧化锰是一种半导体氧化物,凭借其高的放电率和使用寿命,作为电极材料被应用在碱锰电池、锌锰电池、镁锰电池、锂锰电池等化学电源中;近年来,二氧化锰超级电容器等新型电源也受到科研人员的广泛关注;二氧化锰还可以应用于催化剂、氧化剂、陶瓷和玻璃等方面。
二氧化锰可以分为天然二氧化锰(NMD)、电解二氧化锰(EMD)和化学二氧化锰(CMD)三大类。过去我国曾大量使用天然二氧化锰,但是长年累月的开采导致锰矿石日趋枯竭,天然二氧化锰逐渐的被电解二氧化锰(EMD)和化学二氧化锰(CMD)所取代。其中,电解二氧化锰(EMD)具有较高的纯度(90%以上),是γ晶型(有较高的电化学容量),而且制备设备简单,操作安全,易处理,因此受到更多人的重视。
电解制备二氧化锰的过程主要分为三步:制液、电解和电解后处理。原料可以是氧化锰矿或碳酸锰矿。理论上任何二价锰盐均可作为电解质在合适的电极上产出二氧化锰。目前高温电解法是世界各国生成二氧化锰的主要方法,一般电解条件如下:电解液浓度:MnSO490~110g/L,H2SO435~40g/L;电解温度大于95℃;阳极电流密度依赖于所选用的电极材料,最大不超过100A/m2,电流效率为90%左右。
在此条件下,可得到光泽致密的γ型MnO2。但是提取过程存在很多问题,如槽电压大(2.5~3.0V),能耗高(达2000~2500kWh·t-1),阳极电流密度低,沉积速度慢等,这些问题主要源于二氧化锰的半导体性质。
在电解过程中,当阳极上沉积一层较厚的二氧化锰时,由于半导体的导电性差,电极的电阻会迅速上升,且在半导体和电解液的接触面,会形成一个空间电荷区,从而导致槽电压的升高,且只能采用较低的电流密度进行电解。有研究表明,在电解二氧化锰过程中,电解持续35h后,由于阳极沉积了一层完全覆盖电极的较厚二氧化锰层,导致阳极电位的提升,槽电压会上升0.5~0.6V;在电解过程中,需要加热到95℃以上,从而提升半导体MnO2的导电率,以强化电沉积过程,这样加大了能耗,也使得工作环境恶化。
二氧化锰作为一种应用广泛的半导体氧化物,需求量只会越来越高,若能高效、低能耗、低污染地制备二氧化锰,解决电解制备过程中存在的相关问题,将对资源利用、环境保护产生巨大效益。
发明内容
本发明旨在至少解决上述技术问题之一。
为此,本发明的目的在于提出一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法,以提高生产效率,降低生产成本。
为了实现上述目的,本发明提出的一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法包括以下步骤:
A,制备包含有锰盐和酸的电解液,其中锰盐和酸的阴离子相同,阴离子包括硫酸根离子或氯离子中的任一种;
B,将电解液、阴极和阳极放入电解槽中,在阳极上施加光照,采用恒电流电解沉积二氧化锰,其中,光照中含有能量大于或等于0.58eV的光子;
C,将二氧化锰从阳极上剥落,并将剥落后的二氧化锰依次进行粉碎、洗涤、中和以及干燥,得到二氧化锰产品。
优选地,施加在阳极上的光照强度为10~3000mW/cm2
优选地,电解过程前期光照强度采用10~1000mW/cm2,后期光照强度采用1000~3000mW/cm2
优选地,用于照射阳极的光源选自太阳光、氙灯、卤钨灯、LED灯、金卤灯、汞灯、激光或白炽灯中的至少一种,照射方式为反射或直射。
优选地,所述步骤B中,电解温度为20~95℃,阳极电流密度为50~500A/m2,电解沉积时间为10~360h。
优选地,所述电解液包括85~105g/LMnSO4和35~40g/LH2SO4,或者,
110~130g/LMnCl2和10~20g/LHCl。
优选地,所述阳极为钛板、钛基二氧化锰涂层、钛合金板中的一种。
优选地,所述阴极为栅栏状铜阴极、石墨、不锈钢中的一种。
优选地,所述步骤C中,采用5~10%NaOH溶液进行中和,温度为65~75℃,中和时间为0.5~2h。
本发明采用的技术原理如下:
在电解槽内,用光线照射阳极,通过光电化学沉积,在阳极上得到二氧化锰。若照射阳极的光线中含有能量大于或者等于γ型MnO2带隙宽度(0.58eV)的光子,则半导体二氧化锰会被激发电子空穴对,实现以下作用:载流子浓度提升,电导率增加,降低槽电压;且随光照强度增大,光线中光子数增多,电子空穴对激发也会增强,进一步增加电导率;光生空穴从半导体流向电解液(即电解液失去电子),促进阳极氧化反应的进行,强化电解过程,改善电流效率;可以采用较高阳极电流密度进行电解,提升单位时间内的产量,槽电压也不会因为阳极电流密度的升高而变大;降低电解所需温度,降低能耗。
本发明与现有的电解制备二氧化锰的技术相比具有以下有益效果:
通过在电解二氧化锰过程中在阳极上施以光照,具有半导体性质的二氧化锰的导电性会变好,有效的降低了槽电压,同时光生空穴也促进了阳极氧化反应的进行,所需电解温度比传统高温电解二氧化锰低。本发明提出的技术方案降低了电解过程能耗,提升了电解速度,使资源得到充分利用。
具体实施方式
下面通过实施例具体说明本发明的实施方式,以下实施例旨在说明本发明而不是对本发明保护范围进一步限定。
实施例1
取经过除杂工艺的MnSO4-H2SO4浸出液,其中MnSO4含量为85g/L,H2SO4含量为35g/L,阳极采用钛基二氧化锰涂层,阴极采用石墨,两极距离为10cm,控制阳极电流密度为200A/m2,电解液温度90℃,以1000mW/cm2氙灯为光源直射到阳极。电解过程持续测试槽电压大小,前30h槽电压保持稳定2V,30h~35h内逐渐上升至2.3V,后保持稳定,此时提升光照强度到2000mW/cm2,槽电压得到降低,稳定处于2.1V,电解一共持续50h。电解完成之后经过后处理得到纯度大于95%的二氧化锰,此方法有效降低了电解槽电压,能耗为1600kWh·t-1,较传统工艺降低20%。
实施例2
取适量菱锰矿碾磨至粉粒状,加入98%工业浓硫酸反应3小时,使大部分矿物溶解,过滤后,加入0.6g/L的MnS溶液除去大部分的杂质重金属离子。除去杂质后的溶液为配置好的电解液,其中MnSO4含量为90g/L,H2SO4含量为38g/L,锰损失低于3%,各种重金属杂质含量均在0.5g/L以下。
将上述电解液加入到两电极体系中,阳极采用钛板,阴极采用栅栏状铜阴极,阴阳极之间的距离控制在5cm,控制阳极电流密度为120A/m2,电解液温度80℃,以100-1500mW/cm2(具体为前25h光照强度100mW/cm2,之后1500mW/cm2)氙灯光源透过电解液直接照射到阳极上,保证槽电压2.4V以下,保持恒电流电解沉积120h。取出阳极后将二氧化锰剥除,经过碾磨机磨碎后用40℃去离子水洗涤,再用10%NaOH溶液中和,中和温度65℃,持续1h。最后热水洗涤后干燥,得到二氧化锰产品。
此方法得到的MnO2的纯度≥93%,电解过程中,采用比传统电解更高的阳极电流密度,可以提升单位时间二氧化锰的产量。电解后期电解沉积速度保持稳定,槽电压低于2.4V,能耗为1800kWh·t-1,此方案制备二氧化锰的能耗比传统方法低10%。
实施例3
采用软锰矿和黄铁矿,硫酸直接浸出得到电解液,具体将软锰矿和黄铁矿粉碎至0.124mm占80%以上,浸出酸矿比为0.5:1,软锰矿:黄铁矿为1:0.3,浸出温度为90℃。过滤后,加入BaS使Cu2+、Co2+、Ni2+、Pb2+与S2-生成硫化物沉淀而除去,最后得到的浸出液(也即电解液)含H2SO440g/L;MnSO4105g/L。
将上述电解液加入到两电极体系中,阳极采用钛合金板,阴极采用碳棒阴阳极之间的距离为10cm,控制阳极电流密度为320A/m2,电解液温度60℃,以200-3000mW/cm2(具体为前20h光照强度200mW/cm2,之后3000mW/cm2)太阳光为光源,经过镜面反射到电解槽(并采用氙灯作为辅助光源),透过电解液照射到阳极上,保证槽电压2.7V以下,保持恒电流电解沉积200h。取出阳极上的二氧化锰,磨碎用去离子水洗涤后,用8%NaOH溶液中和,中和温度70℃,持续1h。最后用热水洗涤后干燥,得到纯度大于95%的二氧化锰产品。
此方法采用传统“两矿一步”法制备MnSO4电解液,后续电解步骤中,阳极电流密度为200A/m2,槽电压没有因为阳极电流密度升高而增大,电解能耗为2000kWh·t-1,电解速度是传统采用100A/m2阳极电流密度电解的3倍。
实施例4
取经过除杂工艺的MnCl2-HCl浸出液,其中盐酸浓度为10g/L,MnCl2浓度为110g/L,阳极采用钛基二氧化锰涂层,阴极采用不锈钢,两极距离为10cm,控制阳极电流密度为180A/m2,电解液温度45℃,以1000~2500mW/cm2(具体为前30h光照强度1000mW/cm2,之后2500mW/cm2)白炽灯为光源采用镜面反射照射到阳极,保证槽电压3V以下。保持恒电流电解沉积50h。取出阳极上的二氧化锰,磨碎后去离子水洗涤,并用10%NaOH溶液中和,中和温度75℃,持续0.5h。最后用热水洗涤后干燥,得到纯度大于94%的二氧化锰产品。
该方法阳极电流效率超过95%,电解阳极电流密度为180A/m2,电解效率较高,电解液温度45℃,远低于传统氯盐电解制备二氧化锰的电解温度95℃,有效降低了能耗。

Claims (9)

1.一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,包括以下步骤:
A,制备包含有锰盐和酸的电解液,其中锰盐和酸的阴离子相同,阴离子包括硫酸根离子或氯离子中的任一种;
B,将电解液、阴极和阳极放入电解槽中,在阳极上施加光照,采用恒电流电解沉积二氧化锰,其中,光照中含有能量大于或等于0.58eV的光子;
C,将二氧化锰从阳极上剥落,并将剥落后的二氧化锰依次进行粉碎、洗涤、中和以及干燥,得到二氧化锰产品。
2.如权利要求1所述的光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,施加在阳极上的光照强度为10~3000mW/cm2
3.如权利要求2所述的光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,电解过程前期光照强度采用10~1000mW/cm2,后期光照强度采用1000~3000mW/cm2
4.如权利要求3所述的光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,用于照射阳极的光源选自太阳光、氙灯、卤钨灯、LED灯、金卤灯、汞灯、激光或白炽灯中的至少一种,照射方式为反射或直射。
5.如权利要求1-4任一项所述的光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,所述步骤B中,电解温度为20~95℃,阳极电流密度为50~500A/m2,电解沉积时间为10~360h。
6.如权利要求1-4任一项所述的光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,所述电解液包括85~105g/LMnSO4和35~40g/LH2SO4,或者,110~130g/LMnCl2和10~20g/LHCl。
7.如权利要求1-4任一项所述的光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,所述阳极为钛板、钛基二氧化锰涂层、钛合金板中的一种。
8.如权利要求1-4任一项所述的光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,所述阴极为栅栏状铜阴极、石墨、不锈钢中的一种。
9.如权利要求1-4任一项所述的光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,所述步骤C中,采用5~10%NaOH溶液进行中和,温度为65~75℃,中和时间为0.5~2h。
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