CN108642539A - 一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法 - Google Patents
一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108642539A CN108642539A CN201810384762.4A CN201810384762A CN108642539A CN 108642539 A CN108642539 A CN 108642539A CN 201810384762 A CN201810384762 A CN 201810384762A CN 108642539 A CN108642539 A CN 108642539A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- preparation
- multilayered
- copper plate
- graded structure
- alloy material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 25
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 47
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 7
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 6
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 5
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000012761 high-performance material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
- C25D5/14—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
本发明公开一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法,采用双槽电沉积工艺,以铜板为基质材料,在两个电镀槽间交替沉积金属Cu和金属Ni,形成组份调制的Cu/Ni多层膜;将电镀后的Cu/Ni多层膜进行表面纳米化处理,即可制得高强度、高塑性的多层梯度结构材料。本发明所制备的多层梯度结构铜合金材料强度为多层铜合金的2倍以上,且能保持较好的塑性,在迅速发展的汽车、航空航天、电子等领域具有重要价值和应用空间。
Description
技术领域
本发明涉及一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法,属于金属材料加工技术领域。
背景技术
铜及铜合金是人类历史上使用最早的金属材料之一。铜合金具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性及优良的成形性,广泛用于电力、航空航天、矿山、冶金及机械制造业等现代工程技术领域,是工业中不可缺少的金属材料。
铜镍合金具有优异的导电、导热、耐蚀性能,易于加工成型等优点,近年来在国民经济中的应用(如电力、海洋等)越来越广泛。随着工业技术的快速发展,传统的加工方法已经逐渐难以满足对高性能材料的需求,对铜镍合金的强度和塑性也提出了更高的要求。通过大塑性变形(SPD)方法制得的超细晶材料具有高强度和高周疲劳抗力,如等通道转角挤压(ECAP)、高压扭转(HPT)、累计叠轧(ARB)、动力学塑性变形(DPD)、冷轧(CR)等,但差塑性限制了超细晶金属的广泛应用。
发明内容
针对现有技术对铜合金材料强塑性提高不足的缺陷,本发明提供一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法,利用双槽电沉积工艺,以铜板为基质材料,获得多层结构样品,并结合表面纳米化方法,制备出具有高强塑性良好匹配的多层梯度结构铜合金材料,该方法加工工艺简单,具体包括以下步骤:
(1)将纯铜板于650~750℃真空退火1.5~2h;
(2)对步骤(1)得到的纯铜板进行镀前处理:打磨至光亮,再置于去离子水中超声清洗3~5min后进行酸洗;
(3)对步骤(2)所得纯铜板进行电镀,以纯铜板为基质材料,采用双槽电沉积工艺,在两个电镀槽间交替沉积金属Cu和金属Ni,形成组份调制的Cu/Ni多层膜;电镀Ni配方为Ni(NH2SO3)2 .4H2O 300~450g/L,NiCl2 .6H2O 5~15g/L,H3BO3 20~30g/L,pH为3~5;电镀Cu配方为CuSO4 .5H2O 160~240g/L,H3BO3 5~15g/L,pH为2~4;电镀条件为:阴极电流密度4~5A/dm2,使用双阳极电镀,阳极为电解铜板、镍板,电镀时间4h,温度50~60℃;
(4)在步骤(3)得到的Cu/Ni多层膜结构表面进行表面纳米化处理,得到多层梯度结构铜合金材料。
步骤(1)中纯铜板的厚度为2~3mm。
步骤(2)中酸洗步骤采用硫酸100~150mL/L,超声波浸泡3~5min。
步骤(3)所述双槽电沉积工艺,在基体转换过程中,要先用去离子水充分洗净镀层表面,再用相应活化剂(5~10g/L的硼酸溶液)进行活化,防止镀液间的交叉污染和镀层的表面反应。
步骤(4)中表面纳米化处理采用常规的表面机械研磨处理,工艺参数为:室温,直径8mm的钢球150~200颗,频率50Hz,时间5min。
原理:金属具有良好的延展性,需有高加工硬化率和高塑性变形稳定性,从而抑制或推迟缩颈或剪切带的产生。多层结构材料可有效地改善断裂韧性、疲劳性能、冲击性能、磨损、延展性等性能。电镀作为常规的表面涂层沉积技术工艺,通过工艺参数的调节可以很简便地控制镀层厚度和晶粒的尺寸,从而获得多层结构材料;表面纳米化制备梯度结构材料的方法,通过采用非平衡处理方法增加多晶体表面的自由能,产生大量缺陷和界面,从而使材料表面的粗晶组织细化至纳米量级,能有效的提高材料的强度及硬度。该方法简单方便,采用常规表面处理方法即可实现,所形成的晶粒尺寸沿厚度方向呈梯度变化,且表面纳米层与基体组织之间不存在明显的界面。本发明利用电镀制得的多层材料与表面纳米化技术结合,形成内部晶粒尺寸由小到大连续变化的梯度纳米结构,在变形过程中,通过多层间结合及不同尺寸晶粒间的协调变形,梯度结构组织可有效地抑制纳米晶粒在变形过程中可能产生的应变集中和早期颈缩,延迟裂纹萌生,粗晶结构则为材料整体提供塑性,各特征尺寸对应多种作用机制,使材料的性能和服役行为得到更好的优化。
本发明的有益效果:
(1)将电镀工艺和表面纳米化方法结合起来,获得其他加工工艺难以获得的多层梯度结构铜合金材料,所得多层梯度结构铜合金材料晶粒尺寸从心部到表层呈梯度变化,使其具有很高的强度,为多层铜合金的2倍以上,且能保持较好的塑性;
(2)本发明制备方法简单,易于实现连续化生产,产品质量稳定,设备资金投入比较少,维护方便。
附图说明
图1为各实施例制得的多层梯度结构铜合金材料和未经表面纳米化处理的多层铜合金的室温拉伸曲线比较。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明,但本发明的保护范围并不限于所述内容。
实施例1
(1)将2mm纯铜板材料于650℃下真空退火2h;
(2)对步骤(1)得到的纯铜板进行镀前处理:打磨至光亮,再置于去离子水中超声清洗3min后进行酸洗(硫酸100mL/L,超声浸泡5min);
(3)对步骤(2)所得纯铜板进行电镀,以纯铜板为基质材料,采用双槽电沉积工艺,在两个电镀槽间交替沉积金属Cu和金属Ni,形成组份调制的Cu/Ni多层膜;电镀Ni配方为Ni(NH2SO3)2 .4H2O 350g/L,NiCl2.6H2O 10g/L,H3BO3 25g/L,pH为4;电镀Cu配方为CuSO4 .5H2O200g/L,H3BO3 10g/L,pH为2;电镀条件为:阴极电流密度4A/dm2,使用双阳极电镀,阳极为电解铜板、镍板,电镀时间4h,温度50℃,交替沉积时间间隔10min,基体转换过程中,先用去离子水充分洗净镀层表面,再用5g/L的硼酸溶液进行活化;
(4)在步骤(3)得到的Cu/Ni多层膜结构表面采用机械研磨进行表面纳米化处理(工艺参数:钢球直径8mm,取150颗,频率50Hz,室温处理时间5min),得到多层梯度结构铜合金材料。
制得的多层梯度结构铜合金材料屈服强度可达240MPa(如图1中实施例1曲线所示),均匀延伸率接近10%,断裂延伸率可达30%,具有较好的塑性。
经交替沉积后未对表面进行纳米化处理的材料屈服强度仅为95MPa(如图1中10min多层曲线所示),均匀延伸率为16%,断裂延伸率为18%。
实施例2
(1)将3mm纯铜板材料于750℃下真空退火1.5h;
(2)对步骤(1)得到的纯铜板进行镀前处理:打磨至光亮,再置于去离子水中超声清洗5min后进行酸洗(硫酸125mL/L,超声波浸泡4min);
(3)对步骤(2)所得纯铜板进行电镀,以纯铜板为基质材料,采用双槽电沉积工艺,在两个电镀槽间交替沉积金属Cu和金属Ni,形成组份调制的Cu/Ni多层膜;电镀Ni配方为Ni(NH2SO3)2 .4H2O 380g/L,NiCl2.6H2O 6g/L,H3BO3 28g/L,pH为5;电镀Cu配方为CuSO4 .5H2O220g/L,H3BO3 12g/L,pH为3;电镀条件为:阴极电流密度5A/dm2,使用双阳极电镀,阳极为电解铜板、镍板,电镀时间4h,温度60℃,交替沉积时间间隔30min,基体转换过程中,先用去离子水充分洗净镀层表面,再用8g/L的硼酸溶液进行活化;
(4)在步骤(3)得到的Cu/Ni多层膜结构表面采用机械研磨进行表面纳米化处理(工艺参数:钢球直径8mm,取200颗,频率50Hz,室温处理时间5min),得到多层梯度结构铜合金材料。
制得的多层梯度结构铜合金材料屈服强度可达200MPa(如图1中实施例2曲线所示),均匀延伸率达到10%,断裂延伸率可达30%,具有较好的塑性。
经交替沉积后未对表面进行纳米化处理的材料屈服强度仅为60MPa(如图1中30min多层曲线所示),均匀延伸率为20%,断裂延伸率为23%。
实施例3
(1)将2mm纯铜板材料于700℃下真空退火2h;
(2)对步骤(1)得到的纯铜板进行镀前处理:打磨至光亮,再置于去离子水中超声清洗4min后进行酸洗(硫酸150mL/L,超声波浸泡3min);
(3)对步骤(2)所得纯铜板进行电镀,以纯铜板为基质材料,采用双槽电沉积工艺,在两个电镀槽间交替沉积金属Cu和金属Ni,形成组份调制的Cu/Ni多层膜;电镀Ni配方为Ni(NH2SO3)2 .4H2O 400g/L,NiCl2.6H2O 14g/L,H3BO3 21g/L,pH为3;电镀Cu配方为CuSO4 .5H2O170g/L,H3BO3 6g/L,pH为4;电镀条件为:阴极电流密度4A/dm2,使用双阳极电镀,阳极为电解铜板、镍板,电镀时间4h,温度55℃,交替沉积时间间隔20min,基体转换过程中,先用去离子水充分洗净镀层表面,再用10g/L的硼酸溶液进行活化;
(4)在步骤(3)得到的Cu/Ni多层膜结构表面采用机械研磨进行表面纳米化处理(工艺参数:钢球直径8mm,取180颗,频率50Hz,室温处理时间5min),得到多层梯度结构铜合金材料。
制备的多层梯度结构铜合金材料屈服强度可达220MPa(如图1中实施例3曲线所示),均匀延伸率达到12%,断裂延伸率可达30%,具有较好的塑性。
经交替沉积后未对表面进行纳米化处理的材料屈服强度仅为80MPa(如图1中20min多层曲线所示),均匀延伸率为16%,断裂延伸率为19%。
Claims (9)
1.一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)将纯铜板于650~750℃真空退火1.5~2h;
(2)将步骤(1)得到的纯铜板打磨至光亮,置于去离子水中超声清洗3~5min后进行酸洗;
(3)以步骤(2)所得纯铜板为基质材料,采用双槽电沉积工艺,在两个电镀槽间交替沉积金属Cu和金属Ni,形成组份调制的Cu/Ni多层膜;
(4)在步骤(3)得到的Cu/Ni多层膜结构表面进行表面纳米化处理,得到多层梯度结构铜合金材料。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(1)中纯铜板的厚度为2~3mm。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(2)中酸洗步骤采用硫酸100~150mL/L,超声浸泡3~5min。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(3)中电镀Ni配方为Ni(NH2SO3)2 .4H2O 300~450g/L,NiCl2.6H2O 5~15g/L,H3BO3 20~30g/L,pH为3~5。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(3)中电镀Cu配方为CuSO4 .5H2O160~240g/L,H3BO3 5~15g/L,pH为2~4。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(3)中电镀条件为:阴极电流密度4~5A/dm2,使用双阳极电镀,阳极为电解铜板、镍板,电镀时间4h,温度50~60℃。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(3)中双槽电沉积工艺,在基体转换过程中,要先用去离子水充分洗净镀层表面,再用活化剂进行活化。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于:活化剂为5~10g/L的硼酸溶液。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(4)中采用机械研磨进行表面纳米化处理,工艺参数为:室温,直径8mm的钢球150~200颗,频率50Hz,时间5min。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810384762.4A CN108642539B (zh) | 2018-04-26 | 2018-04-26 | 一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810384762.4A CN108642539B (zh) | 2018-04-26 | 2018-04-26 | 一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108642539A true CN108642539A (zh) | 2018-10-12 |
CN108642539B CN108642539B (zh) | 2020-05-15 |
Family
ID=63747655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810384762.4A Active CN108642539B (zh) | 2018-04-26 | 2018-04-26 | 一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108642539B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113445077A (zh) * | 2021-06-15 | 2021-09-28 | 上海电力大学 | 一种晶粒尺寸多峰分布异质纳米结构Cu及制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040031691A1 (en) * | 2002-08-15 | 2004-02-19 | Kelly James John | Process for the electrodeposition of low stress nickel-manganese alloys |
CN1757784A (zh) * | 2005-10-28 | 2006-04-12 | 福州大学 | 纳米晶-微米晶层状复合材料及其制备方法 |
CN1844462A (zh) * | 2006-03-16 | 2006-10-11 | 郑州大学 | 具有梯度结构的镍-硫活性析氢阴极及其制备方法 |
CN105177645A (zh) * | 2015-07-27 | 2015-12-23 | 昆明理工大学 | 一种多层复合梯度纳米纯铜材料的制备方法 |
CN105648484A (zh) * | 2016-01-14 | 2016-06-08 | 昆明理工大学 | 一种双层梯度铜合金材料制备方法 |
CN106929888A (zh) * | 2017-05-03 | 2017-07-07 | 上海电力学院 | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 |
-
2018
- 2018-04-26 CN CN201810384762.4A patent/CN108642539B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040031691A1 (en) * | 2002-08-15 | 2004-02-19 | Kelly James John | Process for the electrodeposition of low stress nickel-manganese alloys |
CN1757784A (zh) * | 2005-10-28 | 2006-04-12 | 福州大学 | 纳米晶-微米晶层状复合材料及其制备方法 |
CN1844462A (zh) * | 2006-03-16 | 2006-10-11 | 郑州大学 | 具有梯度结构的镍-硫活性析氢阴极及其制备方法 |
CN105177645A (zh) * | 2015-07-27 | 2015-12-23 | 昆明理工大学 | 一种多层复合梯度纳米纯铜材料的制备方法 |
CN105648484A (zh) * | 2016-01-14 | 2016-06-08 | 昆明理工大学 | 一种双层梯度铜合金材料制备方法 |
CN106929888A (zh) * | 2017-05-03 | 2017-07-07 | 上海电力学院 | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113445077A (zh) * | 2021-06-15 | 2021-09-28 | 上海电力大学 | 一种晶粒尺寸多峰分布异质纳米结构Cu及制备方法 |
CN113445077B (zh) * | 2021-06-15 | 2023-03-14 | 上海电力大学 | 一种晶粒尺寸多峰分布异质纳米结构Cu及制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108642539B (zh) | 2020-05-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103460464B (zh) | 二次电池负极集电体用电解铜箔及其制造方法 | |
CN105177645B (zh) | 一种多层复合梯度纳米纯铜材料的制备方法 | |
US8691397B2 (en) | Biocidal metallic layers comprising cobalt | |
CN103014681B (zh) | 一种Ni-P合金梯度涂层的制备方法 | |
CN100577889C (zh) | 一种薄带连铸结晶辊表面电镀方法及其电镀液 | |
CN109023447A (zh) | 一种高强度高韧性层状纳米结构铜的制备方法 | |
CN106929888B (zh) | 一种层状复合纳米结构镍的制备方法 | |
Uysal et al. | Tribological properties of Ni–W–TiO2–GO composites produced by ultrasonically–assisted pulse electro co–deposition | |
CN102773434A (zh) | 一种纳米复合电镀层连铸结晶器铜板及其制备工艺 | |
CN109778249B (zh) | 一种制备金属核壳纳米线的制备方法 | |
CN102352522A (zh) | Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法 | |
CN1787114A (zh) | 一种复合电磁屏蔽薄膜材料及其制造方法 | |
CN108796564B (zh) | 一种高硬度耐磨耐蚀的Ni-Mo合金/金刚石复合涂层及其制备方法 | |
CN108018592A (zh) | 一种锆合金微弧氧化表面改性方法 | |
CN111471997A (zh) | 含层状双氢氧化物复合涂镀层的金属材料及其制备方法 | |
CN108130570A (zh) | 一种复合三价电镀铬工艺 | |
CN110428939A (zh) | 一种高导电石墨烯铜/铝复合导线的制备方法 | |
CN104988474B (zh) | 一种复合梯度涂层的化学镀制备方法 | |
CN108642539A (zh) | 一种多层梯度结构铜合金材料的制备方法 | |
CN101311322B (zh) | 一种电镀铁镍合金表面处理工艺及其电镀液 | |
CN101967668A (zh) | 用化学镀或电镀工艺制备Ni-P-UFD复合镀层的方法 | |
CN113445077B (zh) | 一种晶粒尺寸多峰分布异质纳米结构Cu及制备方法 | |
JP2001342591A (ja) | 高強度合金及びその製造方法並びにその高強度合金を被覆してなる金属とその高強度合金を用いたマイクロ構造体 | |
CN109487261B (zh) | 一种镁合金表面快速电沉积镀层的方法 | |
CN100345996C (zh) | 纳米晶-微米晶层状复合材料及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |