CN108620237B - 移动喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统 - Google Patents

移动喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统 Download PDF

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CN108620237B CN201710182927.5A CN201710182927A CN108620237B CN 108620237 B CN108620237 B CN 108620237B CN 201710182927 A CN201710182927 A CN 201710182927A CN 108620237 B CN108620237 B CN 108620237B
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Abstract

本申请公开了一种移动喷嘴平面清洗装置,避免了机械和超声振打导致的二次扬尘,不需要人工清洗和人工维护,每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态,提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工。由于不需要每个平面都配备喷嘴,是采用少量设备、低成本应对多个平面清洗的有效方案。该移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述移动喷嘴平面清洗装置包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴相对待清洗平面可移动,所述清洗喷嘴从至少一个待清洗区域移动至另一个待清洗区域。本申请还公开了一种采用上述移动喷嘴平面清洗装置的自清洗免维护静电净化系统及其嵌入式模块。

Description

移动喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统
技术领域
本申请涉及一种表面附着颗粒的清洗技术,属于流体流动领域。
背景技术
高压静电净化器是以静电净化原理进行气体中微粒和液滴的装置。是空气净化的理想设备。它的净化工作主要依靠放电极和沉淀极这两个系统来完成,当两极间输入高压直流电时在电极空间,产生阴、阳离子,并作用于通过静电场的气体及粒子表面,在电场力的作用下向其极性相反的电极移动,并沉积于电极上,达到收尘目的。其中高压静电模块为特殊设计的双极平板百叶式,具有放电区和集尘区两个分区,相对传统的静电过滤网或蜂窝式电子空气净化器的净化效率最高。其主要原理是利用静电吸附颗粒物和吸附了细菌微生物的气溶胶,并击穿杀死通过电场的细菌和病毒。
传统行业中的高压静电净化技术常见的清洗维护方式是机械振打、超声波振打或人工将设备取下来用水来冲洗。其中振打方式通过振打两极装置,使粘附在其上的粉尘被抖落,落入下部灰斗经排灰装置排出机外,传统的清洗维护方式会存在二次扬尘,而人工清洗由存在后期人工维护成本高以及维护时间长工作效率低等问题。
对于多个待清洗面以一定间距排列的形式构成整体,现有技术中往往是对整体进行淋洗,无法做到每次彻底清洁每一个待清洗面,则一定会存在积尘积累问题,待积累到一定程度,即必须拆卸下来人工彻底清洗,即持续积尘又无法避免人工维护。
发明内容
根据本申请的一个方面,提供了一种移动喷嘴平面清洗装置,该移动喷嘴平面清洗装置应用于平面清洗领域,避免了机械和超声振打导致的二次扬尘,不需要人工清洗和人工维护,每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态,提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工,该移动喷嘴平面清洗装置可以持续地同时保持多个待清洁表面的洁净,不需要每个平面或每个区域都配备喷嘴,是采用少量设备、低成本应对多个平面清洗的有效方案。
该移动喷嘴平面清洗装置包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴相对待清洗平面可移动,所述清洗喷嘴从至少一个待清洗区域移动至另一个待清洗区域。
本申请中,所述待清洗平面或所述待清洗表面为需要清洗的表面。对于一个平板,根据具体情况其可能需要单面清洗或双面清洗,当该平板需要双面清洗时,一个平板具有两个待清洗表面。
本申请中,所述待清洗区域是指一个待清洗平面上的一个区域,当待清洗平面不是一次整体清洗时,可以分别对一个待清洗平面上的多个区域分次清洗。
优选地,所述清洗喷嘴从一个待清洗平面的一个位置沿平行于所述待清洗平面的方向移动至所述待清洗平面的另一个位置;
和/或,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述清洗喷嘴从一个待清洗平面一端的第一位置移动至任意一个待清洗平面一端的第二位置。
进一步优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述清洗喷嘴从一个待清洗平面一端的第一位置沿垂直于多个所述待清洗平面的方向移动至任意一个待清洗平面一端的第二位置。
优选地,所述第一位置与其所要清洗的待清洗平面的相对位置,和所述第二位置与其所要清洗的待清洗平面的相对位置一致。
本申请中,所述相对位置,是指清洗喷嘴与与其所要清洗的待清洗平面在空间上的相对位置。所述相对位置一致,是指清洗喷嘴与一个待清洗平面的相对位置,在移动到另一个待清洗平面后仍处于与之前相同的相对位置。
作为一个优选的方案,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨,所述第一滑轨垂直于所述待清洗平面;
和/或,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第二滑轨,所述第二滑轨平行于所述待清洗平面。
作为一个优选的方案,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接并沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
作为一个优选的方案,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接并沿平行于所述待清洗平面的方向滑动。
优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴的滑动路径途经任一个所述待清洗平面。
进一步优选地,所述第一滑轨平行于所述待清洗平面,所述清洗喷嘴沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第一滑轨的两端与所述第二滑轨滑动连接,所述第一滑轨的滑动方向在平行于所述待清洗平面的方向上具有分量,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
作为一个优选的方案,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第一滑轨滑的两端与所述第二滑轨滑动连接,所述第一滑轨滑沿平行于所述待清洗平面的方向滑动,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第二滑轨的两端与所述第一滑轨滑动连接,所述第二滑轨的滑动方向在垂直于所述待清洗平面的方向上具有分量,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
作为一个优选的方案,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第二滑轨的两端与所述第一滑轨滑动连接,所述第二滑轨沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
进一步优选地,所述第一滑轨垂直于所述待清洗平面,所述第二滑轨平行于所述待清洗平面。
通过所述第一滑轨与所述第二滑轨组合联动的方式,可以让所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动,即可以让所述清洗喷嘴在平面上二维移动,以实现对不同待清洗平面、以及一个待清洗平面上的不同区域进行清洗。
本申请中,所述“平行和/或垂直”,包括平行和垂直的技术方案,是指移动方向在平行于待清洗平面和垂直于待清洗平面的方向上都有移动分量,实际的移动方向由上述两个方向的移动分量合成得到。具体而言,可以是第一滑轨与第二滑轨同时有滑动,上述两个分量同时发生;也可以先沿平行或垂直方向移动,再沿垂直或平行方向移动,最终达到需要清洗的位置。
优选地,所述清洗喷嘴的出液口的形状为狭缝。
进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.1mm~2mm。
进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度范围上限选自2mm、1.8mm、1.5mm、1.2mm、1mm、0.9mm、0.8mm;所述出液口的狭缝宽度范围下限选自0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.8mm、0.9mm、1mm。
更进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.3mm~1mm。
进一步优选地,如所述出液口的狭缝的长度小于所述待清洗平面上的待清洗区域宽度。所述清洗喷嘴可从待清洗平面的一侧沿着平行于待清洗平面的方向移动至待清洗平面的该侧其他位置。
优选地,在工作状态下,所述清洗喷嘴的最低部位高于任一个所述待清洗平面的顶端。
优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端,所述导流部与待清洗面的距离大于1mm。
进一步优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端,所述导流部与待清洗面的距离为1mm~5mm。在产品实际应用中,导流部与待清洗面相邻之间的距离D的取值直接影响到导流部喷液方向与待清洗面之间的角度设计,所采用的设计标准是确保喷射出来的清洗液能够切向喷射到待清洗面上,有效的防止清洗液喷溅,既能高效清洗且避免喷溅清洗液的干扰和二次污染,又节省了清洗液。
优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端下部,所述导流部控制喷液方向,在工作状态下,所述导流部与所述待清洗平面之间的角度为5°~90°。
优选地,所述喷液方向与所述待清洗面之间的角度范围上限选自90°、89°、85°、80°、75°、70°、60°、50°、45°、40°、30°;所述喷液方向与所述待清洗面之间的角度范围下限选自5°、10°、15°、20°、30°、40°、45°、50°、60°、70°。
优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端下部,所述导流部控制喷液方向,在工作状态下,所述导流部与所述待清洗平面之间的角度为10°~60°。所述清洗喷嘴高于所述待清洗平面的顶端,由于所述出液口距离所述待清洗平面的上端较远且高度差较大,则所述出液口的出液角度更小以配合所述清洗喷嘴与所述待清洗平面之间的位置关系。
现有技术中的往往是多个待清洗面以一定间距排列的形式构成整体,对整体淋洗无法做到每次彻底清洁待清洗面,则一定会存在积尘积累问题,待积累到一定程度,即必须拆卸下来人工彻底清洗,即持续积尘又无法避免人工维护。
本申请采用优化的出液喷射角度,使得所述清洗喷嘴喷射出来的清洗液能够切向喷射到待清洗表面上,有效的防止清洗液喷溅,因此能够高效地冲刷待清洗面,再利用清洗液的冲击力,能够高效地将待清洗面上的积尘完全清洗干净,即可以实现每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态。由于每次清洗都可以恢复洁净状态,没有积尘的累加问题,因此可以实现持续性的免维护。再结合智能化控制系统和/或自定义周期性清洗,能够实现智能自清洗且免维护。
优选地,所述清洗喷嘴在工作状态下与所述待清洗平面的最近处的距离大于1mm。
进一步优选地,所述清洗喷嘴在工作状态下与所述待清洗平面的最近处的距离为1mm~100mm。
更进一步优选地,所述清洗喷嘴在工作状态下与所述待清洗平面的最近处的距离为1mm~50mm。
优选地,所述清洗喷嘴脉冲喷射清洗液对所述待清洗平面冲刷清洗。采用脉冲喷射的方式,清洗效果优于连续喷射且更节省清洗液。
进一步优选地,所述脉冲喷射压力≥0.01Mpa。
更进一步优选地,所述脉冲喷射压力为0.01Mpa~1Mpa。
进一步优选地,所述脉冲喷射频率≥2次/分钟。
更进一步优选地,脉冲喷射频率为2次/分钟~120次/分钟。
进一步优选地,所述脉冲喷射压力≥0.01Mpa,脉冲喷射频率≥2次/分钟。
优选地,所述所述清洗喷嘴包括相对设置的第一出液口和第二出液口,所述第一出液口和第二出液口的出液端分别设置有控制喷液方向的第一导流部和第二导流部,所述第一导流部与其对应的待清洗平面之间的角度和所述第二导流部与其对应的待清洗平面之间的角度一致。
所述第一导流部和第二导流部直接的底部可以为平底或者根据加工方式和应用场合设计匹配的形状。本申请一个优选的实施方式中,由于往往在静电净化设备中,正负极板(一般称为:集尘板和电离板)交替排布,因此相邻两个集尘板间还有一个电离板,本申请所述清洗喷嘴两个出液口间的结构设计可以在有效对两个出液口进行流量分流的同时,还能避免电离板的位置对所述清洗喷嘴的影响,并将出液口进一步伸入集尘板与电离板之间的间隙。
进一步优选地,所述相邻两个待清洗平面间具有隔板,所述平面清洗喷嘴底部、第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构,所述上凹结构位于所述隔板上方,所述第一出液口和第二出液口分别朝向且高于所述相邻的两个待清洗平面。
进一步优选地,所述相邻两个待清洗平面间具有隔板,所述平面清洗喷嘴底部、第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构,所述上凹结构位于所述隔板上方,所述第一出液口和第二出液口分别伸入所述相邻的两个待清洗平面与其之间的隔板形成的两个间隙内且分别朝向所述相邻的两个待清洗平面。本申请所述清洗喷嘴两个出液口间的结构设计可以在有效对两个出液口进行流量分流的同时,还能避免电离板的位置对所述清洗喷嘴的影响,并将出液口进一步伸入集尘板与电离板之间的间隙。
优选地,所述清洗喷嘴可从一个待清洗平面一端沿垂直于多个所述待清洗平面的方向移动至任意一个待清洗平面一端。
优选地,如狭缝长度小于待清洗平面上的待清洗区域宽度,所述清洗喷嘴可从待清洗平面的顶边的一侧沿着平行于待清洗平面的方向移动至待清洗平面的该侧其他位置。
优选地,所述清洗喷嘴的最低部位高于所述待清洗平面的顶端。
优选地,所述清洗喷嘴是用于清洗平面的平面清洗喷嘴。作为一个优选的方案,所述出液口的狭缝与待清洗平面平行。本申请中,所述出液口的狭缝与待清洗平面平行,并非指绝对完全平行,是指在工程设计或装配工艺中平行是优选方案。容许存在一定的偏离度,或者在产品的装配中可以不完全平行,只要喷嘴喷出的清洗液可以覆盖整个待清洗区域均可实现本申请的技术效果。
通常情况下待清洗表面为平面,即平板状,则对应的本申请技术方案的所述清洗喷嘴的出液口的狭缝为直线状,该直线状出液口的狭缝上各处均与所述平板状清洗表面的距离一致,通过线型出液口的喷射,对整个平面完整均匀冲刷以实现面清洗。
本申请一个优选的实施方式中,一个所述清洗喷嘴可以具有一个出液口,向一个所述待清洗表面冲刷清洗。本申请一个优选的实施方式中,由于待清洗表面往往为多个等间距排列,因此一个所述清洗喷嘴可以在左右两侧各具有一个出液口即可实现同时对其左右两侧的待清洗表面进行清洗的效果,可以进一步整合装置、减小设备及降低成本。
本申请一个优选的实施方式中,当待清洗平面为多个且相互平行时,多个待清洗平面组成待清洗平面阵列,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第二滑轨,所述第二滑轨平行于所述待清洗平面且位于的所述待清洗平面阵列最外侧两个待清洗平面的顶端;
所述移动喷嘴平面清洗装置包括进液口、分流管路、导流板和多个清洗喷嘴,所述进液口与所述分流管路相通,所述分流管路侧面开有分流孔或分流槽,所述分流孔或分流槽朝向所述导流板;
清洗液依次流经所述进液口、所述分流管路、所述所述分流孔或分流槽、所述导流板和所述清洗喷嘴,由所述出液口流出;
所述分流管路和所述导流板沿与所述清洗喷嘴出液口的狭缝垂直的方向延伸布置。
本申请一个优选的实施方式中,所述导流板的横截面具有凹型结构,所述分流管路位于所述凹型结构内,且所述分流孔或分流槽朝向所述导流板的凹型结构。
本申请一个优选的实施方式中,所述导流板的凹型结构的横截面形状为弧形、V型或多边形。
根据本申请的又一个方面,提供了一种自清洗免维护静电净化系统,该自清洗免维护静电净化系统,避免了静电净化上的集尘由机械和超声振打导致的二次扬尘,不需要人工清洗和人工维护,每次清洗均能彻底清洁集尘板,恢复洁净状态,提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工,该自清洗免维护静电净化系统可以持续地同时保持其中的多个集尘板的洁净。
该自清洗免维护静电净化系统包括集尘段和位于所述集尘段顶端的所述一个方面所述移动喷嘴平面清洗装置中的至少一种;
所述集尘段包括交替排列的集尘板和电离板。
优选地,任意一个所述清洗喷嘴的最低部高于任意所述集尘段的集尘板和电离板的最高部。
优选地,所述自清洗免维护静电净化系统包括滑轨和一个所述清洗喷嘴,所述清洗喷嘴的出液口长度与所述集尘板的待清洗区域的宽度一致,所述滑轨沿垂直于所述集尘板的方向布置,所述清洗喷嘴的两端滑动连接于所述滑轨并沿所述滑轨可从一个集尘板的一个位置移动至任意一个集尘板上的相应位置。
优选地,所述自清洗免维护静电净化系统包括滑轨,所述清洗喷嘴的长度与所述滑轨的宽度一致,所述清洗喷嘴可沿所述滑轨在所述集尘段上方移动,且移动方向垂直于所述清洗喷嘴的出液口的狭缝。
优选地,所述自清洗免维护静电净化系统包括一个所述清洗喷嘴,所述清洗喷嘴沿所述滑轨可移动至任意两个相邻的集尘板间的空隙上方对所述集尘板进行清洗。
优选地,所述自清洗免维护静电净化系统包括两个及以上数量的所述清洗喷嘴,任一个所述清洗喷嘴沿所述滑轨可移动至任意集尘板和/或任意集尘板上的至少一段待清洗区域对所述集尘板或所述待清洗区域进行清洗。
优选地,每次清洗过程,每平方米的待清洗平面的清洗液用量不超过0.002m3
优选地,每次清洗过程,每平方米的待清洗平面的清洗液用量为0.0005m3~0.003m3
优选地,所述自清洗免维护静电净化系统包括清洗液分离循环装置,清洗过程中,清洗液冲刷集尘板后进入所述清洗液分离循环装置分离出固相后,液相供后续清洗使循环利用。
进一步优选地,所述分离方式包括沉淀、分液、过滤中的至少一种。
进一步优选地,所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量不超过0.45m3
优选地,所述自清洗免维护静电净化系统包括静电电离段和初效过滤滤网;所述待净化气体依次流经所述初效过滤滤网、所述静电电离段、所述集尘段。
优选地,所述清洗喷嘴底部的第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构,所述上凹结构位于所述电离板的上方,所述第一出液口和第二出液口的位置高于所述集尘板和电离板的顶端。
优选地,所述清洗喷嘴每次清洗过程,每平方米的待清洗平面的清洗液用量不超过0.002m3
进一步优选地,所述清洗喷嘴每次清洗过程,每平方米的待清洗平面的清洗液用量范围上限选自0.003m3、0.002m3、0.001m3、0.0005m3、0.0003m3、0.0002m3、0.0001m3;所述清洗喷嘴每次清洗过程,每平方米的待清洗平面的清洗液用量范围下限选自0.00001m3、0.00002m3、0.00003m3、0.00005m3、0.00008m3、0.0001m3、0.0002m3、0.0003m3、0.0005m3、0.0008m3、0.001m3、0.002m3
更进一步优选地,所述清洗喷嘴每次清洗过程,每平方米的待清洗平面的清洗液用量不超过0.0005m3~0.003m3
优选地,所述自清洗免维护静电净化系统包括清洗液分离循环装置,清洗过程中,清洗液冲刷集尘板后进入所述清洗液分离循环装置分离出固相后,液相供后续清洗使循环利用。
优选地,所述分离方式包括沉淀、分液、过滤中的至少一种。
优选地,所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量不超过0.45m3
进一步优选地,所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量范围上限选自1m3、0.8m3、0.5m3、0.3m3、0.2m3、0.1m3、0.08m3、0.05m3、0.03m3、0.02m3、0.01m3;所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量范围下限选自
更进一步优选地,所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量为0.0001m3~0.3m3
优选地,所述自清洗免维护静电净化系统包括静电电离段和初效过滤滤网;待净化气体依次流经所述初效过滤滤网、所述静电电离段、所述集尘段。
根据本申请的又一个方面,提供了一种嵌入式自清洗免维护静电净化模块,所述嵌入式自清洗免维护静电净化模块可嵌入式安装在中央空调系统、中央通风系统和/或医疗系统中,所述嵌入式自清洗免维护静电净化模块包括上述一个方面所述移动喷嘴平面清洗装置中的至少一种或上述一个方面中所述自清洗免维护静电净化系统中的至少一种。
本申请能产生的有益效果包括:
1)本申请所提供的移动喷嘴平面清洗装置,应用于平面清洗领域,不仅避免了机械和超声振打导致的二次扬尘,还不需要人工清洗和人工维护,每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态,提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工,该移动喷嘴平面清洗装置可以持续地同时保持多个待清洁表面的洁净,不需要每个平面或每个区域都配备喷嘴,是采用少量设备、低成本应对多个平面清洗的有效方案。
2)本申请所提供的移动喷嘴平面清洗装置中的喷嘴,能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态,提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工,该清洗喷嘴可以持续保持待清洁表面的洁净。
3)本申请所提供的自清洗免维护静电净化系统,具有上述移动喷嘴平面清洗装置的有益效果,每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态,在至少15年的使用寿命内的净化效率始终保持在初始效率的90%~100%范围内。
4)本申请所提供的自清洗免维护静电净化系统,具有节约能耗的优势:相比未采用本申请技术方案的静电净化产品需要定期维护、且维护周期长的缺点,积灰程度逐渐严重导致风阻逐渐增大、能耗损失严重的弊端,采用本申请技术方案的所述自清洗免维护静电净化系统,由于每次清洗均能彻底清洁待清洗面,因此其阻力损失持续地保持在30pa以下的超低风阻水平,不影响风机的进风、出风效果。因此在其使用过程中因风阻小节约的风机动力能耗,在至少15年的使用寿命内其累积的能耗节约量将相当显著。
5)本申请所提供的自清洗免维护静电净化系统及嵌入式模块,具有高经济效益:采用本申请的技术方案,无需人工维护。设备一次性投入,安装后几乎不需要定期进行人工维护,如与中央空调系统和/或通风系统组合使用,在确保净化效率的同事能够有效的优化空调系统的能耗问题;整机采用全金属材质,使用寿命长达15年,期间节约的人工成本将非常显著。同时设备达到寿命终点时,其材料也可以回收,实现循环利用,既节约资源又避免环境污染。
6)本申请所提供的自清洗免维护静电净化系统以及嵌入式模块,具有极低的水资源消耗量:采用本申请的技术方案,清洗过程中,清洗液冲刷集尘板后,进行收集然后再沉淀,所用清洗液可循环利用,循环多次直至无法喷射以后才进行更换,其每平方米集尘板年耗清洗液用量约为0.3m3/年,远远低于现有技术中的每年耗水量几个数量级。如此低的年耗水量,几乎可以忽略对水资源的需求。
7)本申请所提供的移动喷嘴平面清洗装置、自清洗免维护静电净化系统及嵌入式模块,应用广泛:可以与任何品牌空调VRV或多联机配套使用,产品广泛应用于办公楼、酒店、学校、商场及医疗系统等领域。
附图说明
图1为本申请一种实施方式的双出液口清洗喷嘴。
图2为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置立体示意图。
图3为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置侧视和剖视示意图。
图4为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置剖视局部放大示意图。
图5为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置中双出液口喷嘴立体示意图。
图6为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置中双出液口喷嘴正视图和剖视图。
图7为本申请一种实施方式的单侧出液口清洗喷嘴侧视图。
图8为本申请一种实施方式的单侧出液口清洗喷嘴主视图和剖视图。
图9为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置主视图和侧视图。
图10为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置立体图。
图11为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置主视图和侧视图。
图12为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置局部放大图。
图13为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置立体图。
图14为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置中喷嘴侧视图。
图15为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置中喷嘴标号示意图。
图16为本申请一种实施方式的移动喷嘴平面清洗装置中流量分布图。
图17为本申请一种实施方式的双出液口清洗喷嘴。
图18为本申请一实施例中自清洗免维护静电净化系统立体外观图。
图19为本申请一种实施方式的嵌入式自清洗免维护静电净化系统示意图。
部件和附图标记列表:
附图标记 部件名称
1 集尘段
2 高压静电电离段
3 移动喷嘴平面清洗装置
4 初效过滤滤网
5 集尘板
6 电离板
7 进液口
8 喷嘴
8-1 出液口
8-3 出液口
8-3 导流部
9 导流板
10 滑轨
101 滑轨
102 滑轨
103 滑块
11 喷嘴
1101 出液口
1102 出液口
1103 导流部
具体实施方式
下面结合实施例详述本申请,但本申请并不局限于这些实施例。
如无特别说明,本申请的实施例中的原材料和加工设备均通过商业途径购买。
实施例1 移动喷嘴平面清洗装置——清洗喷嘴
在本申请的一种具体实施方式中,喷嘴11的结构见图1,喷嘴11的最低处高于集尘板5和电离板6的最高处。喷嘴11包括出液口1101、出液口1102和导流部1103,均位于集尘板5和电离板6的间隙以外。所述出液口1101和出液口1102的开口截面积和导流部1103的角度是经过设计计算的,本实施例中集尘板5和电离板6之间的距离d≥5mm,出液口1101和出液口1102的开口狭缝宽度尺寸σ满足0.1mm≤σ≤2mm,导流部1103为倒V型结构,导流部1103与集尘板5的角度λ满足5°<λ<90°。因在产品实际应用中,集尘板5相邻两板之间的距离d的取值直接影响到导流部1103与集尘板5的角度设计,所采用的设计标准是1101和出液口1102喷射出来的清洗液能够切向喷射到集尘板5上,有效的防止清洗液喷溅。作为几个典型的实施方式,集尘板5与电离板的距离d、出液口1101和出液口1102的出液端到集尘板5的距离D1、出液口1101和出液口1102的开口狭缝宽度尺寸σ、导流部1103与集尘板5的角度λ见表1。表1中喷射方向为切向是指喷射出的清洗液切向接触集尘板5。
表1
实施例编号 d D1 σ λ 喷射方向
实施例1-1 5mm 1mm 1mm 50° 切向
实施例1-2 8mm 2mm 0.1mm 30° 切向
实施例1-3 12mm 5mm 0.8mm 45° 切向
实施例1-4 20mm 10mm 1.5mm 60° 切向
实施例1-5 30mm 100mm 2mm 70° 切向
实施例2 移动喷嘴平面清洗装置
本申请的一种具体实施方式中,移动喷嘴平面清洗装置的结构示意图见图2,本实施例的移动喷嘴平面清洗装置位于图2中高压静电净化系统的集尘段1的上方,移动喷嘴平面清洗装置包括滑轨10和实施例1中的喷嘴11。喷嘴11布置于集尘段1的上端,并且喷嘴11在外置驱动装置作用下可以沿着滑轨10按照程序设定来完成位移轨迹,即移动到一个集尘板的缝隙上方,停留并进行喷液清洗。采用脉冲喷射清洗方式,脉冲喷射压力1Mpa,脉冲喷射频率2次/分钟。清洗完成后,移动到下一个集尘板的缝隙上方,停留并进行喷液清洗,清洗完成后继续移动,依次清洗完所有的集尘板。由于实施例1中喷嘴的角度与狭缝宽度的设计是对集尘板5与电离板6间距以及出液口位置的优化,因此仅需少量清洗液,即可彻底清洗集尘板5表面的积尘,使得集尘板5与电离板6恢复到初始的无积尘状态。
图2所示的集尘段1及其上的移动喷嘴平面清洗装置的剖视图见图3,其中局部放大图见图4,本实施例中采用的是实施例1的喷嘴11,喷嘴11的最低处高于集尘板5和电离板6的最高处,喷嘴11沿滑轨移动,移动过程中可实现对每一片集尘板5和电离板6的清洗。本实施例中采用的喷嘴11立体图见图5,喷嘴11的正视图见图6(b),其中喷嘴11两端具有与滑轨10匹配的凸起结构,喷嘴11的剖视图见图6(a)。
在一个具体实施方式中喷嘴11可以设置为两个或多个(图中未示出),分别在各自的区域内沿导轨10移动,可以在两个或多个区域同时清洗,提高了效率。
实施例3 移动喷嘴平面清洗装置——单侧出液口喷嘴
与实施例1的喷嘴结构类似,不同的是本实施例的喷嘴为单侧出液口,请参见图7的单侧出液口喷嘴侧视图。本实施例单侧出液口喷嘴的主视图请见图8(b),其A-A方向的侧视剖视图为图8(a)。
在一个具体实施方式中,移动喷嘴平面清洗装置中,每两个相邻的集尘板5之间布置两个本实施例的单侧出液口喷嘴,两个喷嘴的出液口分别朝向两侧的集尘板5。
实施例4 移动喷嘴平面清洗装置
本申请的一种具体实施方式中,移动喷嘴平面清洗装置的结构示意图见图9,其中滑块103沿集尘板平行方向布置在滑轨102上,喷嘴固定在滑块103上沿与集尘板平行的方向移动,见图9(a)中所示的移动方向。喷嘴的数量与电离板的数量一致,即每两个集尘板间布置一个喷嘴。喷嘴的长度小于集尘板的宽度,喷嘴沿图9(a)中所示的移动方向移动,以对集尘板的全部区域进行清洗。采用脉冲喷射的清洗方式,脉冲喷射压力0.02Mpa,脉冲喷射频率120次/分钟。
本实施例的设计方案,可以采用出液口狭缝较短的喷嘴,降低了加工难度和要求,喷嘴与集尘板的距离是固定的,可以在安装时精确定位好,只需要沿平行于集尘板的方向、与集尘板等间距移动即可完成清洗,清洗效果好。本实施例仅需要连续移动即可,减少了实施例2中移动到一个集尘板缝隙需要停留的控制步骤,稳定性更高。适合清洗需要频繁,以及清洗效果要求更高的场合。
实施例5 二维移动喷嘴平面清洗装置
如图10和图11所示,本实施例提供了一种二维移动喷嘴平面清洗装置,同时采用实施例2和4的移动方式。
图10中局部放大图请见图12,在集尘段两端与集尘板平行方向布置的滑轨102和固定在滑轨102上的滑块103,滑块103可以沿滑轨102在图12中所示的移动方向A的方向上移动,使得喷嘴11以平行于集尘板的方向,以扫描的方式清洗完整的一个集尘板的待清洗面。
滑轨101两侧固定在滑块103上。喷嘴11的两侧滑动固定于滑轨101上,喷嘴11可以沿滑轨101在图12中所示的移动方向B的方向上移动,使得喷嘴11同时也可以在与集尘板垂直的方向移动,以清洗不同的集尘板。
移动方向A和移动方向B的结合,使得喷嘴11可以在集尘段顶部的二维平面内移动,通过采用更小、材料和加工成本更低的喷嘴,能够减少整体的成本,降低重量。
实施例6 移动喷嘴平面清洗装置
喷嘴及布置方式与实施例4相同。在实施例4的基础上,对多个喷嘴的结构增加了导流板,以使得多喷嘴的流量更均匀。
具体如图13所示,由于每两个集尘板间布置一个喷嘴,多个喷嘴构成喷嘴阵列。喷嘴阵列立体图见图13所示,多个喷嘴由一个共轨通道供给清洗液,共轨通道有两个进液口,图13的侧视图见图14,进液口7将清洗液导入共轨通道中的分流管(图12中共轨通道中心),分流管侧面的清洗液喷出孔射向导流板9,导流板9为多边形,也可以是弧形和V型,清洗液从进水口7进入,经过本申请的导流板9后,可以使得进入每个喷嘴8的流量都均匀。图15为喷嘴阵列结构的后视图,共35个喷嘴8,分别标号为801~8035。图16为35个喷嘴8的相对流量分布图,其中横坐标的1~35为图9中的喷嘴801~8035,纵坐标为相对流量,可见图16中采用本申请实施例6的导流板9后,每个喷嘴的流量都均匀;未采用导流板9的实施例4的流量明显靠近进液口7的喷嘴809和8027附近的喷嘴流量太大,采用导流板9的流量均匀效果的显著性非常明显。达到与实施例4同等清洗效果的情况下,采用的清洗液更少。
导流板可以为图14中的多边形,具有加工方便且不易产生死角的优势。也可以加工为V型,成本更低加工更方便。也可以采用弧形,效果更好。
对比例1 点淋洗
集尘段与实施例4相同,但喷嘴不同,对比例1采用2个圆形喷嘴,固定在整个集尘段的上方区域喷洒淋洗,采用与实施例4一样的清洗液和总流量,清洗效果很差,几乎无法清洗掉附着在集尘板5上的积尘。采用100倍实施例7的流量,甚至更多的流量,也只能部分清洗,无法达到彻底清洗集尘板的效果。只能过一段时间拆下来人工彻底清洗,否则因积尘过多无法正常工作。
实施例7 移动喷嘴平面清洗装置
在本申请的一种具体实施方式中,移动喷嘴平面清洗装置采用双侧出液口深入集尘板间隙内的清洗喷嘴。与实施例4的移动喷嘴平面清洗装置结构类似,不同的是本实施例的喷嘴出液口深入集尘板间隙内。
该移动喷嘴平面清洗装置中的清洗喷嘴8的结构示意图见图17,清洗喷嘴8包括出液口8-1、出液口8-2和导流部8-3,清洗过程是清洗液离开喷嘴8后,射流到集尘板5上,利用喷嘴8与集尘板5之间的角度关系,使得喷嘴8喷射出来的清洗液能够切向冲刷集尘板5,再利用清洗液的冲击力,能够有效的清洗集尘板5上的积灰;结合智能化控制系统,和自定义周期性清洗,能够实现人工智能免维护自清洗。采用脉冲喷射的清洗方式,脉冲喷射压力1Mpa,脉冲喷射频率2次/分钟。
喷嘴8的最低处低于集尘板5和电离板6的最高处,即,喷嘴8的出液口8-1和出液口8-2及导流部8-3是伸入集尘板5和电离板6之间的间隙里面的。所述出液口8-1和出液口8-2的开口截面积和导流部8-3的角度是经过设计计算的,本实施例中集尘板5和电离板6之间的距离d≥5mm。出液口8-1和出液口8-2的开口狭缝宽度尺寸σ满足0.1mm≤σ≤2mm,导流部8-3为倒V型结构,导流部8-3与集尘板5的角度λ满足5°<λ<90°。因在产品实际应用中,集尘板5相邻两板之间的距离d的取值直接影响到导流部8-3与集尘板5的角度设计,所采用的设计标准是出液口8-1和出液口8-2喷射出来的清洗液能够切向喷射到集尘板5上,有效的防止清洗液喷溅。作为几个典型的实施方式,集尘板5与电离板的距离d、导流部到集尘板5的距离D2、出液口8-2的开口狭缝宽度尺寸σ、导流部8-3与集尘板5的角度λ见表2。
表2
实施例编号 d D2 σ λ 喷射方向
实施例7-1 5mm 1mm 1mm 切向
实施例7-2 8mm 2mm 0.1mm 60° 切向
实施例7-3 12mm 3mm 0.8mm 10° 切向
实施例7-4 20mm 4mm 1.5mm 75° 切向
实施例7-5 30mm 5mm 2mm 80° 切向
实施例8 自清洗免维护静电净化系统
本申请的自清洗免维护静电净化系统见图18,其中,本申请实施例2的移动喷嘴平面清洗装置整合固定在一个高压静电净化设备中的集尘段上部。由图18可见,整合本申请移动喷嘴平面清洗装置后的自清洗免维护静电净化系统,体积和形状变化不大,仅是顶部增加了10%左右的高度,侧面伸出了进液口而已。
自清洗免维护静电净化系统具有清洗液回收槽,清洗液落入下方的清洗液回收槽内后,沉淀,下次清洗时可以重复使用上方清液。
运行1年,清洗液共计消耗清洗液0.2m3
期间风阻损失持续地保持在30pa以下的超低风阻水平,不影响风机的进风、出风效果。因此在其使用过程中因风阻小节约的风机动力能耗,在至少15年的使用寿命内其累积的能耗节约量将相当显著。
对比例2 水消耗量和风阻
喷嘴与对比例1相同,同样的工况,运行1年清洗液消耗量为120m3。可见,本申请实施例7的清洗液消耗量与对比例2相比,可以忽略不计。
对比例在清洗后由于积尘不能彻底清除,风阻仍然较高,持续运行过程中超过100pa,至300Pa后不得不拆下来人工清洗。15年的能源消耗量远超过实施例7。
实施例9 嵌入式应用
见图19所示,本申请的移动喷嘴平面清洗装置可以嵌入式地与任何品牌空调VRV或多联机配套使用,产品广泛应用于办公楼、酒店、学校、商场及医疗系统等领域。清洗效果和耗水量同实施例8。
以上所述,仅是本申请的几个实施例,并非对本申请做任何形式的限制,虽然本申请以较佳实施例揭示如上,然而并非用以限制本申请,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本申请技术方案的范围内,利用上述揭示的技术内容做出些许的变动或修饰均等同于等效实施案例,均属于技术方案范围内。

Claims (33)

1.一种移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述移动喷嘴平面清洗装置包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴相对待清洗平面可移动,所述清洗喷嘴从至少一个待清洗区域移动至另一个待清洗区域;
所述清洗喷嘴包括出液口,所述出液口为直线状的狭缝,所述狭缝的长度方向与所述对待清洗平面相平行。
2.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述清洗喷嘴从一个待清洗平面一端的第一位置移动至任意一个待清洗平面一端的第二位置。
3.根据权利要求2所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述第一位置与其所要清洗的待清洗平面的相对位置,和所述第二位置与其所要清洗的待清洗平面的相对位置一致。
4.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴的滑动路径途经任一个所述待清洗平面。
5.根据权利要求4所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述第一滑轨平行于所述待清洗平面,所述清洗喷嘴沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
6.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第一滑轨的两端与所述第二滑轨滑动连接,所述第一滑轨的滑动方向在平行于所述待清洗平面的方向上具有分量,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
7.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第二滑轨的两端与所述第一滑轨滑动连接,所述第二滑轨的滑动方向在垂直于所述待清洗平面的方向上具有分量,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
8.根据权利要求6所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第一滑轨滑的两端与所述第二滑轨滑动连接,所述第一滑轨沿平行于所述待清洗平面的方向滑动,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
9.根据权利要求7所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第二滑轨的两端与所述第一滑轨滑动连接,所述第二滑轨沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。
10.根据权利要求6至9任一项所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述第一滑轨垂直于所述待清洗平面,所述第二滑轨平行于所述待清洗平面。
11.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴的出液口的形状为狭缝;所述出液口的狭缝宽度为0.1mm~2mm。
12.根据权利要求11所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述出液口的狭缝宽度为0.3mm~1mm。
13.根据权利要求11所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述出液口的狭缝的长度小于所述待清洗平面上的待清洗区域宽度。
14.根据权利要求11所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,在工作状态下,所述清洗喷嘴的最低部位高于任一个所述待清洗平面的顶端。
15.根据权利要求11所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于所述清洗喷嘴的出液口的出液端下部,所述导流部控制喷液方向,在工作状态下,所述导流部与所述待清洗平面之间的角度为5°~90°。
16.根据权利要求11所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于所述清洗喷嘴的出液口的出液端下部,所述导流部控制喷液方向,在工作状态下,所述导流部与所述待清洗平面之间的角度为10°~60°。
17.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴在工作状态下与所述待清洗平面的最近处的距离大于1mm。
18.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴在工作状态下与所述待清洗平面的最近处的距离为1mm~100mm。
19.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴脉冲喷射清洗液对所述待清洗平面冲刷清洗。
20.根据权利要求19所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述脉冲喷射压力≥0.01Mpa,脉冲喷射频率≥2次/分钟。
21.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴包括相对设置的第一出液口和第二出液口,所述第一出液口和第二出液口的出液端分别设置有控制喷液方向的第一导流部和第二导流部,所述第一导流部与其对应的待清洗平面之间的角度和所述第二导流部与其对应的待清洗平面之间的角度一致。
22.根据权利要求21所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,相邻两个待清洗平面间具有隔板,所述平面清洗喷嘴底部、第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构,所述上凹结构位于所述隔板上方,所述第一出液口和第二出液口分别朝向且高于所述相邻的两个待清洗平面。
23.一种自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,所述自清洗免维护静电净化系统包括集尘段和位于所述集尘段顶端的权利要求1至22任一项所述移动喷嘴平面清洗装置中的至少一个;
所述集尘段包括交替排列的集尘板和电离板。
24.根据权利要求23所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,任意一个所述清洗喷嘴的最低部高于任意所述集尘段的集尘板和电离板的最高部。
25.根据权利要求23所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,所述自清洗免维护静电净化系统包括滑轨和一个所述清洗喷嘴,所述清洗喷嘴的出液口长度与所述集尘板的待清洗区域的宽度一致,所述滑轨沿垂直于所述集尘板的方向布置,所述清洗喷嘴的两端滑动连接于所述滑轨并沿所述滑轨可从一个集尘板的一个位置移动至任意一个集尘板上的相应位置。
26.根据权利要求23所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,所述自清洗免维护静电净化系统包括两个及以上数量的所述清洗喷嘴,任一个所述清洗喷嘴沿滑轨可移动至任意集尘板和/或任意集尘板上的至少一段待清洗区域对所述集尘板或所述待清洗区域进行清洗。
27.根据权利要求26所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,每次清洗过程,每平方米的待清洗平面的清洗液用量不超过0.002m3
28.根据权利要求26所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,每次清洗过程,每平方米的待清洗平面的清洗液用量为0.0005m3~0.003m3
29.根据权利要求23所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,所述自清洗免维护静电净化系统包括清洗液分离循环装置,清洗过程中,清洗液冲刷集尘板后进入所述清洗液分离循环装置分离出固相后,液相供后续清洗使循环利用。
30.根据权利要求29所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,所述分离方式包括沉淀、分液、过滤中的至少一种。
31.根据权利要求29所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,每平方米待清洗平面的清洗液年用量不超过0.45m3
32.根据权利要求29所述的自清洗免维护静电净化系统,其特征在于,所述自清洗免维护静电净化系统包括静电电离段和初效过滤滤网;待净化气体依次流经所述初效过滤滤网、所述静电电离段、所述集尘段。
33.一种嵌入式自清洗免维护静电净化模块,其特征在于,所述嵌入式自清洗免维护静电净化模块可嵌入式安装在中央空调系统、中央通风系统和/或医疗系统中,所述嵌入式自清洗免维护静电净化模块包括权利要求1至22任一项所述移动喷嘴平面清洗装置中的至少一种或权利要求23至32任一项所述自清洗免维护静电净化系统中的至少一种。
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