CN108620238B - 阵列式喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种阵列式喷嘴平面清洗装置，该阵列式喷嘴平面清洗装置可以持续地同时保持多个待清洁表面的洁净，同时对每个平面进行喷射清洗，不需要人工清洗和人工维护，喷嘴固定，可靠性更高、故障率更低，是高效率对多个平面同时清洗的有效方案。该阵列式喷嘴平面清洗装置包括包括固定设置的清洗喷嘴，每个所述清洗喷嘴具有至少一个出液口，每个待清洗平面至少具有一个所述出液口。本申请还公开了一种采用上述阵列式喷嘴平面清洗装置的自清洗免维护静电净化系统及其嵌入式模块。
Description
技术领域
本申请涉及一种表面附着颗粒的清洗技术，属于流体流动领域。
背景技术
高压静电净化器是以静电净化原理进行气体中微粒和液滴的装置。是空气净化的理想设备。它的净化工作主要依靠放电极和沉淀极这两个系统来完成，当两极间输入高压直流电时在电极空间，产生阴、阳离子，并作用于通过静电场的气体及粒子表面，在电场力的作用下向其极性相反的电极移动，并沉积于电极上，达到收尘目的。其中高压静电模块为特殊设计的双极平板百叶式，具有放电区和集尘区两个分区，相对传统的静电过滤网或蜂窝式电子空气净化器的净化效率最高。其主要原理是利用静电吸附颗粒物和吸附了细菌微生物的气溶胶，并击穿杀死通过电场的细菌和病毒。
传统行业中的高压静电净化技术常见的清洗维护方式是机械振打、超声波振打或人工将设备取下来用水来冲洗。其中振打方式通过振打两极装置，使粘附在其上的粉尘被抖落，落入下部灰斗经排灰装置排出机外，传统的清洗维护方式会存在二次扬尘，而人工清洗由存在后期人工维护成本高以及维护时间长工作效率低等问题。
对于多个待清洗面以一定间距排列的形式构成整体，现有技术中往往是对整体进行淋洗，无法做到每次彻底清洁每一个待清洗面，则一定会存在积尘积累问题，待积累到一定程度，即必须拆卸下来人工彻底清洗，即持续积尘又无法避免人工维护。
发明内容
根据本申请的又一个方面，提供了一种阵列式喷嘴平面清洗装置，该阵列式喷嘴平面清洗装置应用于平面清洗领域，避免了机械和超声振打导致的二次扬尘，不需要人工清洗和人工维护，每次清洗均能彻底清洁待清洗面，恢复洁净状态，提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工，该阵列式喷嘴平面清洗装置可以持续地同时保持多个待清洁表面的洁净，同时对每个平面进行喷射清洗，所有喷嘴固定，可靠性更高、故障率更低，是高效率对多个平面同时清洗的有效方案。
该阵列式喷嘴平面清洗装置包括包括固定设置的清洗喷嘴，每个所述清洗喷嘴具有至少一个出液口，每个待清洗平面至少具有一个所述出液口。
本申请中，所述待清洗表面或所述待清洗平面为需要清洗的表面。对于一个平板，根据具体情况其可能需要单面清洗或双面清洗，当该平板需要双面清洗时，一个平板具有两个待清洗表面。
优选地，任一个所述清洗喷嘴的出液口的出液端与其最接近的一个所述待清洗平面之间的距离为1mm～120mm。
优选地，任一个所述清洗喷嘴的出液口的出液端与其最接近的一个所述待清洗平面之间的距离为1mm～100mm。
优选地，所述每个清洗喷嘴具有一个或两个出液口，所述出液口的形状为狭缝。
优选地，所述阵列式喷嘴平面清洗装置中所有清洗喷嘴的出液口的狭缝相互平行；在清洗状态下，所述出液口的狭缝与所述待清洗平面平行。通常情况下待清洗表面为平面，即平板状，则对应的本申请技术方案的所述清洗喷嘴的出液口的狭缝为直线状，该直线状出液口的狭缝上各处均与所述平板状清洗表面的距离一致，通过线型出液口的喷射，对整个平面完整均匀冲刷以实现面清洗。
本申请中，所述出液口的狭缝与所述待清洗平面平行，不限于绝对完全平行，是指在工程设计或装配工艺中平行是优选方案，容许存在一定的偏离度；或者在产品的装配中以平行方式装配，但容许装配误差。只要喷嘴喷出的清洗液可以覆盖整个待清洗区域均可实现本申请的技术效果。
优选地，所述出液口的狭缝宽度为0.1mm～2mm。
进一步优选地，所述出液口的狭缝宽度范围上限选自2mm、1.8mm、1.5mm、1.2mm、1mm、0.9mm、0.8mm；所述出液口的狭缝宽度范围下限选自0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.8mm、0.9mm、1mm。
更进一步优选地，所述出液口的狭缝宽度为0.3mm～1mm。
优选地，所述清洗喷嘴包括导流部，所述导流部位于出液口的出液端下部，所述导流部与所述待清洗面之间的角度为5°～90°。
进一步优选地，所述导流部与所述待清洗面之间的角度范围上限选自90°、89°、85°、80°、75°、70°、60°、50°、45°、40°、30°；所述导流部与所述待清洗面之间的角度范围下限选自5°、10°、15°、20°、30°、40°、45°、50°、60°、70°。
进一步优选地，所述清洗喷嘴包括导流部，所述导流部位于出液口的出液端下部，所述导流部与所述待清洗面之间的角度为10°～60°。
本申请采用优化的出液喷射角度，使得所述清洗喷嘴喷射出来的清洗液能够切向喷射到待清洗表面上，有效的防止清洗液喷溅，因此能够高效地冲刷待清洗面，再利用清洗液的冲击力，能够高效地将待清洗面上的积尘完全清洗干净，即可以实现每次清洗均能彻底清洁待清洗面，恢复洁净状态。由于每次清洗都可以恢复洁净状态，没有积尘的累加问题，因此可以实现持续性的免维护。再结合智能化控制系统和/或自定义周期性清洗，能够实现智能自清洗且免维护。
优选地，所述清洗喷嘴包括导流部，所述导流部位于出液口的出液端，所述导流部与待清洗面的距离大于1mm。
进一步优选地，所述清洗喷嘴包括导流部，所述导流部位于出液口的出液端，所述导流部与待清洗面的距离为1mm～5mm。在产品实际应用中，导流部与待清洗面相邻之间的距离D的取值直接影响到导流部喷液方向与待清洗面之间的角度设计，所采用的设计标准是确保喷射出来的清洗液能够切向喷射到待清洗面上，有效的防止清洗液喷溅，既能高效清洗且避免喷溅清洗液的干扰和二次污染，又节省了清洗液。
优选地，所述清洗喷嘴脉冲喷射清洗液对所述待清洗平面冲刷清洗。采用脉冲喷射的方式，清洗效果优于连续喷射且更节省清洗液。
进一步优选地，所述脉冲喷射压力≥0.01Mpa。
更进一步优选地，所述脉冲喷射压力为0.01Mpa～1Mpa。
进一步优选地，所述脉冲喷射频率≥2次/分钟。
更进一步优选地，脉冲喷射频率为2次/分钟～120次/分钟。
更进一步优选地，所述脉冲喷射压力为0.01Mpa～10Mpa。再进一步优选地，所述脉冲喷射压力为0.02Mpa～0.2Mpa。
更进一步优选地，所述脉冲喷射频率为2次/分钟～120次/分钟。再进一步优选地，所述脉冲喷射频率为2次/分钟～30次/分钟。
作为一个优选的方案，所述出液口伸入相邻且相对的两个待清洗平面之间的间隙。所述清洗喷嘴的出液口伸入相邻且相对的两个待清洗平面之间的间隙，由于所述出液口距离所述待清洗平面的上端较近且高度差较小，则所述出液口的出液角度更大以配合所述清洗喷嘴与所述待清洗平面之间的位置关系且能够获得更好的冲刷清洗效果。
作为一个优选的方案，所述出液口的位置高于所述待清洗平面的顶端。
本申请一个优选的实施方式中，一个所述清洗喷嘴可以具有一个出液口，向一个所述待清洗表面冲刷清洗。本申请一个优选的实施方式中，由于待清洗表面往往为多个等间距排列，因此一个所述清洗喷嘴可以在左右两侧各具有一个出液口即可实现同时对其左右两侧的待清洗表面进行清洗的效果，可以进一步整合装置、减小设备及降低成本。
作为一个优选的方案，所述清洗喷嘴包括两侧相对设置的第一出液口和第二出液口，所述第一出液口和第二出液口的出液端分别设置有控制喷液方向的第一导流部和第二导流部，所述第一导流部和第二导流部分别与所述清洗喷嘴两侧的所述待清洗平面之间的角度一致。
所述第一导流部和第二导流部直接的底部可以为平底或者根据加工方式和应用场合设计匹配的形状。本申请一个优选的实施方式中，由于往往在静电净化设备中，正负极板(一般称为：集尘板和电离板)交替排布，因此相邻两个集尘板间还有一个电离板，本申请所述清洗喷嘴两个出液口间的结构设计可以在有效对两个出液口进行流量分流的同时，还能避免电离板的位置对所述清洗喷嘴的影响，并将出液口进一步伸入集尘板与电离板之间的间隙。
作为一个优选的方案，所述相邻两个待清洗平面间具有隔板，所述清洗喷嘴底部、第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构，所述上凹结构位于所述隔板上方，所述第一出液口和第二出液口分别伸入所述相邻的两个待清洗平面与其之间的隔板形成的两个间隙内。为提高清洗效果，所述出液口伸入相邻且相对的两个待清洗平面之间的间隙，既可以让所述出液口更直接的作用于所述待清洗平面，还可以避免多个所述出液口之间、以及多个待清洗平面之间清洗过程的相互影响。
优选地，所述阵列式喷嘴平面清洗装置包括进液口、分流管路、导流板；所述进液口与所述分流管路相通，所述分流管路侧面开有分流孔或分流槽，所述分流孔或分流槽朝向所述导流板；清洗液依次流经所述进液口、所述分流管路、所述所述分流孔或分流槽、所述导流板和所述清洗喷嘴，由所述出液口流出；所述分流管路和所述导流板沿与所述清洗喷嘴出液口的狭缝垂直的方向延伸布置。
不设置所述导流板，由于所述进液口用于连接清洗液源，其一般设置一个或少量几个所述进液口，因此所述分流管路在分布清洗液时，在靠近所述进液口的部位流量大、远离所述进液口的部位流量小，则导致阵列式喷嘴的出液量分布不均匀，进而影响部分待清洗平面的效果。
进一步优选地，所述导流板的横截面具有凹型结构，所述分流管路位于所述凹型结构内，且所述分流孔或分流槽朝向所述导流板的凹型结构。
更进一步优选地，所述导流板的凹型结构的横截面形状为弧形、V型或多边形。
根据本申请的又一个方面，提供了一种自清洗免维护静电净化系统，该自清洗免维护静电净化系统，避免了静电净化上的集尘由机械和超声振打导致的二次扬尘，不需要人工清洗和人工维护，每次清洗均能彻底清洁集尘板，恢复洁净状态，提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工，该自清洗免维护静电净化系统可以持续地同时保持其中的多个集尘板的洁净。
该自清洗免维护静电净化系统包括集尘段和固定于所述集尘段顶端的上述一个方面所述阵列式喷嘴平面清洗装置中的至少一个；
所述集尘段包括交替排列的集尘板和电离板。
优选地，每个集尘板的每个待清洗表面上端固定有一个所述清洗喷嘴。
优选地，每两个相邻的集尘板间固定有一个所述一个方面所述阵列式喷嘴平面清洗装置中的所述清洗喷嘴，所述第一出液口和第二出液口分别朝向所述两个相邻的集尘板上相面对的两个待清洗表面。
优选地，所述清洗喷嘴的出液口数量等于待清洗表面的数量。
作为本申请的一个优选方案，每个集尘板的待清洗平面固定有一个上述一个方面中所述的清洗喷嘴。所述清洗喷嘴为单个出液口，每两个相邻的集尘板间布置两个单出液口的清洗喷嘴，两个清洗喷嘴的出液口分别朝向所述两个相邻的集尘板。
作为本申请的一个优选方案，每两个相邻的集尘板间固定有一个上述一个方面中所述的具有第一出液口和第二出液口的清洗喷嘴，所述第一出液口和第二出液口分别朝向所述两个相邻的集尘板。在本段所述优选方案中，由于静电净化系统中，两个相邻的集尘板的相对的两个面均需要清洗，因此除了两个相邻的集尘板间分别设置两个清洗喷嘴外，还可以采用双面出液口的清洗喷嘴设置于两个相邻的集尘板之间，其第一出液口和第二出液口分别朝向所述两个相邻的集尘板的相对的两个面。既可以整合简化了设备，又提高了供液和清洗效率。
优选地，所述集尘板的顶端高度高于所述电离板的顶端高度，所述清洗喷嘴的出液口深入相邻的集尘板与电离板形成的间隙内。
优选地，所述集尘板的顶端高度高于所述电离板的顶端高度，所述清洗喷嘴的出液口位置高于所述待清洗平面的顶端。
优选地，所述清洗喷嘴底部的第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构，所述上凹结构位于所述电离板的上方，所述第一出液口和第二出液口分别深入所述相邻的两个集尘板及其之间的电离板形成的两个间隙内。本申请所述清洗喷嘴两个出液口间的结构设计可以在有效对两个出液口进行流量分流的同时，还能避免电离板的位置对所述清洗喷嘴的影响，并将出液口进一步伸入集尘板与电离板之间的间隙；
优选地，所述清洗喷嘴底部的第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构，所述上凹结构位于所述电离板的上方，所述第一出液口和第二出液口的位置高于所述集尘板和电离板的顶端。
优选地，所述清洗喷嘴每次清洗过程，每平方米的待清洗平面的清洗液用量不超过0.003m3。
进一步优选地，所述清洗喷嘴每次清洗过程，每平方米的待清洗平面的清洗液用量范围上限选自0.003m3、0.002m3、0.001m3、0.0005m3、0.0003m3、0.0002m3、0.0001m3；所述清洗喷嘴每次清洗过程，每平方米的待清洗平面的清洗液用量范围下限选自0.00001m3、0.00002m3、0.00003m3、0.00005m3、0.00008m3、0.0001m3、0.0002m3、0.0003m3、0.0005m3、0.0008m3、0.001m3、0.002m3。
更进一步优选地，所述清洗喷嘴每次清洗过程，每平方米的待清洗平面的清洗液用量不超过0.00001m3～0.001m3。
优选地，所述自清洗免维护静电净化系统包括清洗液分离循环装置，清洗过程中，清洗液冲刷集尘板后进入所述清洗液分离循环装置分离出固相后，液相供后续清洗使循环利用。
优选地，所述分离方式包括沉淀、分液、过滤中的至少一种。
优选地，所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量不超过0.45m3。
进一步优选地，所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量范围上限选自1m3、0.8m3、0.5m3、0.3m3、0.2m3、0.1m3、0.08m3、0.05m3、0.03m3、0.02m3、0.01m3；所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量范围下限选自
更进一步优选地，所述每平方米待清洗平面的清洗液年用量为0.0001m3～0.3m3。
优选地，所述自清洗免维护静电净化系统包括静电电离段和初效过滤滤网；所述待净化气体依次流经所述初效过滤滤网、所述静电电离段、所述集尘段。
根据本申请的又一个方面，提供了一种嵌入式自清洗免维护静电净化模块，所述嵌入式自清洗免维护静电净化模块可嵌入式安装在中央空调系统、中央通风系统和/或医疗系统中，所述嵌入式自清洗免维护静电净化模块包括上述一个方面所述阵列式喷嘴平面清洗装置中的至少一种或上述一个方面中所述自清洗免维护静电净化系统中的至少一种。
本申请能产生的有益效果包括：
1)本申请所提供的阵列式喷嘴平面清洗装置，应用于平面清洗领域，不仅避免了机械和超声振打导致的二次扬尘，不需要人工清洗和人工维护，重要的每次清洗均能彻底清洁待清洗面，恢复洁净状态，提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工，能够同时对每个平面进行喷射清洗，所有喷嘴固定，可靠性更高、故障率更低，是高效率对多个平面同时清洗的有效方案。
2)本申请所提供的阵列式喷嘴平面清洗装置中的清洗喷嘴，能彻底清洁待清洗面，恢复洁净状态，提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工，该清洗喷嘴可以持续保持待清洁表面的洁净。
3)本申请所提供的自清洗免维护静电净化系统，具有上述清洗喷嘴、上述可移动喷嘴平面清洗装置和/或上述阵列式喷嘴平面清洗装置的有益效果，每次清洗均能彻底清洁待清洗面，恢复洁净状态，在至少15年的使用寿命内的净化效率始终保持在初始效率的90％～100％范围内。
4)本申请所提供的自清洗免维护静电净化系统，具有节约能耗的优势：相比未采用本申请技术方案的静电净化产品需要定期维护、且维护周期长的缺点，积灰程度逐渐严重导致风阻逐渐增大、能耗损失严重的弊端，采用本申请技术方案的所述自清洗免维护静电净化系统，由于每次清洗均能彻底清洁待清洗面，因此其阻力损失持续地保持在30pa以下的超低风阻水平，不影响风机的进风、出风效果。因此在其使用过程中因风阻小节约的风机动力能耗，在至少15年的使用寿命内其累积的能耗节约量将相当显著。
5)本申请所提供的自清洗免维护静电净化系统及应用，具有高经济效益：采用本申请的技术方案，无需人工维护。设备一次性投入，安装后几乎不需要定期进行人工维护，如与中央空调系统和/或通风系统组合使用，在确保净化效率的同事能够有效的优化空调系统的能耗问题；整机采用全金属材质，使用寿命长达15年，期间节约的人工成本将非常显著。同时设备达到寿命终点时，其材料也可以回收，实现循环利用，既节约资源又避免环境污染。
6)本申请所提供的自清洗免维护静电净化系统以及应用，具有极低的水资源消耗量：采用本申请的技术方案，清洗过程中，清洗液冲刷集尘板后，进行收集然后再沉淀，所用清洗液可循环利用，循环多次直至无法喷射以后才进行更换，其每平方米集尘板年耗清洗液用量约为0.3m3/年，远远低于现有技术中的每年耗水量几个数量级。如此低的年耗水量，几乎可以忽略对水资源的需求。
7)本申请所提供的阵列式喷嘴平面清洗装置、自清洗免维护静电净化系统和嵌入式自清洗免维护静电净化模块，应用广泛：可以与任何品牌空调VRV或多联机配套使用，产品广泛应用于办公楼、酒店、学校、商场及医疗系统等领域。
附图说明
图1为本申请一种实施方式的双出液口清洗喷嘴。
图2为本申请一种实施方式的双出液口清洗喷嘴。
图3为本申请一种实施方式的阵列式喷嘴平面清洗装置示意图。
图4为本申请实施例中阵列式喷嘴平面清洗装置局部放大示意图。
图5为本申请实施例中一种清洗喷嘴正视图和侧视图。
图6为本申请实施例中阵列式喷嘴平面清洗装置中喷嘴立体图。
图7为本申请实施例中阵列式喷嘴平面清洗装置中喷嘴俯视图。
图8为本申请实施例中阵列式喷嘴平面清洗装置中喷嘴侧视图。
图9为本申请实施例中阵列式喷嘴平面清洗装置中喷嘴标号示意图。
图10为本申请实施例中阵列式喷嘴平面清洗装置中各喷嘴相对流量分布图。
图11为本申请一实施例中自清洗免维护静电净化系统立体外观图。
图12为本申请一种实施方式的自清洗免维护静电净化系统剖视图。
图13为本申请一种实施方式的嵌入式自清洗免维护静电净化系统示意图。
图14为本申请一种实施方式的单侧出液口清洗喷嘴侧视图。
图15为本申请一种实施方式的单侧出液口清洗喷嘴主视图和侧视剖视图。
部件和附图标记列表：
| 附图标记 | 部件名称 |
| 1 | 集尘段 |
| 2 | 高压静电电离段 |
| 3 | 阵列式喷嘴平面清洗装置 |
| 4 | 初效过滤滤网 |
| 5 | 集尘板 |
| 6 | 电离板 |
| 7 | 进液口 |
| 8 | 清洗喷嘴 |
| 8-1 | 出液口 |
| 8-3 | 出液口 |
| 8-3 | 导流部 |
| 9 | 导流板 |
| 11 | 喷嘴 |
| 1101 | 出液口 |
| 1102 | 出液口 |
| 1103 | 导流部 |
具体实施方式
下面结合实施例详述本申请，但本申请并不局限于这些实施例。
如无特别说明，本申请的实施例中的原材料和加工设备均通过商业途径购买。
实施例1 阵列式喷嘴平面清洗装置——清洗喷嘴
在本申请的一种具体实施方式中，阵列式喷嘴平面清洗装置采用双侧出液口清洗喷嘴。
该阵列式喷嘴平面清洗装置中的清洗喷嘴8的结构示意图见图1，清洗喷嘴8包括出液口8-1、出液口8-2和导流部8-3，清洗过程是清洗液离开喷嘴8后，射流到集尘板5上，利用喷嘴8与集尘板5之间的角度关系，使得喷嘴8喷射出来的清洗液能够切向冲刷集尘板5，再利用清洗液的冲击力，能够有效的清洗集尘板5上的积灰；结合智能化控制系统，和自定义周期性清洗，能够实现人工智能免维护自清洗。
喷嘴8的最低处低于集尘板5和电离板6的最高处，即，喷嘴8的出液口8-1和出液口8-2及导流部8-3是伸入集尘板5和电离板6之间的间隙里面的。所述出液口8-1和出液口8-2的开口截面积和导流部8-3的角度是经过设计计算的，本实施例中集尘板5和电离板6之间的距离d≥5mm。出液口8-1和出液口8-2的开口狭缝宽度尺寸σ满足0.1mm≤σ≤2mm，导流部8-3为倒V型结构，导流部8-3与集尘板5的角度λ满足5°<λ<90°。因在产品实际应用中，集尘板5相邻两板之间的距离d的取值直接影响到导流部8-3与集尘板5的角度设计，所采用的设计标准是出液口8-1和出液口8-2喷射出来的清洗液能够切向喷射到集尘板5上，有效的防止清洗液喷溅。作为几个典型的实施方式，集尘板5与电离板的距离d、导流部到集尘板5的距离D1、出液口8-2的开口狭缝宽度尺寸σ、导流部8-3与集尘板5的角度λ见表1。
表1
| 实施例编号 | d | D1 | σ | λ | 喷射方向 |
| 实施例1-1 | 5mm | 1mm | 1mm | 5° | 切向 |
| 实施例1-2 | 8mm | 2mm | 0.1mm | 60° | 切向 |
| 实施例1-3 | 12mm | 3mm | 0.8mm | 10° | 切向 |
| 实施例1-4 | 20mm | 4mm | 1.5mm | 75° | 切向 |
| 实施例1-5 | 30mm | 5mm | 2mm | 80° | 切向 |
实施例2 阵列式喷嘴平面清洗装置——清洗喷嘴
在本申请的一种具体实施方式中，阵列式喷嘴平面清洗装置中的喷嘴11的结构见图2，与实施例1不同的是，喷嘴11的最低处高于集尘板5和电离板6的最高处。喷嘴11包括出液口1101、出液口1102和导流部1103均位于集尘板5和电离板6的间隙以外。其中，由于出液口1101、出液口1102和导流部1103距离集尘板5的位置比实施例1稍远，且位置更高，因此导流部1103与集尘板5之间的角度λ设计比实施例1更小。作为几个典型的实施方式，集尘板5与电离板的距离d、出液口的出液端到集尘板5的距离D2、出液口8-2的开口狭缝宽度尺寸σ、导流部8-3与集尘板5的角度λ见表2。
表2
| 实施例编号 | d | D2 | σ | λ | 喷射方向 |
| 实施例2-1 | 5mm | 1mm | 1mm | 50° | 切向 |
| 实施例2-2 | 8mm | 2mm | 0.1mm | 30° | 切向 |
| 实施例2-3 | 12mm | 5mm | 0.8mm | 45° | 切向 |
| 实施例2-4 | 20mm | 10mm | 1.5mm | 60° | 切向 |
| 实施例2-5 | 30mm | 100mm | 2mm | 70° | 切向 |
实施例3 单侧出液口喷嘴
与实施例1的喷嘴结构类似，不同的是本实施例的喷嘴为单侧出液口，请参见图14，为本实施例单侧出液口喷嘴的侧视图。本实施例单侧出液口喷嘴的主视图请见图15(b)，其A-A方向的侧视剖视图为图15(a)。
在一个具体实施方式中，阵列式喷嘴平面清洗装置中，每两个相邻的集尘板5之间布置两个本实施例的单侧出液口喷嘴，两个喷嘴的出液口分别朝向两侧的集尘板5。
实施例4 阵列式喷嘴平面清洗装置
本实施例中描述的是实施例1中的喷嘴以阵列固定布置的方式构成阵列式喷嘴平面清洗装置，在多个待清洗板阵列的顶端，每个待清洗平面均布置一个出液口，如图3所示，其中图3(a)为图3(b)中B-B截面剖视图，每一片集尘板上均有一个喷嘴出液口，所有喷嘴固定设置。图3中C部分区域放大图见图4，交替排布的集尘板5和电离板6，集尘板5的高度高于电离板6，相邻两个集尘板5的间隙内，伸入一个实施例1中的喷嘴。喷嘴的正视图见图5(b)，其侧视剖视图见图5(a)。
本实施例中阵列式喷嘴平面清洗装置，在集尘板5积尘达到设定的需要清洗的程度时，控制阵列式喷嘴向集尘板5喷射清洗液，脉冲喷射压力0.02Mpa，脉冲喷射频率120次/分钟。由于实施例1中喷嘴的角度与狭缝宽度的设计是对集尘板5与电离板6间距以及出液口位置的优化，因此仅需少量清洗液，即可彻底清洗集尘板5表面的积尘，使得集尘板5与电离板6恢复到初始的无积尘状态。
实施例5 阵列式喷嘴平面清洗装置
喷嘴固定布置方式与实施例4相同，只是本实施例中的喷嘴为实施例2的喷嘴，脉冲喷射压力1Mpa，脉冲喷射频率2次/分钟。其余部分与实施例4相同。
实施例6 阵列式喷嘴平面清洗装置
喷嘴固定布置方式与实施例4相同，只是本实施例中的喷嘴为实施例3的单侧出液口喷嘴，每两个相邻的集尘板5直接布置两个单侧出液口喷嘴，出液口分别朝向两个相邻的集尘板5。其余部分与实施例4相同。
实施例7 阵列式喷嘴平面清洗装置
喷嘴及固定布置方式与实施例4相同。
在实施例4的基础上，如图6阵列式喷嘴平面清洗装置的立体图所示，多个喷嘴阵列由一个共轨通道供给清洗液，共轨通道有两个进液口，图6的俯视图见图7。图7的侧视图见图8，进液口7将清洗液导入共轨通道中的分流管(图8中，共轨通道的中心)，分流管侧面的清洗液喷出孔射向导流板9，导流板9为多边形，也可以是弧形和V型，清洗液从进水口7进入，经过本申请的导流板9后，可以使得进入每个喷嘴8的流量都均匀。
对比例1 点淋洗
集尘段与实施例7相同，但喷嘴不同，对比例1采用2个圆形喷嘴，在整个集尘段的上方区域喷洒淋洗，采用与实施例7一样的清洗液和总流量，清洗效果很差，几乎无法清洗掉附着在集尘板5上的积尘。采用100倍于实施例7的流量，甚至更多的流量，也只能部分清洗，无法达到彻底清洗集尘板的效果。只能过一段时间拆下来人工彻底清洗，否则因积尘过多无法正常工作。
对比例2 不含导流板
与实施例7相同，仅拆除导流板9，图9所示的实施例7的阵列式喷嘴平面清洗装置均为共35个喷嘴，分别标号为801～8035。本对比例1与图9的喷嘴数量和分布相同，只是没有导流板9。
在本对比例2中，不含导流板9，如图10的各喷嘴相对流量分布图中“不加导流板9流量分布”曲线所示，每个喷嘴的流量分布差异很大，靠近进液口7的喷嘴流量明显大于其他喷嘴，这将导致：如果以靠近进液口的喷嘴流量为准，则其他喷嘴可能会出现清洗不彻底的问题；如果以所有喷嘴都能清洗彻底为准，则靠近进液口的喷嘴流量太大，导致喷溅干扰清洗以及二次污染等问题，而且清洗液消耗量很大。
而采用本申请实施例7的导流板9后，如图10相对流量图“加导流板9流量分布”曲线所示，图10中横坐标的1～35为图9中的喷嘴801～8035，纵坐标为相对流量。图10可见采用本申请实施例7的导流板9后，每个喷嘴的流量都均匀；未采用导流板9的对比例2的流量明显靠近进液口7的喷嘴809和8027附近的喷嘴流量太大。
因此采用导流板9的实施例7流量均匀效果的显著性非常明显的优于对比例2。
实施例8 自清洗免维护静电净化系统
本申请的自清洗免维护静电净化系统见图11，其主体为静电净化系统的顶部固定安装了本申请的阵列式喷嘴平面清洗装置，图11可见两个进液口。图11的剖视图见图12，其中，本申请实施例7的阵列式喷嘴平面清洗装置整合固定在一个高压静电净化设备中的集尘段上部，图12(a)为图12(b)的A-A侧视剖视图。由图11可见，整合本申请阵列式喷嘴平面清洗装置后的自清洗免维护静电净化系统，体积和形状变化不大，仅是顶部增加了10％左右的高度，侧面伸出了进液口而已。
自清洗免维护静电净化系统具有清洗液回收槽，清洗液落入下方的清洗液回收槽内后，沉淀，下次清洗时可以重复使用上方清液。
运行1年，清洗液共计消耗清洗液0.2m3。
期间风阻损失持续地保持在30pa以下的超低风阻水平，不影响风机的进风、出风效果。因此在其使用过程中因风阻小节约的风机动力能耗，在至少15年的使用寿命内其累积的能耗节约量将相当显著。
对比例3 水消耗量和风阻
喷嘴与对比例1相同，同样的工况，运行1年清洗液消耗量为120m3。可见，本申请实施例8的清洗液消耗量与对比例2相比，可以忽略不计。
对比例1在清洗后由于积尘不能彻底清除，风阻仍然较高，持续运行过程中超过100pa，至300Pa后不得不拆下来人工清洗。15年的能源消耗量远超过实施例8。
实施例9 嵌入式模块
见图13所示，本申请的阵列式喷嘴平面清洗装置和静电净化系统整合，可以嵌入式地与任何品牌空调VRV或多联机配套使用，产品广泛应用于办公楼、酒店、学校、商场及医疗系统等领域。图13中的免维护静电净化段即为阵列式喷嘴平面清洗装置和静电净化系统整合嵌入式模块。
清洗效果和耗水量同实施例7和8。
以上所述，仅是本申请的几个实施例，并非对本申请做任何形式的限制，虽然本申请以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限制本申请，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本申请技术方案的范围内，利用上述揭示的技术内容做出些许的变动或修饰均等同于等效实施案例，均属于技术方案范围内。
Claims (25)
1.一种阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述阵列式喷嘴平面清洗装置包括固定设置的清洗喷嘴，每个所述清洗喷嘴具有至少一个出液口，每个待清洗平面至少具有一个所述出液口；所述每个清洗喷嘴具有一个或两个出液口，所述出液口的形状为狭缝；所述清洗喷嘴的出液口的狭缝为直线状。
2.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，任一个所述清洗喷嘴的出液口的出液端与其最接近的一个所述待清洗平面之间的距离为1mm～100mm。
3.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述阵列式喷嘴平面清洗装置中所有清洗喷嘴的出液口的狭缝相互平行；在清洗状态下，所述出液口的狭缝与所述待清洗平面平行。
4.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述出液口的狭缝宽度为0.1mm～2mm。
5.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述出液口的狭缝宽度为0.3mm～1mm。
6.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述清洗喷嘴包括导流部，所述导流部位于出液口的出液端，所述导流部与待清洗面的距离为1mm～5mm。
7.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述清洗喷嘴包括导流部，所述导流部位于出液口的出液端下部，所述导流部与所述待清洗面之间的角度为10°～60°。
8.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述清洗喷嘴脉冲喷射清洗液对所述待清洗平面冲刷清洗。
9.根据权利要求8所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述脉冲喷射压力≥0.01Mpa，脉冲喷射频率≥2次/分钟。
10.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述出液口伸入相邻且相对的两个待清洗平面之间的间隙；
或者，所述出液口的位置高于所述待清洗平面的顶端。
11.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述清洗喷嘴包括两侧相对设置的第一出液口和第二出液口，所述第一出液口和第二出液口的出液端分别设置有控制喷液方向的第一导流部和第二导流部，所述第一导流部和第二导流部分别与所述清洗喷嘴两侧的所述待清洗平面之间的角度一致。
12.根据权利要求11所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，相邻两个待清洗平面间具有隔板，所述清洗喷嘴底部、第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构，所述上凹结构位于所述隔板上方，所述第一出液口和第二出液口分别伸入所述相邻的两个待清洗平面与其之间的隔板形成的两个间隙内。
13.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述阵列式喷嘴平面清洗装置包括进液口、分流管路、导流板；
所述进液口与所述分流管路相通，所述分流管路侧面开有分流孔或分流槽，所述分流孔或分流槽朝向所述导流板；
清洗液依次流经所述进液口、所述分流管路、所述分流孔或分流槽、所述导流板和所述清洗喷嘴，由所述出液口流出；
所述分流管路和所述导流板沿与所述清洗喷嘴出液口的狭缝垂直的方向延伸布置。
14.根据权利要求13所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述导流板的横截面具有凹型结构，所述分流管路位于所述凹型结构内，且所述分流孔或分流槽朝向所述导流板的凹型结构。
15.根据权利要求14所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述导流板的凹型结构的横截面形状为弧形、V型或多边形。
16.一种自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，所述自清洗免维护静电净化系统包括集尘段和固定于所述集尘段顶端的权利要求1至15任一项所述阵列式喷嘴平面清洗装置；
所述集尘段包括交替排列的集尘板和电离板。
17.根据权利要求16所述的自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，每个集尘板的每个待清洗表面上端固定有一个所述清洗喷嘴；或者，每两个相邻的集尘板间固定有一个权利要求12或13所述阵列式喷嘴平面清洗装置中的所述清洗喷嘴，第一出液口和第二出液口分别朝向所述两个相邻的集尘板上相面对的两个待清洗表面。
18.根据权利要求17所述的自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，所述集尘板的顶端高度高于所述电离板的顶端高度，所述清洗喷嘴的任一个出液口伸入相邻的集尘板与电离板形成的间隙内；或者，任一个所述出液口的位置高于所述集尘板和电离板的顶端。
19.根据权利要求17所述的自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，所述清洗喷嘴每次清洗过程，每平方米的待清洗平面的清洗液用量不超过0.002m3。
20.根据权利要求17所述的自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，所述清洗喷嘴每次清洗过程，每平方米的待清洗平面的清洗液用量为0.0005m3～0.003m3。
21.根据权利要求16所述的自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，所述自清洗免维护静电净化系统包括清洗液分离循环装置，清洗过程中，清洗液冲刷集尘板后进入所述清洗液分离循环装置分离出固相后，液相供后续清洗使循环利用。
22.根据权利要求21所述的自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，所述分离方式包括沉淀、分液、过滤中的至少一种。
23.根据权利要求21所述的自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，每平方米待清洗平面的清洗液年用量不超过0.45m3。
24.根据权利要求21所述的自清洗免维护静电净化系统，其特征在于，所述自清洗免维护静电净化系统包括静电电离段和初效过滤滤网，待净化气体依次流经所述初效过滤滤网、所述静电电离段、所述集尘段。
25.一种嵌入式自清洗免维护静电净化模块，其特征在于，所述嵌入式自清洗免维护静电净化模块可嵌入式安装在中央空调系统、中央通风系统和/或医疗系统中，所述嵌入式自清洗免维护静电净化模块包括权利要求1至15任一项所述阵列式喷嘴平面清洗装置中的至少一种或权利要求16或24任一项所述自清洗免维护静电净化系统中的至少一种。
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000047326A1 (en) * | 1999-02-10 | 2000-08-17 | Richards Clyde N | Charged droplet gas scrubber apparatus and method |
| WO2006125485A1 (de) * | 2005-05-21 | 2006-11-30 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Nasselektrostatische ionisierungsstufe in einer elektrostatischen abscheideeinrichtung |
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000047326A1 (en) * | 1999-02-10 | 2000-08-17 | Richards Clyde N | Charged droplet gas scrubber apparatus and method |
| WO2006125485A1 (de) * | 2005-05-21 | 2006-11-30 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Nasselektrostatische ionisierungsstufe in einer elektrostatischen abscheideeinrichtung |
| CN101460251A (zh) * | 2006-06-07 | 2009-06-17 | 阿尔斯托姆科技有限公司 | 湿式静电除尘器 |
| CN101396677A (zh) * | 2008-11-05 | 2009-04-01 | 中冶京诚工程技术有限公司 | 极板冲洗装置及方法 |
| CN201565359U (zh) * | 2009-11-16 | 2010-09-01 | 浙江大学 | 用于直流电晕放电烟气治理的分离式喷嘴电极装置 |
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