CN108594602A - 曝光设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种曝光设备，包括数个遮挡平台、分别设于所述数个遮挡平台上的数个第一挡板、设于所述数个遮挡平台一侧的数个光罩平台及设于所述光罩平台上的光罩，所述数个遮挡平台能分别沿所述光罩所在平面的第一方向来回移动，所述数个第一挡板能分别在对应的遮挡平台上沿所述光罩所在平面的第一方向伸缩运动，相对于现有技术来说，提高了第一挡板的作动范围，从而提高了第一挡板的遮挡区域的面积，进而提高光罩的非曝光区遮挡的灵活性，弥补了现有技术的曝光设备的功能缺陷，极大地提高了光罩的利用率。

Description

曝光设备
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光设备。
背景技术
曝光机是液晶面板行业中常用的一种扫描式曝光设备，用于关键组成部件CF(彩色滤光片)和TFT(薄膜晶体管)的生产制程。通过曝光显影制程，将光罩(Mask)图形成型转移到玻璃基板上。Nikon曝光机由拼接的镜头(lens)进行扫描式曝光，由于每次曝光面积有限，对于较大尺寸的玻璃基板需要进行多次曝光，在对光罩某一区域进行曝光时，其他不需要曝光的区域通过挡板进行遮挡。
如图1所示，现有技术的曝光设备包括光罩平台200、设于所述光罩平台200下方的镜头300、设于所述镜头300下方的第二挡板400及设于所述第二挡板400下方的基板载台500，所述光罩平台200包括第一挡板120与光罩220，所述光罩220被固定在所述光罩平台200上，不能相对于所述第一挡板120进行移动，所述第一挡板120可以在所述光罩平台200上伸缩运动，位于所述光罩220一侧的第一挡板120相对于光罩平台200最多只能移动至所述光罩220中间的位置，且所述光罩220两侧的第一挡板120位置不能同时小于100mm，导致所述第一挡板220的作动范围即曝光时遮挡的区域受限制。当产品设计需要进行不同区块小面积曝光时，无法通过所述第一挡板220实现两侧遮挡。因此，亟需一种能够解决上述问题的曝光设备。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光设备，可以提高光罩的非曝光区遮挡的灵活性，极大地提高光罩的利用率。
为实现上述目的，本发明提供了一种曝光设备，包括数个遮挡平台、分别设于所述数个遮挡平台上的数个第一挡板、设于所述数个遮挡平台一侧的数个光罩平台及设于所述光罩平台上的光罩，所述遮挡平台能沿所述光罩所在平面的第一方向来回移动。
所述数个遮挡平台分别通过单独驱动在所述第一方向上来回移动。
所述第一挡板与所述光罩平行。
所述第一挡板能沿所述第一方向在所述遮挡平台上伸缩运动。
所述数个第一挡板分别通过单独驱动在对应的遮挡平台上伸缩运动。
所述曝光设备还包括依次位于所述光罩平台远离所述遮挡平台一侧的数个镜头与数个第二挡板。
所述数个第二挡板能沿所述光罩所在平面的第二方向来回移动，所述第一方向与所述第二方向不同。
所述第一方向与所述第二方向垂直。
所述曝光设备还包括位于所述第二挡板远离所述镜头一侧的基板载台，所述基板载台用于承载基板；所述基板载台具有对位机构，所述对位机构用于对所述基板进行对位。
所述遮挡平台与所述第一挡板均为两个。
本发明的有益效果：本发明提供的一种曝光设备，包括数个遮挡平台、分别设于所述数个遮挡平台上的数个第一挡板、设于所述数个遮挡平台一侧的数个光罩平台及设于所述光罩平台上的光罩，所述数个遮挡平台能分别沿所述光罩所在平面的第一方向来回移动，所述数个第一挡板能分别在对应的遮挡平台上沿所述光罩所在平面的第一方向伸缩运动，相对于现有技术来说，提高了第一挡板的作动范围，从而提高了第一挡板的遮挡区域的面积，进而提高光罩的非曝光区遮挡的灵活性，弥补了现有技术的曝光设备的功能缺陷，极大地提高了光罩的利用率。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有技术的曝光设备的结构示意图；
图2为本发明的曝光设备的结构示意图；
图3-4为本发明的遮挡平台移动的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种一种曝光设备，包括数个遮挡平台10、分别设于所述数个遮挡平台10上的数个第一挡板12、设于所述数个遮挡平台10一侧的数个光罩平台20及设于所述光罩平台20上的光罩22；所述遮挡平台10能沿所述光罩22所在平面的第一方向来回移动。本发明通过将第一挡板12设置在遮挡平台10上，而不需要像现有技术一样将挡板设置在光罩平台20上，使得所述第一挡板12可以随着遮挡平台10在第一方向来回移动，有利于提高遮挡平台10的第一挡板12的遮挡的灵活性。
具体地，所述数个遮挡平台10分别通过单独驱动在所述第一方向来回移动，即可以控制任意一个遮挡平台10在所述第一方向上来回移动，不同的遮挡平台10在所述第一方向上移动的距离可以相同，也可以不同，极大地提高遮挡平台10的第一挡板12的遮挡的灵活性。
具体地，所述第一挡板12与所述光罩22平行，提高第一挡板12的有效遮挡面积。
具体地，所述第一挡板12能沿所述第一方向在所述遮挡平台10上伸缩运动，即所述第一挡板12可以在所述遮挡平台10上伸长或缩短，提高了第一挡板12的作动范围，从而提高了第一挡板12的遮挡区域的面积，进而提高光罩22的非曝光区遮挡的灵活性，极大地提高了光罩22的利用率。
进一步地，所述数个第一挡板12分别通过单独驱动在对应的遮挡平台10上伸缩运动，即可以控制任意一个第一挡板12在所述第一方向上伸长或缩短，不同的第一挡板12在对应的遮挡平台10上沿第一方向伸长或缩短，且不同的第一挡板12相对于对应的遮挡平台10在所述第一方向上伸长或缩短的距离可以相同，也可以不同，进一步提高遮挡平台10的第一挡板12的遮挡的灵活性。
具体地，所述曝光设备还包括依次位于所述光罩平台20远离所述遮挡平台10一侧的数个透镜30与数个第二挡板40。
具体地，所述数个第二挡板40能沿所述光罩22所在平面的第二方向来回移动，所述第一方向与所述第二方向不同。进一步地，所述第一方向与所述第二方向垂直。
具体地，所述曝光设备还包括位于所述第二挡板40远离所述镜头30一侧的基板载台50，所述基板载台50用于承载欲进行曝光的基板。所述基板载台50具有对位机构52，所述对位机构52用于对所述基板进行对位。
具体地，本实施例中所述遮挡平台10与所述第一挡板12均为两个，当然，也可以根据实际需求采用改变数量，所述遮挡平台10与所述第一挡板12也可以为两个以上。
值得一提的是，本发明通过将数个第一挡板12分别设置在数个遮挡平台10上，数个遮挡平台10分别通过单独驱动在所述光罩22所在平面的第一方向来回移动，同时数个第一挡板12分别通过单独驱动在对应的遮挡平台10上伸缩运动，若仅仅通过第一挡板12在遮挡平台10上伸缩运动无法到达遮挡区域，就可以通过移动遮挡平台10带动第一挡板12移动至遮挡区域，相对于现有技术来说，提高了第一挡板12的遮挡区域的面积，进而提高光罩22的非曝光区遮挡的灵活性，弥补了现有技术的曝光设备的功能缺陷，极大地提高了光罩的利用率。
综上所述，本发明提供的一种曝光设备，包括数个遮挡平台、分别设于所述数个遮挡平台上的数个第一挡板、设于所述数个遮挡平台一侧的数个光罩平台及设于所述光罩平台上的光罩，所述数个遮挡平台能分别沿所述光罩所在平面的第一方向来回移动，所述数个第一挡板能分别在对应的遮挡平台上沿所述光罩所在平面的第一方向伸缩运动，相对于现有技术来说，提高了第一挡板的作动范围，从而提高了第一挡板的遮挡区域的面积，进而提高光罩的非曝光区遮挡的灵活性，弥补了现有技术的曝光设备的功能缺陷，极大地提高了光罩的利用率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种曝光设备，其特征在于，包括数个遮挡平台(10)、分别设于所述数个遮挡平台(10)上的数个第一挡板(12)、设于所述数个遮挡平台(10)一侧的数个光罩平台(20)及设于所述光罩平台(20)上的光罩(22)，所述遮挡平台(10)能沿所述光罩(22)所在平面的第一方向来回移动。
2.如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述数个遮挡平台(10)分别通过单独驱动在所述第一方向上来回移动。
3.如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述第一挡板(12)与所述光罩(22)平行。
4.如权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述第一挡板(12)能沿所述第一方向在所述遮挡平台(10)上伸缩运动。
5.如权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，所述数个第一挡板(12)分别通过单独驱动在对应的遮挡平台(10)上伸缩运动。
6.如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括依次位于所述光罩平台(20)远离所述遮挡平台(10)一侧的数个镜头(30)与数个第二挡板(40)。
7.如权利要求6所述的曝光设备，其特征在于，所述数个第二挡板(40)能沿所述光罩(22)所在平面的第二方向来回移动，所述第一方向与所述第二方向不同。
8.如权利要求7所述的曝光设备，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向垂直。
9.如权利要求6所述的曝光设备，其特征在于，还包括位于所述第二挡板(40)远离所述镜头(30)一侧的基板载台(50)，所述基板载台(50)用于承载基板；
所述基板载台(50)具有对位机构(52)，所述对位机构(52)用于对所述基板进行对位。
10.如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述遮挡平台(10)与所述第一挡板(12)均为两个。
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