CN109597224B - 马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置。该马赛克拼接产品拼接区调整方法包括：步骤10、在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸；步骤20、在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射并固定其坐标，使其成为不可移动的照射；对于拼接成一个整体的面板的多个照射，以其中不可移动的照射为参照，调整其余可移动的照射的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合。本发明还提供了一种马赛克拼接产品拼接区调整装置。本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置由于采用针对马赛克拼接产品的新的优化手法，使得拼接产品的亮暗不均得到控制；也使得面板的首件完成时间大幅缩短。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置。
背景技术
液晶显示器(LCD)大部分为背光型液晶显示器，其是由液晶显示面板及背光模块(backlight module)所组成。一般的液晶显示面板包含彩色滤光片(Color Filter，CF)基板及薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列基板。CF基板上设有多个彩色滤光片和共同电极。TFT阵列基板上设有多条彼此平行的扫描线、多条彼此平行的数据线、多个薄膜晶体管及像素电极。
有机发光二极管(OLED)具备自发光能力，因此不需背光源，同时具有对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造简单等优异特性，被认为是下一代的平面显示器新兴技术。
在显示技术领域，平板显示技术(LCD、OLED)面板尺寸逐渐变大，所以工厂端近接式曝光机台(例如日本精工(NSK)近接式曝光机台)需要以马赛克(mosaic)拼接的方式进行大尺寸产品的曝光生产。从而拼接区的关键尺寸(CD)密集点会直接影响产品的亮暗不均(Mura)程度。拼接区关键尺寸不良，造成拼接亮暗不均，严重会导致模组制程(MOD)点灯会出现色偏等异常，降低产品的品质。
参见图1A及图1B，图1A为一种现有大尺寸面板马赛克拼接布局示意图，图1B为相应的光罩设计示意图。如图1A所示，在玻璃基板1上布局设置有两个第一尺寸的面板2和两个第二尺寸的面板3，面板2可以为49英寸的面板，面板3可以为75英寸的面板；如图1B所示，光罩4上设有用于特定一道光罩制程的图案5、图案61、图案62及图案63，利用曝光机台照射光罩4可以在玻璃基板1上形成相应的膜层，该道光罩制程具体可以为形成黑色矩阵膜层的光罩制程，图案5对应用于形成面板2的膜层，图案61、图案62及图案63对应用于形成面板3的膜层；进行曝光制程时，玻璃基板1位置保持固定，调整光罩4与玻璃基板1的相对位置后利用曝光机照射光罩4进行曝光。图1A中，每个虚线框表示曝光机台通过光罩4的一个照射(shot)，也就是确定光罩4相对于玻璃基板1的位置后，曝光机台根据光罩4的相应图案对基板上相应材料的一次曝光；在此现有设计中，对于49英寸的面板2不采用拼接设计，每个面板2的膜层需要光罩4的图案5在对应位置的一个照射直接进行曝光；对于75英寸的面板3采用拼接设计，每个面板3的膜层需要利用光罩4的图案61、图案62或者图案63在对应位置分别进行六个照射以马赛克拼接的方式进行曝光，相邻的拼接在一起的两个照射在拼接处重合并且形成马赛克拼接区，从而拼接区的关键尺寸密集点会直接影响产品的亮暗不均程度；曝光机台使用光罩4完成整个玻璃基板1的曝光，需要利用光罩4分别在对应位置进行十四个照射。
参见图2A和2B，其分别为马赛克拼接面板产品拼接区不良和拼接区优所得到的产品品质示意图。参见图2A，面板产品的拼接区关键尺寸不良，将造成拼接区亮暗不均，严重时导致模组制程点灯会出现色偏等异常，降低产品的品质；因此亟需提供一种马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置，改善拼接区亮暗不均，实现图2B所示的产品品质。
发明内容
因此，本发明的目的在于提供一种马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置，应对马赛克拼接产品在调整时候的困扰，改善拼接区亮暗不均。
为实现上述目的，本发明提供了一种马赛克拼接产品拼接区调整方法，包括：
步骤10、在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸；
步骤20、在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射并固定其坐标，使其成为不可移动的照射；对于拼接成一个整体的面板的多个照射，以其中不可移动的照射为参照，调整其余可移动的照射的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合。
其中，步骤20中采用自动光学检测机量测确认照射的位置。
其中，步骤10中按照曝光机台坐标系对光罩的长度尺寸进行补正。
其中，步骤20中，对于拼接成一个整体的面板的多个照射一起进行同步调整以使拼接后的所述面板符合预设的面板布局。
本发明还提供了一种马赛克拼接产品拼接区调整装置，包括：
补正模块，用于在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸；
调整模块，用于在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射并固定其坐标，使其成为不可移动的照射；对于拼接成一个整体的面板的多个照射，以其中不可移动的照射为参照，调整其余可移动的照射的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合。
其中，所述调整模块采用自动光学检测机确认照射的位置。
其中，所述补正模块按照曝光机台坐标系对光罩的长度尺寸进行补正。
其中，所述调整模块对于拼接成一个整体的面板的多个照射一起进行同步调整以使拼接后的所述面板符合预设的面板布局。
综上，本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置由于采用针对马赛克拼接产品的新的优化手法，使得拼接产品的亮暗不均得到控制；也使得面板的首件完成时间大幅缩短。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1A为一种现有大尺寸面板马赛克拼接布局示意图；
图1B为用于图1A的光罩设计示意图；
图2A和2B分别为马赛克拼接面板产品拼接区不良和拼接区优所得到的产品品质示意图；
图3为本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法的流程图；
图4A和4B分别为光罩的长度尺寸示意图以及光罩的补正坐标示意图；
图5A和图5B分别为本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法一较佳实施例中的照射的长度尺寸调整方式示意图以及马赛克拼接布局示意图；
图6为本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法中判断拼接区的两个照射的相对位置的原理图。
具体实施方式
参见图3，其为本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法的流程图。为应对马赛克拼接产品在调整时候的困扰，按照本发明的方法对光罩的长度尺寸(TP)即光罩(Mask)的正确位置进行补正可以较好的补正面板产品拼接区关键尺寸，改善拼接区亮暗不均，使产品品质得到保障。本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法主要包括：
步骤10、在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸；曝光机台通过光罩对马赛克拼接产品进行曝光前，先按照正常产品即没有采用马赛克拼接的面板产品的补正方式对光罩的长度尺寸即正确位置进行补正，通过补正光罩在曝光机台坐标系中的坐标来调整光罩与玻璃基板的相对位置，使光罩处于正确的高度和方向，以使光罩能够形成正确的曝光图案；由于照射是由曝光机台通过光罩进行，因此对光罩的补正是后续步骤中调整照射的基础。
参见图4A和4B，其分别为光罩的长度尺寸示意图以及光罩的补正坐标示意图，以日本精工的近接式曝光机台为例，应用于该曝光机台的光罩可以具有TP1～TP6共六个长度尺寸，在曝光机台的坐标系中，玻璃基板的坐标固定不变，可以通过在坐标系中补正光罩的坐标来补正光罩的长度尺寸，使光罩在坐标系中也就是相对于玻璃基板处于正确的方位；在后续的步骤中进一步可以通过补正光罩的坐标来改变每个照射的实际曝光位置。
步骤20、在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射并固定其坐标，使其成为不可移动的照射；对于拼接成一个整体的面板的多个照射，以其中不可移动的照射为参照，调整其余可移动的照射的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合。
参见图5A及图5B，图5A为本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法一较佳实施例中的照射的长度尺寸调整方式示意图，图5B为马赛克拼接布局示意图。图5A中第一个照射(照射1)～第十五个照射(照射15)各个照射在曝光机台坐标系中的位置分别以相应的方框作为代表，箭头表示照射的位置即坐标的调整趋势，虚线框表示玻璃基板11上的面板12的范围；图5B中，每个虚线框表示光罩的一个照射，具体包括照射1～照射15，每个照射表示确定了光罩相对于玻璃基板11的位置后，利用曝光机根据光罩的相应图案进行的一次曝光，因此每次曝光时光罩在曝光机台坐标系中的位置分别与图5A中各个照射在曝光机台坐标系中的位置对应；光罩上设有特定一道光罩制程的图案，该道光罩制程具体可以为形成黑色矩阵膜层的光罩制程；结合图5A及图5B可知，在玻璃基板11上布局设置有三个采用马赛克拼接方式曝光的面板12，每个面板12对应四个照射，其中一个面板12对应第十二个照射(照射12)、第十三个照射(照射13)、第十四个照射(照射14)及第十五个照射(照射15)。
根据步骤20，首先可以在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射，可以根据玻璃基板上预设的面板布局，从中选出影响玻璃基板上各个面板长度尺寸即正确位置的照射，例如第一个照射(照射1)、第十个照射(照射10)、第十一个照射(照射11)、第十五个照射(照射15)、第五个照射(照射5)及第六个照射(照射6)等，并固定其坐标，使其成为不可移动的照射，从而可以作为接下来调整其他照射的参照。同一面板内的照射向不可移动的照射靠拢，使得拼接处实现无缝接合；对于拼接成一个整体的面板12的多个照射，例如第十二个照射(照射12)、第十三个照射(照射13)、第十四个照射(照射14)及第十五个照射(照射15)，以其中不可移动的第十五个照射(照射15)为参照，调整其余可移动的第十二个照射(照射12)、第十三个照射(照射13)及第十四个照射(照射14)的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合，例如可以按图5A中箭头所示趋势分别调整第十二个照射(照射12)、第十三个照射(照射13)及第十四个照射(照射14)的位置即坐标。对于拼接成一个整体的面板的第十二个照射(照射12)、第十三个照射(照射13)、第十四个照射(照射14)及第十五个照射(照射15)，使相邻的照射的拼接处实现无缝接合后，还需要考虑是否会影响到拼接后的面板的长度尺寸即正确位置，若要调整则该四个照射需要一起进行同步调整以使拼接后的面板符合预设的面板布局。
参见图6，其为本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法中判断拼接区的两个照射的相对位置的原理图。本发明可以采用自动光学检测机(AOI)来确认照射的位置，曝光机台通过光罩对玻璃基板进行照射后，可以通过自动光学检测机量测确认拼接的照射之间的相对位置，根据照射之间的相对位置的量测结果由曝光机台对照射(也就是光罩)的坐标即位置进行补正，以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合。在自动光学检测机上判定原理如下；拼接马赛克区光罩设计原理上存在如下规律，通过将自动光学检测机的量测区域向马赛克拼接处两侧任一个方向移动可以很明显的确认马赛克拼接处对应两个照射的相对位置。以图6为例，除虚线框所示马赛克拼接处的区域较难判定照射的相对位置外，将自动光学检测机的量测区域朝任意选定一个方向移动，即移动到虚线框两侧的区域都容易判定照射的相对位置，利用自动光学检测机按照此规律对马赛克拼接处对应两个照射的相对位置进行判定，可以缩短判定时间，进而可以使得面板的首件完成时间大幅缩短。
本发明作为曝光机台针对马赛克拼接产品的调整手法，利用玻璃基板上拼接的照射在自动光学检测机的相对位位置进行量测以及判定照射之间的相对关系，进行调整照射的长度尺寸(TP)补正，将拼接区进行改善，使得拼接产品的亮暗不均得到控制。本发明针对拼接产品在近接式曝光机生产时前期的调整方式进行改善，可以加快首次生产的成功率，缩短调整时间；由于曝光机台具有记忆光罩位置(坐标)的功能，到后期曝光机台通过不断矫正实现很稳定的生产状况后，即可以不再采用本发明的方法进行拼接区调整。
基于本发明的马赛克拼接产品拼接区调整方法，本发明还提供了相应的马赛克拼接产品拼接区调整装置，主要包括：
补正模块，用于在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸；
调整模块，用于在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射并固定其坐标，使其成为不可移动的照射；对于拼接成一个整体的面板的多个照射，以其中不可移动的照射为参照，调整其余可移动的照射的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合。
综上，本发明马赛克拼接产品拼接区调整方法及装置由于采用针对马赛克拼接产品的新的优化手法，使得拼接产品的亮暗不均得到控制；也使得面板的首件完成时间大幅缩短。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。
Claims (4)
1.一种马赛克拼接产品拼接区调整方法，其特征在于，包括：
步骤10、在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸；
步骤20、在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射并固定其坐标，使其成为不可移动的照射；对于拼接成一个整体的面板的多个照射，以其中不可移动的照射为参照，调整其余可移动的照射的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合；
步骤20中，对于拼接成一个整体的面板的多个照射一起进行同步调整以使拼接后的所述面板符合预设的面板布局。
2.如权利要求1所述的马赛克拼接产品拼接区调整方法，其特征在于，步骤20中采用自动光学检测机量测确认照射的位置。
3.一种马赛克拼接产品拼接区调整装置，其特征在于，包括：
补正模块，用于在曝光机台坐标系中补正光罩的长度尺寸；
调整模块，用于在曝光机台坐标系中选定影响长度尺寸的照射并固定其坐标，使其成为不可移动的照射；对于拼接成一个整体的面板的多个照射，以其中不可移动的照射为参照，调整其余可移动的照射的坐标以使相邻的照射的拼接处实现无缝接合；
所述调整模块对于拼接成一个整体的面板的多个照射一起进行同步调整以使拼接后的所述面板符合预设的面板布局。
4.如权利要求3所述的马赛克拼接产品拼接区调整装置，其特征在于，所述调整模块采用自动光学检测机量测确认照射的位置。
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Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN110875343A (zh) * | 2019-11-28 | 2020-03-10 | 上海华力微电子有限公司 | 超大像素拼接产品版图结构、掩模板和制作方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1967381A (zh) * | 2005-11-18 | 2007-05-23 | 群康科技(深圳)有限公司 | 改善接合效应的光罩及采用该光罩的曝光方法 |
| JP2014071349A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法 |
| CN104391431A (zh) * | 2014-12-12 | 2015-03-04 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 曝光显影方法和系统、曝光控制系统 |
| CN108333881A (zh) * | 2018-01-22 | 2018-07-27 | 合肥芯碁微电子装备有限公司 | 一种应用于直写式曝光机的拼接调试方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN103092005B (zh) * | 2013-01-21 | 2015-01-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 玻璃基板的曝光对位方法 |
| US9087740B2 (en) * | 2013-12-09 | 2015-07-21 | International Business Machines Corporation | Fabrication of lithographic image fields using a proximity stitch metrology |
| CN106569390B (zh) * | 2015-10-08 | 2019-01-18 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种投影曝光装置及方法 |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1967381A (zh) * | 2005-11-18 | 2007-05-23 | 群康科技(深圳)有限公司 | 改善接合效应的光罩及采用该光罩的曝光方法 |
| JP2014071349A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法 |
| CN104391431A (zh) * | 2014-12-12 | 2015-03-04 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 曝光显影方法和系统、曝光控制系统 |
| CN108333881A (zh) * | 2018-01-22 | 2018-07-27 | 合肥芯碁微电子装备有限公司 | 一种应用于直写式曝光机的拼接调试方法 |
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| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |