CN1967381A - 改善接合效应的光罩及采用该光罩的曝光方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种改善接合效应的光罩，其包括多个区块，其中，相邻区块接合处是多个非直线形结构。在液晶显示器基板曝光中采用该种非直线形结构的光罩可以改善基板接缝处接合效应，以淡化观赏者察觉接缝边缘的直线效应。本发明还提供一种采用该光罩的曝光方法。
Description
【技术领域】
本发明是关于一种光罩及采用该光罩的曝光方法，特别是关于一种改善接合效应的光罩及采用该光罩的曝光方法。
【背景技术】
液晶显示器薄膜晶体管基板制程主要是在玻璃基板上经过多次涂敷、光罩制程，生成薄膜晶体管。光罩制程主要包括成膜→清洗→涂光阻剂→曝光→显影→蚀刻→去光阻剂→检查→成膜→清洗等步骤。在曝光步骤中，需要将已喷上感光极强的光阻剂的玻璃基板套上光罩，对其照射紫外光进行曝光。而曝光的品质直接影响到最终显示器的显示品质，曝光所采用的光罩对在曝光制程至关重要。
请参考图1，是利用一种现有技术的光罩曝光示意图。光罩20分为三个区块，其分别为第一区块I、第二区块II和第三区块III。该光罩20的第一区块I、第二区块II和第三区块III的接合处均是直线形结构。制程中，利用光罩对需要曝光的玻璃基板10从左至右依次曝光，曝光时，首先利用光照射光罩20的第一区块I形成曝光区1，然后光连续照射光罩20的第二区块II形成曝光区2、3和4，最后利用光照射光罩20的第三区块III形成曝光区5。该玻璃基板10的相邻二曝光区的接合部份形成接合(Stitching)区域8。由于该光罩20的第一区块I、第二区块II和第三区块III接合处是直线形，因此玻璃基板10在曝光过程中，该玻璃基板10的各曝光区之间均是以直线切割方式分区。
请一并参考图2，是图1曝光流程示意图。以曝光区4和5的接合区域8举例说明。该接合区域8包括三部份，分别为子接合区域81、82和83。接合区域8A中子接合区域81和82是由光罩20的第二区块II曝光而成，接合区域8B中子接合区域82和83是由光罩20的第三区块III曝光而成，该接合区域8由接合区域8A和接合区域8B合成。如图中所示能够观察到子接合区域82相较于子接合区域81和子接合区域83多了一次曝光，制程变异较大，导致灰阶变异较大，因此能够看见一整条直线，从而影响视觉品质。
请参考图3，是该接合区域产生接合效应的示意图，当对第二区块II曝光的强度与对第三区块III曝光的强度差异性较大时，如图中所示，子接合区域82阴影区域集中，子接合区域83阴影区域较少，使得接合区域的曝光制程异于正常区域的曝光制程，导致光学特性有差异，在基板上形成一条笔直的接合亮线(或黑线)，从而影响画面品质。
【发明内容】
为了克服现有技术光罩接合区域的曝光制程异于正常区域的曝光制程，导致光学特性有差异，在基板上形成一条笔直的接合亮线(或黑线)，从而影响画面品质的缺陷，有必要提供一种曝光过程中改善接合区域直线效应的光罩及采用该光罩的曝光方法。
一种改善接合效应的光罩，其包括多个区块，其中，相邻区块接合处是多个非直线形结构。
一种采用上述的改善接合效应的光罩的曝光方法，该光罩分为第一区块、第二区块和第三区块，其包括如下步骤：
步骤一：利用光照射一光罩的第一区块形成第一曝光区；
步骤二：利用光连续照射该光罩的第二区块形成多个第二曝光区；
步骤三：利用光照射该光罩的第三区块形成第三曝光区，其中，该光罩的相邻二区块接合处是多个非直线形结构。
相较于现有技术，上述的改善接合效应的光罩，在曝光过程中，其弯曲结构相较于现有直线结构能够增加观察者察觉边缘直线效应困难度，从而能够提高视觉品质。
【附图说明】
图1是一种现有技术的光罩曝光示意图。
图2是图1曝光流程示意图。
图3是图2接合区域产生接合效应的示意图。
图4是本发明的光罩曝光过程第一实施方式示意图。
图5是图4中接合区域对应像素的放大示意图。
图6是图5对应像素的变更形式示意图。
图7是本发明的光罩第二实施方式示意图。
图8是本发明的光罩第三实施方式示意图。
【具体实施方式】
请参考图4，是本发明的光罩曝光过程第一实施方式示意图。光罩200分为三个区块，其分别为第一区块I、第二区块II和第三区块III。该光罩200的第一区块I、第二区块II和第三区块III的二相邻区块接合处分别包括直线段和弧线段交替的结构。曝光步骤是由光照射该光罩200以在玻璃基板100上形成所需要的薄膜晶体管电极图案。将需要曝光的玻璃基板100从左至右依次曝光。首先利用光照射光罩200的第一区块I形成曝光区11；然后利用光连续照射光罩200的第二区块II形成曝光区12、13和14；最后利用光照射光罩200的第三区块III形成曝光区15，由此便完成整个玻璃基板100的整体曝光。玻璃基板100在曝光过程中，该玻璃基板100的各曝光区之间不是以一条直线方式分区，而均是以一非直线方式切割分区，即一直线段和弧线段交替分布。该种方法不会增加设计或制程难度和程序，因为其接合区域18为不规则的形状，因此能够避免观察者习惯性感知图形排列。
请参考图5，是图4中该接合区域18对应像素的放大示意图。如图中所示，每一个像素电极单元亮暗点呈不规则分布，阴影区域分散从而避免直线效应，因此观察者不容易看出一条亮线或暗线。
请参考图6，是图5接合区域18对应像素的变更形式示意图。该像素形状为S形该种结构也能够增加观察者察觉接合区域的直线效应困难度，从而能够提高视觉品质。该每一个单元形状不仅为S形也可为折线形或其它任意形。
请参考图7，是本发明的光罩第二实施方式示意图。光罩300分为三个区块，其分别为第一区块I、第二区块II和第三区块III。该光罩300的第一区块I、第二区块II和第三区块III接合处分别为一弧线形结构。
请参考图8，是本发明的光罩第三实施方式示意图。光罩400分为三个区块，其分别为第一区块I、第二区块II和第三区块III。该光罩400的第一区块I、第二区块II和第三区块III接合处分别为一折线形结构。
本发明还有其它变更形式，各区块接合处还可以分别为一条由弧线段和折线段形成的结构或一条由直线段和折线段形成的结构。光罩200、300和400不仅仅可以分为三区块，可以根据所曝光的玻璃基板面积大小而调节其大小。
Claims (10)
1.一种改善接合效应的光罩，其包括多个区块，其特征在于：相邻区块接合处是多个非直线形结构。
2.如权利要求1所述的改善接合效应的光罩，其特征在于：该非直线形结构是弧线形结构。
3.如权利要求1所述的改善接合效应的光罩，其特征在于：该非直线形结构是折线形结构。
4.如权利要求1所述的改善接合效应的光罩，其特征在于：该非直线形结构是直线段与弧线段交替分布的结构。
5.如权利要求1所述的改善接合效应的光罩，其特征在于：该非直线形结构是直线段与折线段交替分布的结构。
6.如权利要求1所述的改善接合效应的光罩，其特征在于：该非直线形结构是弧线段与折线段交替分布的结构。
7.如权利要求1所述的改善接合效应的光罩，其特征在于：该多个区块中每一区块包括多个像素单元，该多个像素单元是弯曲形结构。
8.一种改善接合效应的曝光方法，该光罩分为第一区块、第二区块和第三区块，其包括如下步骤：
步骤一：利用光照射一光罩的第一区块形成第一曝光区；
步骤二：利用光连续照射该光罩的第二区块形成多个第二曝光区；
步骤三：利用光照射该光罩的第三区块形成第三曝光区，其中，该光罩的相邻二区块接合处是多个非直线形结构。
9.如权利要求8所述的改善接合效应的曝光方法，其特征在于：该非直线形结构是弧线形结构。
10.如权利要求8所述的改善接合效应的曝光方法，其特征在于：该非直线形结构是折线形结构。
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| CNA2005101015522A CN1967381A (zh) | 2005-11-18 | 2005-11-18 | 改善接合效应的光罩及采用该光罩的曝光方法 |
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| CNA2005101015522A CN1967381A (zh) | 2005-11-18 | 2005-11-18 | 改善接合效应的光罩及采用该光罩的曝光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN1967381A true CN1967381A (zh) | 2007-05-23 |
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ID=38076211
Family Applications (1)
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2005
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