CN108559946B - 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板 - Google Patents

掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板 Download PDF

Info

Publication number
CN108559946B
CN108559946B CN201810454366.4A CN201810454366A CN108559946B CN 108559946 B CN108559946 B CN 108559946B CN 201810454366 A CN201810454366 A CN 201810454366A CN 108559946 B CN108559946 B CN 108559946B
Authority
CN
China
Prior art keywords
area
vapor deposition
mask plate
cooperation
invalid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810454366.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108559946A (zh
Inventor
韩冰
王徐亮
张玄
甘帅燕
高峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kunshan Guoxian Photoelectric Co Ltd
Original Assignee
Kunshan Guoxian Photoelectric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kunshan Guoxian Photoelectric Co Ltd filed Critical Kunshan Guoxian Photoelectric Co Ltd
Priority to CN201810454366.4A priority Critical patent/CN108559946B/zh
Publication of CN108559946A publication Critical patent/CN108559946A/zh
Priority to PCT/CN2018/113502 priority patent/WO2019218611A1/zh
Priority to US16/340,693 priority patent/US20210359209A1/en
Application granted granted Critical
Publication of CN108559946B publication Critical patent/CN108559946B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • B05B12/16—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
    • B05B12/20—Masking elements, i.e. elements defining uncoated areas on an object to be coated
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • B05B12/16—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
    • B05B12/32—Shielding elements, i.e. elements preventing overspray from reaching areas other than the object to be sprayed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C21/00—Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
    • B05C21/005—Masking devices
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及一种主掩膜板、配合掩膜板及掩膜组件，该掩膜组件包括具有蒸镀区的主掩膜板，具有配合区的配合掩膜板，主掩膜板的有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，配合掩膜板的第一配合区内布设有第一配合开口，第一配合开口在配合掩膜板上的正投影完全覆盖有效蒸镀开口在配合掩膜板上的正投影，且配合掩膜板的第二配合区遮挡主掩膜板无效蒸镀区内的无效蒸镀开口。上述掩膜组件中，主掩膜板上在异形的有效蒸镀区外开设无效蒸镀开口，可以平均有效蒸镀区边缘的应力，防止有效蒸镀区边缘因为受力不均而产生褶皱，提高蒸镀良率。同时，可以通过配合掩膜板上的第二配合区遮挡无效蒸镀区内的无效蒸镀开口，制得具有开槽区的异形显示面板。

Description

掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板
技术领域
本发明涉及显示器制备技术领域，特别是涉及掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板。
背景技术
目前OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)采用真空蒸镀技术制备有机发光层。在器件制备过程中，有机材料通过高温蒸镀沉积在位于蒸发源上方的基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，需要使用高精度金属掩膜板，掩膜板(即高精度金属掩膜板)上留有预先设计好的有效开口区域，通过该有效开口区域，有机材料沉积到背板上面，形成预设图形。
随着开槽的异形显示屏日渐占据主流市场，相应异形屏体的需求日渐增加。但是在制备异形屏的过程中，掩膜板容易褶皱而影响与玻璃基板的贴合，最终导致蒸镀良率较低。
发明内容
基于此，本发明提供了一种掩膜组件，解决了异形显示屏制备过程中掩膜板容易褶皱的问题，提高了蒸镀工艺的良率。
为了实现以上目的，本发明提供了一种掩膜组件。
一种掩膜组件，包括
具有蒸镀区的主掩膜板，所述主掩膜板包括蒸镀面和玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置；所述蒸镀区具有多个蒸镀开口，所述蒸镀区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，位于所述有效蒸镀区内的所述蒸镀开口为有效蒸镀开口，位于所述无效蒸镀区内的所述蒸镀开口为无效蒸镀开口；
具有配合区的配合掩膜板，所述配合掩膜板与所述主掩膜板的所述蒸镀面层叠，且所述配合区包括第一配合区和/或第二配合区，所述第一配合区与所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述无效蒸镀区对应；
其中，所述有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，所述第一配合区内布设有第一配合开口，所述第一配合开口在所述配合掩膜板上的正投影完全覆盖所述有效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影，且所述第二配合区遮挡所述无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。
上述掩膜组件中，配合掩膜板与主掩膜板层叠，通过配合掩膜板支撑主掩膜板，并且配合掩膜板不仅仅支撑主掩膜板上未开孔的区域，配合掩膜板还可以支撑于主掩膜板的开设有效蒸镀开口的有效蒸镀区下方，可以加宽配合掩膜板的宽度，对主掩膜板提供足够的支撑力，提高蒸镀良率。同时，较宽的配合掩膜板上设置有与有效蒸镀区配合的第一配合区，不会影响主掩膜板蒸镀材料。并且，配合掩膜板上还设置有第二配合区，第二配合区与无效蒸镀区对应，且遮挡无效蒸镀区内的无效蒸镀开口。其中，无效蒸镀区可以与异形屏的开槽区对应，并在无效蒸镀区内开设无效蒸镀开口，与有效蒸镀区外的开槽区域内的开口相互遮蔽。主掩膜板上只在对应异形屏的显示区开设有有效蒸镀开口，形成异形的有效蒸镀区，而在异形的有效蒸镀区外开设无效蒸镀开口，可以平均有效蒸镀区边缘的应力，防止有效蒸镀区边缘因为受力不均而产生褶皱，提高蒸镀良率。同时，在主掩膜板上开设了平均应力的无效蒸镀开口后，通过配合掩膜板上的第二配合区遮挡无效蒸镀区内的无效蒸镀开口，在蒸镀过程中阻挡材料通过无效蒸镀开口，最终制得具有开槽区的异形显示面板。
在其中一个实施例中，所述主掩膜板包括蒸镀面和玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置；所述配合掩膜板与所述主掩膜板的所述蒸镀面层叠。
在其中一个实施例中，所述主掩膜板包括至少两个子掩膜板，所述无效蒸镀区包括第一无效蒸镀区，所述第一无效蒸镀区位于所述主掩膜板的相邻两个所述子掩膜板之间，且所述相邻两个所述子掩膜板上靠近所述第一无效蒸镀区的部分未设置异形开口区，所述第一无效蒸镀区内分布有多个所述无效蒸镀开口；
所述配合掩膜板包括第一配合掩膜板，所述第一配合掩膜板的所述第一配合区与所述相邻两个所述子掩膜板上靠近所述第一无效蒸镀区的部分所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第一无效蒸镀区对应，且遮挡所述第一无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。
在其中一个实施例中，所述主掩膜板包括至少一个所述子掩膜板，所述子掩膜板具有异形开口区，所述异形开口区内布设有所述蒸镀开口，且所述异形开口区内的所述蒸镀开口为无效蒸镀开口。
在其中一个实施例中，所述无效蒸镀区包括第二无效蒸镀区，所述第二无效蒸镀区位于所述主掩膜板一端，且与所述子掩膜板的所述异形开口区对应；
所述配合掩膜板包括第二配合掩膜板，所述第二配合掩膜板的所述第一配合区，与位于所述主掩膜板一端的子掩膜板的所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第二无效蒸镀区对应，且遮挡所述第二无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。
在其中一个实施例中，所述主掩膜板包括至少两个所述子掩膜板，所述无效蒸镀区包括第三无效蒸镀区，所述第三无效蒸镀区包括第三主无效蒸镀区和第三辅无效蒸镀区，所述第三主无效蒸镀区位于相邻两个所述子掩膜板之间，所述第三辅无效蒸镀区与所述子掩膜板的所述异形开口区对应；
所述配合掩膜板包括第三配合掩膜板，所述第三配合掩膜板的所述第一配合区，与所述相邻两个所述子掩膜板的部分所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第三主无效蒸镀区及所述第三辅无效蒸镀区对应，且遮挡所述第三主无效蒸镀区及所述第三辅无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。
在其中一个实施例中，位于所述第三主无效蒸镀区两侧的所述子掩膜板中，任意一个所述子掩膜板的异形开口区与所述第三主无效蒸镀区相邻。
在其中一个实施例中，位于所述第三主无效蒸镀区两侧的两个所述子掩膜板的异形开口区，分别设置于所述第三主无效蒸镀区的两侧。
在其中一个实施例中，所述异形开口区在所述主掩膜板主体上投影的形状为具有弧形倒角的多边形或圆形。
在其中一个实施例中，所述蒸镀区包括相互垂直的第一横向中心线和第一纵向中心线，所述蒸镀区所述第一横向中心线及所述第一纵向中心线均轴对称。
在其中一个实施例中，所述配合区包括相互垂直的第二横向中心线和第二纵向中线，所述配合区的关于所述第二纵向中心线轴对称；或者
所述配合区的关于所述第二横向中心线和所述纵向中心线均轴对称。
在其中一个实施例中，所述主掩膜板与所述配合掩膜板层叠时，所述第一纵向中心线与所述第二纵向中心线重合。
在其中一个实施例中，所述第二配合区内布设有多个第二配合开口，所述第二配合开口在所述配合掩膜板上的正投影与所述无效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影完全错开。
在其中一个实施例中，所述第一配合开口在所述配合掩膜板上的正投影与所述有效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影完全重合。
本发明还提供了一种主掩膜板，所述主掩膜板具有蒸镀区，所述蒸镀区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，所述有效蒸镀区内布设有多个贯穿所述主掩膜板的有效蒸镀开口，所述无效蒸镀区内布设有多个贯穿所述主掩膜板的无效蒸镀开口，且所述有效蒸镀区与显示面板的显示区对应。
本发明还提供了一种配合掩膜板，与主掩膜板层叠，所述主掩膜板包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，所述有效蒸镀区内分布有多个有效蒸镀开口，所述无效蒸镀区内分布有多个无效蒸镀开口；
所述配合掩膜板具有配合区，所述配合区包括第一配合区和/或第二配合区，所述第一配合区内布设有多个第一配合开口，每个所述第一配合开口在所述配合掩膜板上的正投影用于完全覆盖每个所述有效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影，所述第二配合区用于遮挡所述无效蒸镀区内的所述多个无效蒸镀开口。
在其中一个实施例中，所述配合区包括第一配合区和第二配合区，所述第二配合区与显示面板的开槽区对应，所述第一配合区包围于所述第二配合区外。
在其中一个实施例中，所述配合区包括第一配合区和第二配合区，所述第一配合区包括两个，所述第二配合区位于相邻两个所述第一配合区之间。
在其中一个实施例中，所述配合区包括所述第一配合区和所述第二配合区，所述第一配合区包括两个，所述第二配合区包括第二主配合区和第二辅配合区，所述第二主配合区位于相邻两个所述第一配合区之间，所述第二辅配合区与显示面板的异形开槽区对应，且所述第二辅配合区位于所述第二主配合区的任意一侧或相对两侧。
附图说明
图1为本发明一实施例中掩膜组件的结构示意图；
图2a为图1所示掩膜组件中主掩膜板的结构示意；
图2b为图1所示掩膜组件中配合掩膜板的结构示意图；
图3为本发明另一实施例中掩膜组件的结构示意图；
图4a为图3所示掩膜组件中主掩膜板的结构示意图；
图4b为图3所示掩膜组件中配合掩膜板的结构示意图；
图5为本发明又一实施例中掩膜组件的结构示意图；
图6为本发明又一实施例中掩膜组件的结构示意图；
图7为本发明又一实施例中掩膜组件的结构示意图；
图8为本发明又一实施例中掩膜组件的结构示意图；
图9为本发明一实施例中第一配合掩膜板的结构示意图；
图10为本发明一实施例中第二配合掩膜板的结构示意图；
图11为本发明一实施例中第三配合掩膜板的结构示意图；
图12为本发明又一实施例中第三配合掩膜板的结构示意图；
图13a为图1所示掩膜组件中无效蒸镀区的局部示意图；
图13b为图1所示掩膜组件中第二配合区的局部示意图；
图14为图1所示掩膜组件中无效蒸镀区和第二配合区层叠后的示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
正如背景技术所述，采用现有技术中的掩膜板制作异形显示屏时，会出现掩膜板容易褶皱的问题，发明人研究发现，出现这种问题的根本原因在于，通过掩膜板制备异形屏时，掩膜板上开设蒸镀开口的蒸镀区与异形屏的显示区匹配，例如，在显示区的形状为不对称的异形形状时，掩膜板上的蒸镀区也呈不对称的异形形状，具有异形形状的蒸镀区的掩膜板在张网过程中，异形蒸镀区的边缘容易受力不均而产生褶皱，从而会影响掩膜板与玻璃基板的贴合，最终影响蒸镀效果，降低良率。
如图1-4所示，基于上述原因，本发明公开了一种掩膜组件100，包括层叠设置的主掩膜板10和配合掩膜板30，配合掩膜板30和主掩膜板10均设置于支撑框架上，具体可以将配合掩膜板30和主掩膜板10拉紧焊接于支撑框架上。进一步地，主掩膜板10沿一个方向延伸设置，配合掩膜板30沿另一个方向支撑于主掩膜板10下方，通过配合掩膜板30支撑主掩膜板10。
进一步地，主掩膜板10包括蒸镀面和玻璃面，蒸镀面面向蒸镀源设置，玻璃面背向蒸镀源设置，为了进一步提高掩膜组件的蒸镀效果，本实施例中的配合掩膜板30与主掩膜板10的蒸镀面层叠。
如图2a和4a所示，主掩膜板10具有蒸镀区12，蒸镀区12具有多个蒸镀开口，且蒸镀区12包括有效蒸镀区121和无效蒸镀区123，位于有效蒸镀区121内的蒸镀开口为有效蒸镀开口(图未示)，位于无效蒸镀区123内的蒸镀开口为无效蒸镀开口122(如图13a)。
如图2b和4b所示，配合掩膜板30具有配合区32，配合区32包括第一配合区321和第二配合区323，第一配合区321与有效蒸镀区121对应且布设有第一配合开口(图未示)。同时，有效蒸镀区121与显示面板的显示区对应，第一配合开口在配合掩膜板30上的正投影完全覆盖有效蒸镀开口在配合掩膜板30上的正投影，第二配合区323与无效蒸镀区123对应，且遮挡无效配合区123内的无效蒸镀开口122。
上述掩膜组件100中，有效蒸镀区121与显示面板的显示区对应，通过有效蒸镀区121内的有效蒸镀开口在基板上沉淀材料，以最终制得具有上述显示区的显示面板。
配合掩膜板30与主掩膜板10层叠，通过配合掩膜板30支撑主掩膜板10，而配合掩膜板30上设置有与有效蒸镀区121对应的第一配合区321，第一配合区321内布设有多个第一配合开口，第一配合开口在配合掩膜板30上的正投影完全覆盖有效蒸镀开口在配合掩膜板30上的正投影，也就是有效蒸镀区121内有效蒸镀开口的开口范围在第一配合开口的范围内，蒸镀材料通过第一配合开口后可继续通过有效蒸镀开口，最后在基板上沉积。
如此，配合掩膜板30不仅仅支撑主掩膜板10上未开孔的区域，配合掩膜板30还可以支撑于主掩膜板10的开设有效蒸镀开口的有效蒸镀区121下方，可以加宽配合掩膜板30的宽度，对主掩膜板10提供足够的支撑力，提高蒸镀良率。同时，较宽的配合掩膜板30上设置有与有效蒸镀区121配合的第一配合区321，不会影响主掩膜板10蒸镀材料。
并且，配合掩膜板30上还设置有第二配合区323，第二配合区323与无效蒸镀区123对应，且遮挡无效蒸镀区123内的无效蒸镀开口122。其中，无效蒸镀区123可以与异形屏的开槽区对应，并在无效蒸镀区123内开设无效蒸镀开口122，与有效蒸镀区121外的开槽区域内的开口相互遮蔽。主掩膜板10上只在对应异形屏的显示区开设有有效蒸镀开口，形成异形的有效蒸镀区121，而在异形的有效蒸镀区121外开设无效蒸镀开口122，可以平均有效蒸镀区121边缘的应力，防止有效蒸镀区121边缘因为受力不均而产生褶皱，提高蒸镀良率。
同时，在主掩膜板10上开设了平均应力的无效蒸镀开口122后，通过配合掩膜板30上的第二配合区323遮挡无效蒸镀区123内的无效蒸镀开口122，在蒸镀过程中阻挡材料通过无效蒸镀开口122，以最终制得具有开槽区的异形显示面板。
如图5、8-9所示，在一个实施方式中，主掩膜板10包括至少两个子掩膜板20，无效蒸镀区123包括第一无效蒸镀区125，第一无效蒸镀区125位于主掩膜板10的相邻两个子掩膜板20之间，且相邻两个子掩膜板20上靠近第一无效蒸镀区125的部分未设置异形开口区，同时第一无效蒸镀区125内分布有多个无效蒸镀开口122。配合掩膜板30包括第一配合掩膜板34，第一配合掩膜板34的第一配合区321与相邻两个子掩膜板20上靠近第一无效蒸镀区125的部分有效蒸镀区121对应，第二配合区323与第一无效蒸镀区125对应，且遮挡第一无效蒸镀区125内的无效蒸镀开口122。
其中，通过第一配合掩膜板34的第二配合区323遮挡第一无效蒸镀区125，以隔离相邻两个子掩膜板20，最终制得至少两个单独的显示面板。而在相邻两个子掩膜板20之间设置第二无效蒸镀区127，并在第二无效蒸镀区127内开设无效蒸镀开口122，可以更好的平均有效蒸镀区121边缘的应力，提高张网精度。
并且，对于第一配合掩膜板34，不仅只对应第二无效蒸镀区127的宽度设置，还对应第二无效蒸镀区127周围的有效蒸镀区121也支撑有第一配合掩膜板34，使第一配合掩膜板34的宽度更宽，避免第一配合掩膜板34只对应较窄的第二无效蒸镀区127设置时宽度过窄、支撑不足而影响蒸镀效果。本实施例中的掩膜组件100，可用于制备间距较窄的多个显示面板。
在另一实施方式中，子掩膜板20具有异形开口区，异形开口区内布设有多个蒸镀开口，且异形开口区的蒸镀开口为无效蒸镀开口122。子掩膜板20上设置异形开口区后，便可用于制作具有异形开槽区的显示面板，其中子掩膜板20的异形开口区与显示面板的开槽区对应设置。
进一步地，子掩膜板20的异形开口区在主掩膜板10主体上投影的形状为具有弧形倒角的多边形或圆形。如图1-2所示，子掩膜板20上的异形开口区与无效蒸镀区123对应，形状为具有弧形倒角的矩形，以对应得到具有矩形缺口的异形显示面板；如图3-4所示，子掩膜板20上的异形开口区与无效蒸镀区123对应，无效蒸镀区123的形状为圆形，以对应得到具有圆形缺口的异形显示面板。在其他实施例中，子掩膜板20上异形开口区的形状还可以为其他具有弧形倒角的多边形，或其他异形形状，在此仅以矩形和圆形为例进行说明。
如图6、10所示，在其中一个实施例中，无效蒸镀区123包括第二无效蒸镀区127，第二无效蒸镀区127位于主掩膜板10一端，且与子掩膜板20的异形开口区对应；配合掩膜板30包括第二配合掩膜板36，第二配合掩膜板36的第一配合区321，与位于主掩膜板10一端的子掩膜板20的有效蒸镀区121对应，第二配合区323与第二无效蒸镀区127对应，且遮挡第二无效蒸镀区127内的无效蒸镀区开口。此时，第二配合掩膜板36支撑于主掩膜板10的一端，并且与主掩膜板10一端子掩膜板20设有异形开口区的一端对应。
通过第二配合掩膜板36上的第二配合区323遮挡主掩膜板10上的第二无效蒸镀区127，在基板上对应显示面板的开槽区不沉淀材料，以制备异形显示面板，同时第二无效蒸镀区127周围的有效蒸镀区121对应第二配合掩膜板36上的第一配合开口，第二配合掩膜板36支撑于有效蒸镀区121下方后，对应开设第一配合开口，以允许蒸镀材料通过，避免第二配合掩膜板36影响有效蒸镀区121的蒸镀。
如此，在制备具有开槽区的异形显示面板时，在主掩膜板10的第二无效蒸镀区127内开设无效蒸镀开口122以平均有效蒸镀区121的边缘应力，减小褶皱，同时通过配合掩膜板30上的第二配合区323遮挡无效蒸镀开口122，在基板上对应开槽区的位置不会有材料沉积，以最终得到异形的显示面板，同时保证蒸镀良率。
如图5-7、11-12所示，在其中另一实施例中，无效蒸镀区123包括第三无效蒸镀区129，第三无效蒸镀区129包括第三主无效蒸镀区1292和第三辅无效蒸镀区1294，第三主无效蒸镀区1292位于相邻两个子掩膜板20之间，第三辅无效蒸镀区1294与子掩膜板20的异形开口区对应。配合掩膜板30包括第三配合掩膜板38，第三配合掩膜板38的第一配合区321，与相邻两个子掩膜板20的部分有效蒸镀区121对应，第二配合区323与第三主无效蒸镀区1292及第三辅无效蒸镀区1294对应，且遮挡第三主无效蒸镀区1292和第三辅无效蒸镀区1294内的无效蒸镀开口122。此时，第三配合掩膜板38位于主掩膜板10的中部，支撑于相邻两个子掩膜板20之间，而通过第三配合掩膜板38的第二配合区323，遮挡第三主无效蒸镀区1292，隔离相邻两个子掩膜板20，以制备多个单独的显示面板。同时，还通过第三配合掩膜板38的第二配合区323，遮挡第三辅无效蒸镀区1294，以制备具有开槽区的异形显示面板。
进一步地，位于第三主无效蒸镀区1292两侧的子掩膜板20中，任意一个子掩膜20的异形开口区与第三主无效蒸镀区1292相邻，而第三辅无效蒸镀区1294与子掩膜板20的异形开口区对应。如此，在第三主无效蒸镀区1292的任意一侧设置有一个第三辅无效蒸镀区1294，以制备异形显示面板。或者，位于第三主蒸镀区1292两侧的两个子掩膜板20的异形开口区，分别设置于第三主无效蒸镀区1292两侧，而第三辅无效蒸镀区1294与子掩膜板20的异形开口区对应。如此，在第三主无效蒸镀区1292的相对两侧均设置第三辅无效蒸镀区1294，以制备异形显示面板。即，通过第三配合掩膜板38遮挡第三主无效蒸镀区1292，隔离相邻的两个子掩膜板20，同时还遮挡第三辅无效蒸镀区1294，最终制得异形显示面板。
如图13a、13b及14所示，在其中一个实施例中，第二配合区323内分布有多个第二配合开口322，无效蒸镀开口122在配合掩膜板30上的正投影与第二配合开口322在配合掩膜板30上的正投影完全错开，第二配合区323内未开设第二配合开口322的实体部分可以遮挡无效蒸镀开口122，进而使蒸镀材料无法从无效蒸镀开口122通过，对应无效蒸镀区123所在区域不会蒸镀材料，最终可得到具有缺口的异形屏。同时，对于配合掩膜板30本身，对应主掩膜板10的蒸镀区12设置配合区32，配合区32内的第一配合区321和第二配合区323内分别开设第一配合开口和第二配合开口122，使配合掩膜板30整体上的开设开口的区域较为均匀，以避免开口区域不均匀而使配合掩膜板30产生褶皱。如此在蒸镀过程中，避免主掩膜板10褶皱，同时避免与主掩膜板10配合的配合掩膜板30褶皱，提高蒸镀良率。
也就是说，可以根据实际的生产需求，在与制得的显示屏不需要显示的区域对应的掩膜板的区域，相应的，在配合掩膜板30上与这些区域对应的区域设置错位开口，并且在配合掩膜板30上与有效蒸镀区121对应的部分开设相一致的通孔以允许材料蒸镀材料通过，其中的无效蒸镀区123可以为异形显示屏的开槽区，也可以为相邻两个显示屏之间的隔离区，或者还可以为隔离区和开槽区的组合，对于无效蒸镀区123的具体形状，在此不做限定。
在本具体实施例中，第一配合开口在配合掩膜板30上的正投影与有效蒸镀开口在配合掩膜板30上的正投影完全重合，也就是使第一配合开口与有效蒸镀开口的尺寸及位置相一致，允许材料通过有效蒸镀区121的开口后继续通过第一配合区321内的开口。
可以理解地，在其他一些实施例中，第一配合开口在配合掩膜板30上的正投影区域大于有效蒸镀开口在配合掩膜板30上的正投影区域，第一配合区321内的第一配合开口较大，有效蒸镀区121内的有效蒸镀开口较小，材料先通过有效蒸镀区121内较小的有效蒸镀开口后必然可以通过较大的第一配合开口，最终可以在基板上沉积。
如图2a所示，在一个实施例中，蒸镀区12包括相互垂直的第一横向中心线a和第二纵向中心线b，蒸镀区12关于第一横向中心线a及第一纵向中心线b均轴对称，如此在制作具有开槽区的异形显示面板时，保证蒸镀区12在主掩膜板10整体上的均匀性，在蒸镀区12内开设开口后便可保证主掩膜板10上开口区域的均匀性，避免主掩膜板10在拉紧张网时因开口区域不均而褶皱。
如图2b所示，配合区32包括相互垂直的第二横向中心线c和第二纵向中心线d，配合区32关于第二纵向中心线d轴对称，保证配合区32在掩膜条30在垂直其延伸方向上的均匀性。或者，如图9所示，配合区32关于第二横向中心线和第二纵向中心线均轴对称，保证配合区32在配合掩膜板30横向及纵向上的均匀性，避免配合掩膜板30在拉紧张网时因开口区域不均而褶皱。
并且，如图1-2所示，在配合安装配合掩膜板30和主掩膜板10时，主掩膜板10和配合掩膜板30层叠，第一纵向中心线b与第二纵向中心线d重合设置，以保证配合掩膜板30上的配合区32与主掩膜板10上的蒸镀区12准确对位配合，进而保证两者的配合安装的精确度。
具体地，有效蒸镀区121内的有效蒸镀开口和无效蒸镀区123内的无效蒸镀开口122沿相同方向排列，且大小及间距均相同，也就是说有效蒸镀开口和无效蒸镀开口122的排列规律及大小完全一致，有效蒸镀区121和无效蒸镀区123只是对应显示屏体结构虚拟划分的区域限。而对于对应蒸镀区12设置的配合区32，其中第一配合区321内的第一配合开口对应有效蒸镀区121内的蒸镀开口31开设，以允许材料通过两个区域内的开口后在基板上沉积；第二配合区323内的第二配合开口122与无效蒸镀区123内的无效蒸镀开口122完全错位开设，如此无效蒸镀区123的蒸镀开口31部被第二配合区323内的实体部遮挡，阻挡蒸镀材料。
上述掩膜结构100可用于蒸镀异形显示屏，或者待制备的多个显示屏之间间距较窄时可采用上述掩膜结构100。其中，主掩膜板10的有效蒸镀区121与最终得到的显示屏的形状相对应，无效蒸镀区123对应异形显示屏的缺口区，或者相邻两个显示屏之间的隔离区，或者上述隔离区与缺口区的组合。有效蒸镀开口在配合掩膜板30上的正投影完全落入第一配合开口在配合掩膜板30的正投影内，蒸镀工艺中材料通过第一配合区321内的第一配合开口后可继续通过有效蒸镀区121内的有效蒸镀开口，最终在基板上沉积；无效蒸镀开口122被第二配合区323遮挡，避免蒸镀时在无效蒸镀区内沉积材料。也就是在异形屏的制备过程中，或者制备的多个显示屏之间的间距较窄时，设置较宽的配合掩膜板30，以提供足够的支撑力，提高蒸镀良率。同时，在主掩膜板10上设置包括有效蒸镀区121和无效蒸镀区123的蒸镀区12，可以通过无效蒸镀区123内的无效蒸镀开口平均有效蒸镀区121边缘的应力，避免主掩膜板10在拉伸张紧时因为开口区域不均褶皱，进一步提高蒸镀良率。
本发明还提供一种上述掩膜组件100中的主掩膜板10，主掩膜板10具有蒸镀区12，蒸镀区12包括有效蒸镀区121和无效蒸镀区123，有效蒸镀区121与显示面板的显示区对应，有效蒸镀区121内布设有多个贯穿主掩膜板10的有效蒸镀开口，无效蒸镀区123内布设有多个贯穿主掩膜板10的无效蒸镀开口122。对于具有开槽区的异形显示屏，无效蒸镀区123可以与异形显示屏的开槽区对应，同时在无效蒸镀区123内分布无效蒸镀开口122，补齐有效蒸镀区121外的缺口区域，使整个蒸镀区12的边缘受力均匀而防止产生褶皱，从而提高蒸镀良率。
本发明还提供一种上述掩膜组件100中的配合掩膜板30，配合掩膜板30与主掩膜板10层叠。主掩膜板10包括有效蒸镀区121和无效蒸镀区123，有效蒸镀区121内分布有多个有效蒸镀开口，无效蒸镀区123内分布有多个无效蒸镀开口；配合掩膜板30具有配合区32，配合区32包括第一配合区321和/或第二配合区323，第一配合区323内布设有多个第一配合开口，每个第一配合开口在配合掩膜板30上的正投影用于完全覆盖有效蒸镀开口在配合掩膜板30上的正投影，第二配合区323用于遮挡无效蒸镀区123内的无效蒸镀开口122。
配合掩膜板30支撑于主掩膜板10下方时，配合掩膜板30的第一配合区321与有效蒸镀区121对应，并支撑于部分蒸镀区12下方，如此不仅仅在主掩膜板10未设置的蒸镀区12的区域对应支撑，使配合掩膜板30的宽度较宽，可以提供足够的支撑力。并且，第一配合区321内开设有与有效蒸镀开口连通的第一配合开口，第一配合区321允许蒸镀材料通过，配合掩膜板30提供足够的支撑力的同时，不会对蒸镀区12蒸镀材料的功能产生影响。
如图9所示，在一个实施例中，配合区32包括第一配合区321和第二配合区323，第一配合区321包括两个，第二配合区323位于相邻两个第一配合区321之间。其中，第一配合区321与主掩膜板10的有效蒸镀区121对应，第二配合区323与主掩膜板10的无效蒸镀区123对应，通过第二配合区323遮挡无效蒸镀区123内的无效蒸镀开口，以制得多个单独的显示面板。
如图10所示，在另一实施例中，配合区32包括第一配合区321和第二配合区323，第二配合区323与显示面板的开槽区对应，第一配合区321包围于所述第二配合区323外。如此，配合掩膜板30可以支撑于主掩膜板10一端，并通过第二配合区323遮挡主掩膜板10上的无效蒸镀区123，而第二配合区323与显示面板的开槽区对应，进而使无效蒸镀区123也与显示面板的开槽区对应，如此便可制得具有开槽区的异形显示面板。并且，主掩膜板10上的蒸镀区12不需要对应异形显示面板的显示区设置，蒸镀区12的边缘受力均匀，蒸镀效果较好，产品良率较高。
如图11和12所示，在又一个实施例中，配合区32包括第一配合区321以及第二配合区323，第一配合区321包括两个，第二配合区323包括第二主配合区3232和第二辅配合区3234，第二主配合区3232位于相邻两个第一配合区321之间，第二辅配合区3234与显示面板的开槽区对应，且第二辅配合区3234位于第二主配合区3232的任意一侧或相对两侧。其中，第二主配合区3232遮挡主掩膜板10上的无效蒸镀开口后，分隔相邻的两个子掩膜板20，并且，第二辅配合区3234与显示面板的开槽区对应，以遮挡子掩膜板20上的异形开口区，如此制备具有开槽区的显示面板。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (19)

1.一种掩膜组件，其特征在于，包括：
具有蒸镀区的主掩膜板，所述蒸镀区具有多个蒸镀开口，所述蒸镀区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，位于所述有效蒸镀区内的所述蒸镀开口为有效蒸镀开口，位于所述无效蒸镀区内的所述蒸镀开口为无效蒸镀开口；
具有配合区的配合掩膜板，所述配合区包括第一配合区和/或第二配合区，所述第一配合区与所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述无效蒸镀区对应；
其中，所述有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，所述第一配合区内布设有第一配合开口，所述第一配合开口在所述配合掩膜板上的正投影完全覆盖所述有效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影，且所述第二配合区遮挡所述无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。
2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板包括蒸镀面和玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置；所述配合掩膜板与所述主掩膜板的所述蒸镀面层叠。
3.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板包括至少两个子掩膜板，所述无效蒸镀区包括第一无效蒸镀区，所述第一无效蒸镀区位于所述主掩膜板的相邻两个所述子掩膜板之间，且所述相邻两个所述子掩膜板上靠近所述第一无效蒸镀区的部分未设置异形开口区，所述第一无效蒸镀区内分布有多个所述无效蒸镀开口；
所述配合掩膜板包括第一配合掩膜板，所述第一配合掩膜板的所述第一配合区与所述相邻两个所述子掩膜板上靠近所述第一无效蒸镀区的部分所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第一无效蒸镀区对应，且遮挡所述第一无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。
4.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板包括至少一个子掩膜板，所述子掩膜板具有异形开口区，所述异形开口区内布设有所述蒸镀开口，且所述异形开口区内的所述蒸镀开口为无效蒸镀开口。
5.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述无效蒸镀区包括第二无效蒸镀区，所述第二无效蒸镀区位于所述主掩膜板一端，且与所述子掩膜板的所述异形开口区对应；
所述配合掩膜板包括第二配合掩膜板，所述第二配合掩膜板的所述第一配合区，与位于所述主掩膜板一端的子掩膜板的所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第二无效蒸镀区对应，且遮挡所述第二无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。
6.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板包括至少两个所述子掩膜板，所述无效蒸镀区包括第三无效蒸镀区，所述第三无效蒸镀区包括第三主无效蒸镀区和第三辅无效蒸镀区，所述第三主无效蒸镀区位于相邻两个所述子掩膜板之间，所述第三辅无效蒸镀区与所述子掩膜板的所述异形开口区对应；
所述配合掩膜板包括第三配合掩膜板，所述第三配合掩膜板的所述第一配合区，与所述相邻两个所述子掩膜板的部分所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第三主无效蒸镀区及所述第三辅无效蒸镀区对应，且遮挡所述第三主无效蒸镀区及所述第三辅无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。
7.根据权利要求6所述的掩膜组件，其特征在于，位于所述第三主无效蒸镀区两侧的所述子掩膜板中，任意一个所述子掩膜板的异形开口区与所述第三主无效蒸镀区相邻。
8.根据权利要求6所述的掩膜组件，其特征在于，位于所述第三主无效蒸镀区两侧的两个所述子掩膜板的异形开口区，分别设置于所述第三主无效蒸镀区的两侧。
9.根据权利要求4-8任意一项所述的掩膜组件，其特征在于，所述异形开口区在所述主掩膜板主体上投影的形状为具有弧形倒角的多边形或圆形。
10.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述蒸镀区包括相互垂直的第一横向中心线和第一纵向中心线，所述蒸镀区所述第一横向中心线及所述第一纵向中心线均轴对称。
11.根据权利要求10所述的掩膜组件，其特征在于，所述配合区包括相互垂直的第二横向中心线和第二纵向中线，所述配合区的关于所述第二纵向中心线轴对称；或者
所述配合区的关于所述第二横向中心线和所述纵向中心线均轴对称。
12.根据权利要求11所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板与所述配合掩膜板层叠时，所述第一纵向中心线与所述第二纵向中心线重合。
13.根据权利要求1-8任意一项所述的掩膜组件，其特征在于，所述第二配合区内布设有多个第二配合开口，所述第二配合开口在所述配合掩膜板上的正投影与所述无效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影完全错开。
14.根据权利要求1-8任意一项所述的掩膜组件，其特征在于，所述第一配合开口在所述配合掩膜板上的正投影与所述有效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影完全重合。
15.一种主掩膜板，其特征在于，所述主掩膜板具有蒸镀区，所述蒸镀区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，所述有效蒸镀区内布设有多个贯穿所述主掩膜板的有效蒸镀开口，所述无效蒸镀区内布设有多个贯穿所述主掩膜板的无效蒸镀开口，且所述有效蒸镀区与显示面板的显示区对应。
16.一种配合掩膜板，其特征在于，与主掩膜板层叠，所述主掩膜板包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，所述有效蒸镀区内分布有多个有效蒸镀开口，所述无效蒸镀区内分布有多个无效蒸镀开口；
所述配合掩膜板具有配合区，所述配合区包括第一配合区和/或第二配合区，所述第一配合区内布设有多个第一配合开口，每个所述第一配合开口在所述配合掩膜板上的正投影用于完全覆盖每个所述有效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影，所述第二配合区用于遮挡所述无效蒸镀区内的所述多个无效蒸镀开口。
17.根据权利要求16所述的配合掩膜板，其特征在于，所述配合区包括第一配合区和第二配合区，所述第二配合区与显示面板的开槽区对应，所述第一配合区包围于所述第二配合区外。
18.根据权利要求16所述的配合掩膜板，其特征在于，所述配合区包括第一配合区和第二配合区，所述第一配合区包括两个，所述第二配合区位于相邻两个所述第一配合区之间。
19.根据权利要求16所述的配合掩膜板，其特征在于，所述配合区包括所述第一配合区和所述第二配合区，所述第一配合区包括两个，所述第二配合区包括第二主配合区和第二辅配合区，所述第二主配合区位于相邻两个所述第一配合区之间，所述第二辅配合区与显示面板的异形开槽区对应，且所述第二辅配合区位于所述第二主配合区的任意一侧或相对两侧。
CN201810454366.4A 2018-05-14 2018-05-14 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板 Active CN108559946B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810454366.4A CN108559946B (zh) 2018-05-14 2018-05-14 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板
PCT/CN2018/113502 WO2019218611A1 (zh) 2018-05-14 2018-11-01 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板
US16/340,693 US20210359209A1 (en) 2018-05-14 2018-11-01 Mask assembly, main mask, and mating mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810454366.4A CN108559946B (zh) 2018-05-14 2018-05-14 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108559946A CN108559946A (zh) 2018-09-21
CN108559946B true CN108559946B (zh) 2019-07-23

Family

ID=63538501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810454366.4A Active CN108559946B (zh) 2018-05-14 2018-05-14 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20210359209A1 (zh)
CN (1) CN108559946B (zh)
WO (1) WO2019218611A1 (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108559946B (zh) * 2018-05-14 2019-07-23 昆山国显光电有限公司 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板
CN109972086B (zh) * 2019-03-14 2021-12-28 昆山国显光电有限公司 用于掩膜板的辅助配件及掩膜板组件
CN110158026B (zh) * 2019-04-19 2021-05-11 昆山国显光电有限公司 掩膜版和掩膜版的张网方法
CN110484864B (zh) * 2019-09-29 2021-09-10 京东方科技集团股份有限公司 子掩膜版以及掩膜版
CN110777328A (zh) * 2019-11-21 2020-02-11 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版、蒸镀系统及掩膜版的制备方法
CN110846614B (zh) * 2019-11-21 2022-03-25 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版和蒸镀系统
CN111575648B (zh) * 2020-06-23 2022-07-15 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件及其制造方法
CN112522665B (zh) * 2020-12-02 2022-11-18 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 掩膜条、掩膜板及显示面板的制备方法
CN112909067B (zh) * 2021-02-25 2023-04-18 云谷（固安）科技有限公司 显示面板及掩膜版组件
CN113215528B (zh) * 2021-04-28 2022-04-19 武汉天马微电子有限公司 显示面板的蒸镀组件、蒸镀方法及显示面板
CN115685661A (zh) * 2022-09-21 2023-02-03 惠科股份有限公司 光罩组件及基板的制备方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3402477B2 (ja) * 1992-10-16 2003-05-06 石川島播磨重工業株式会社 蒸着装置の無効蒸着物除去装置
CN201864769U (zh) * 2010-04-19 2011-06-15 潘宇强 一种用于蒸镀oled显示面板色彩的金属掩膜板结构
CN103236398B (zh) * 2013-04-19 2015-09-09 深圳市华星光电技术有限公司 光罩掩模板的制作方法及用该方法制作的光罩掩模板
KR102432350B1 (ko) * 2015-11-06 2022-08-16 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 이를 포함하는 증착 장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN105839052A (zh) * 2016-06-17 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板以及掩膜板的组装方法
KR101812772B1 (ko) * 2016-10-12 2017-12-27 이현애 유기 발광 소자용 마스크, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 증착장치
CN206266699U (zh) * 2016-11-23 2017-06-20 信利（惠州）智能显示有限公司 掩膜支撑套件
CN107058945B (zh) * 2017-04-20 2020-07-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板
CN107858650B (zh) * 2017-11-22 2020-07-24 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀设备和蒸镀方法
CN107815649B (zh) * 2017-11-22 2019-08-02 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀装置及蒸镀方法
CN107723659B (zh) * 2017-11-28 2019-11-08 信利（惠州）智能显示有限公司 用于蒸镀的掩膜板及制备方法
CN107916397B (zh) * 2018-01-02 2020-03-10 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、定位基板、掩膜板组件及蒸镀装置
CN108559946B (zh) * 2018-05-14 2019-07-23 昆山国显光电有限公司 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板

Also Published As

Publication number Publication date
CN108559946A (zh) 2018-09-21
US20210359209A1 (en) 2021-11-18
WO2019218611A1 (zh) 2019-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108559946B (zh) 掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板
CN107699854B (zh) 掩膜组件及其制造方法
CN109321880A (zh) 一种掩膜板
CN205688000U (zh) 一种掩膜板
CN108642440A (zh) 掩膜板及掩膜组件
US9105849B2 (en) Deposition mask and mask assembly having the same
JP5710843B2 (ja) マスクユニットおよび蒸着装置
CN106048521B (zh) 一种金属掩膜板的制备方法及金属掩膜板
US20210336147A1 (en) Mask
US20110185965A1 (en) Mask assembly
US20160369388A1 (en) Frame for Mask Plate and Mask Plate
CN208266253U (zh) 掩膜板
CN109182964B (zh) 掩膜板排版方法
CN109371369A (zh) 蒸镀腔结构及遮挡板结构
US10381423B2 (en) Mask frame assembly for electronic display device and method of manufacturing the same
KR100982021B1 (ko) 분할 마스크 조립체
TW201843864A (zh) 罩幕板及其製備方法
CN108193168B (zh) 掩膜板及其制作方法
CN114032499A (zh) 精密掩膜板和掩膜板
KR20100101436A (ko) 더미 슬릿부를 차단하는 차단부를 구비한 고정세 증착 마스크, 상기 고정세 증착 마스크를 이용한 유기 발광 소자의 제조 방법, 및 상기 제조 방법에 의해 제조된 유기 발광 소자
CN206512267U (zh) 一种掩模片及掩模板
CN103726030B (zh) 沉积装置以及使用其的有机发光显示装置的制造方法
CN108281575A (zh) 掩膜板及其制作方法
CN108468018B (zh) 掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备
CN209456545U (zh) 一种改进的oled蒸镀装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant