CN108535253B - 标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法 - Google Patents

标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108535253B
CN108535253B CN201810169816.5A CN201810169816A CN108535253B CN 108535253 B CN108535253 B CN 108535253B CN 201810169816 A CN201810169816 A CN 201810169816A CN 108535253 B CN108535253 B CN 108535253B
Authority
CN
China
Prior art keywords
optical film
splash
droplets
ink
emission
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810169816.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108535253A (zh
Inventor
越野哲史
井村圭太
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Publication of CN108535253A publication Critical patent/CN108535253A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108535253B publication Critical patent/CN108535253B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
    • G01N2021/8438Mutilayers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N2021/8477Investigating crystals, e.g. liquid crystals
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/888Marking defects
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9511Optical elements other than lenses, e.g. mirrors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513Liquid crystal panels

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Making Paper Articles (AREA)

Abstract

本发明提供即使在液滴从射出孔射出直至喷落于光学膜的过程中飞溅有飞沫的情况下,也能够抑制飞沫附着于膜的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率的标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法。标注装置能够通过对光学膜射出液滴而标注信息,其中,标注装置具备:液滴射出装置,其具有形成有向光学膜射出液滴的射出孔的射出面;以及飞溅限制构件,其设置在射出面与光学膜之间,且能够遮挡在液滴从射出孔射出直至喷落于光学膜的过程中飞溅的飞沫,在飞溅限制构件形成有沿与射出面的法线交叉的方向延展的遮挡面。

Description

标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法
技术领域
本发明涉及标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法。
背景技术
例如,偏振膜等光学膜在进行异物缺陷、凹凸缺陷等缺陷检查后卷绕于芯材。与缺陷的位置、种类相关的信息(以下称作“缺陷信息”)通过在光学膜的宽度方向的端部印刷条形码、在缺陷位置实施标注而记录于光学膜。卷绕于芯材的光学膜在卷绕量达到一定量时与上游侧的光学膜分离,并作为卷料辊而出厂。另外,根据在缺陷位置实施的标注而将光学膜切出,从而取出单张物品(产品)。
例如,在专利文献1中公开了如下的缺陷标注装置,该缺陷标注装置能够一边检测具有恒定的宽度且沿与宽度方向垂直的长度方向搬运的片状产品的局部缺陷,一边为了明示检测出的缺陷的部分而施加标注用的痕迹。另一方面,在专利文献2中,作为标注手法例示了喷墨等非接触的印刷方式。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-303580号公报
专利文献2:日本特开2011-102985号公报
本申请人还进行了能够通过对光学膜射出液滴从而标注信息的标注装置的开发。该标注装置具备液滴射出装置,该液滴射出装置具有形成有向光学膜射出液滴的射出孔的射出面。通过本发明人的研究得知:在这种标注装置中,除从射出孔射出的液滴的尺寸以及粘性等特性以外,还由于被射出液滴的印刷对象以及光学膜的搬运速度等,而在液滴从射出孔射出直至喷落于光学膜的过程中飞溅有飞沫。若飞溅的飞沫附着于光学膜的缺陷位置以外的区域,则原本应当作为产品而取出的部分有时会被飞沫污染,不得不将被污染的部分作为不合格品而废弃,存在产品的成品率降低的可能性。
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是鉴于上述情况而完成的,提供即使在液滴从射出孔射出直至喷落于光学膜的过程中飞溅有飞沫的情况下,也能够抑制飞沫附着于膜的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率的标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法。
用于解决课题的方案
为了实现上述目的,本发明采用了以下的方案。
(1)本发明的1个方式所涉及的标注装置能够通过对光学膜射出液滴而标注信息,其中,所述标注装置具备:液滴射出装置,其具有形成有向所述光学膜射出所述液滴的射出孔的射出面;以及飞溅限制构件,其设置在所述射出面与所述光学膜之间,且能够遮挡在所述液滴从所述射出孔射出直至喷落于所述光学膜的过程中飞溅的飞沫,在所述飞溅限制构件形成有沿与所述射出面的法线交叉的方向延展的遮挡面。
(2)在上述(1)所述的标注装置中,也可以为,所述飞沫包括从所述射出孔射出所述液滴时飞溅的第一飞沫、以及所述液滴喷落于所述光学膜时飞溅的第二飞沫中的至少一方。
(3)在上述(1)或(2)所述的标注装置中,也可以为,所述飞溅限制构件具备在与所述射出面的法线平行的方向上具有厚度的飞溅限制板。
(4)在上述(3)所述的标注装置中,也可以为,所述飞溅限制板具备隔着供所述液滴射出的射出通路而配置于一侧的第一飞溅限制板、以及隔着所述射出通路而配置于另一侧的第二飞溅限制板中的至少一方。
(5)在上述(4)所述的标注装置中,也可以为,所述射出通路沿着与铅垂方向交叉的方向,所述第一飞溅限制板配置于在铅垂方向上比所述射出通路靠上方的位置,所述第二飞溅限制板配置于在铅垂方向上比所述射出通路靠下方的位置。
(6)在上述(4)或(5)所述的标注装置中,也可以为,在所述第一飞溅限制板形成有沿与所述射出面的法线交叉的方向延展的第一遮挡面,在所述第二飞溅限制板形成有与所述第一遮挡面平行地延展的第二遮挡面。
(7)在上述(4)至(6)中任一项所述的标注装置中,也可以为,所述第一飞溅限制板与所述第二飞溅限制板分离的间隔大于所述射出孔的直径。
(8)在上述(5)所述的标注装置中,也可以为,所述飞溅限制板仅为所述第二飞溅限制板。
(9)在上述(1)至(8)中任一项所述的标注装置中,也可以为,所述标注装置还具备遮挡构件,该遮挡构件设置于所述射出面,且能够遮挡从所述射出孔射出所述液滴时飞溅的飞沫,在所述遮挡构件形成有开口部,该开口部在与所述射出孔对置的位置开口,并且具有遮挡向与所述射出面的法线交叉的方向飞溅的所述飞沫的内壁面。
(10)在上述(9)所述的标注装置中,也可以为,所述开口部的直径大于所述射出孔的直径。
(11)在上述(9)或(10)所述的标注装置中,也可以为,在所述开口部中的所述射出面侧的缘部形成有锥部,该锥部具有面向所述射出孔的倾斜面。
(12)在上述(1)至(11)中任一项所述的标注装置中,也可以为,所述标注装置还具备吸引装置,该吸引装置设置在所述射出面与所述光学膜之间,且能够吸引在所述液滴从所述射出孔射出直至喷落于所述光学膜的过程中飞溅的飞沫。
(13)在上述(12)所述的标注装置中,也可以为,所述吸引装置具备隔着供所述液滴射出的射出通路而配置于一侧的第一吸引机构、以及隔着所述射出通路而配置于另一侧的第二吸引机构中的至少一方。
(14)在上述(13)所述的标注装置中,也可以为,所述射出通路沿着与铅垂方向交叉的方向,所述第一吸引机构配置于在铅垂方向上比所述射出通路靠上方的位置,所述第二吸引机构配置于在铅垂方向上比所述射出通路靠下方的位置。
(15)在上述(14)所述的标注装置中,也可以为,所述吸引装置仅为所述第二吸引机构。
(16)在上述(1)至(15)中任一项所述的标注装置中,也可以为,所述液滴射出装置配置为,在搬运长条带状的所述光学膜的期间,隔着所述光学膜而与同所述光学膜接触的引导辊对置,且从所述光学膜的与同所述引导辊接触的位置相反的一侧射出所述液滴。
(17)本发明的1个方式所涉及的缺陷检查系统具备:搬运线,其搬运长条带状的膜;缺陷检查装置,其进行由所述搬运线搬运的膜的缺陷检查;以及上述(1)至(16)中任一项所述的标注装置,其能够通过根据所述缺陷检查的结果向缺陷的位置射出液滴而标注信息。
(18)在上述(17)所述的缺陷检查系统中,也可以为,所述标注装置对由所述搬运线沿与铅垂方向平行的方向搬运的膜从与铅垂方向交叉的方向射出所述液滴。
(19)在上述(17)所述的缺陷检查系统中,也可以为,所述标注装置对由所述搬运线沿与铅垂方向交叉的方向搬运的膜在铅垂方向上向上方射出所述液滴。
(20)在上述(17)至(19)中任一项所述的缺陷检查系统中,也可以为,所述缺陷检查系统还具备与所述膜接触的引导辊,所述标注装置隔着所述膜而与所述引导辊对置地配置,且从所述膜的与同所述引导辊接触的位置相反的一侧射出所述液滴。
(21)在上述(20)所述的缺陷检查系统中,也可以为,所述膜在40°以上且130°以下的角度范围内张挂于所述引导辊的外周面。
(22)本发明的1个方式所涉及的膜制造装置具备上述(17)至(21)中任一项所述的缺陷检查系统。
(23)本发明的1个方式所涉及的膜制造方法包括使用上述(17)至(21)中任一项所述的缺陷检查系统来进行标注的工序。
发明效果
根据本发明,能够提供即使在液滴从射出孔射出直至喷落于光学膜的过程中飞溅有飞沫的情况下,也能够抑制飞沫附着于膜的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率的标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法。
附图说明
图1是示出液晶显示面板的一例的俯视图。
图2是图1的II-II剖视图。
图3是示出光学膜的一例的剖视图。
图4是示出第一实施方式所涉及的膜制造装置的结构的侧视图。
图5是示出产品化工序的立体图。
图6是示出第一实施方式所涉及的标注装置中的液滴射出装置、遮挡板以及固定构件的立体图。
图7是示出第一实施方式所涉及的标注装置中的液滴射出装置、遮挡板以及固定构件的主视图。
图8是图7的VIII-VIII剖视图。
图9是图8的主要部分放大图,并且是用于对第一实施方式所涉及的遮挡板的作用进行说明的图。
图10是示出固定构件的第一变形例的图,并且是相当于图8的剖视图。
图11是示出固定构件的第二变形例的图,并且是相当于图8的剖视图。
图12是示出遮挡构件的变形例的图,并且是相当于图8的剖视图。
图13是示出第一实施方式的标注装置的立体图。
图14包括图13的主要部分放大图,是用于对第一实施方式所涉及的标注装置中的飞溅限制构件的作用进行说明的图。
图15是示出第二实施方式所涉及的标注装置的立体图。
图16是用于对第二实施方式所涉及的标注装置中的吸引装置的作用进行说明的图。
图17是示出第三实施方式所涉及的标注装置的图,并且是包含相当于图8的剖面的图。
附图标记说明
1…膜制造装置;2…缺陷检查装置;4、204、304…标注装置;4a…飞沫;4b…飞沫;7…引导辊;9…搬运线;10、310…缺陷检查系统;11…缺陷;12…信息;20…液滴射出装置;20A…射出头;21…射出孔;22…射出面;23…液滴射出装置的侧端部;30、130、230、330…遮挡构件、遮挡板;31、131、231、331…开口部;31a、131a、231a、331a…内壁面;32、332…第一主面(遮挡板的与射出面相反的一侧的面);33…遮挡板的侧端部;34…遮挡板的外缘部;40、140、340…固定构件;41…第一壁部;42…第二壁部;141、341…固定构件的侧壁部;230…筒构件;336…锥部;336a…倾斜面;d1…开口部的直径;d2…射出孔的直径;F10X…光学膜。
具体实施方式
(第一实施方式)
以下,参照附图详细地说明本发明的第一实施方式。
在本实施方式中,作为光学显示设备的生产系统,对构成其一部分的膜制造装置、以及使用该膜制造装置的膜制造方法进行说明。
膜制造装置制造树脂制的膜状的光学构件(光学膜)。例如,作为光学膜,可以列举偏振膜、相位差膜以及增亮膜等。例如,光学膜贴合于液晶显示面板以及有机EL显示面板等面板状的光学显示部件(光学显示面板)。膜制造装置构成生产包含这种光学显示部件、光学构件的光学显示设备的生产系统的一部分。
在本实施方式中,作为光学显示设备例示了透射型的液晶显示装置。透射型的液晶显示装置具备液晶显示面板和背光装置。在该液晶显示装置中,使从背光装置出射的照明光从液晶显示面板的背面侧入射,并使由液晶显示面板调制后的光从液晶显示面板的表面侧出射,从而能够显示图像。
(光学显示设备)
首先,作为光学显示设备,对图1以及图2所示的液晶显示面板P的结构进行说明。图1是示出液晶显示面板P的一例的俯视图。图2是图1的II-II剖视图。需要说明的是,在图2中省略了表示剖面的剖面线的图示。
如图1以及图2所示,液晶显示面板P具备:第一基板P1、与第一基板P1对置地配置的第二基板P2、以及配置在第一基板P1与第二基板P2之间的液晶层P3。
第一基板P1由在俯视观察时呈长方形的透明基板构成。第二基板P2由呈比第一基板P1小的长方形的透明基板构成。液晶层P3通过密封件(未图示)将第一基板P1与第二基板P2之间的周围密封,并配置在被密封件包围的在俯视观察时呈长方形的区域的内侧。在液晶显示面板P中,将在俯视观察时位于液晶层P3的外周的内侧的区域设为显示区域P4,将包围该显示区域P4的周围的外侧的区域设为边框部G。
在液晶显示面板P的背面(背光装置侧)依次层叠贴合有作为偏振膜的第一光学膜F11、以及与该第一光学膜F11重叠且作为增亮膜的第三光学膜F13。在液晶显示面板P的表面(显示面侧)贴合有作为偏振膜的第二光学膜F12。以下,有时将包括第一至第三光学膜F11~F13中的任一方的膜总称为光学膜F1X。
(光学膜)
接下来,对图3所示的光学膜F1X的一例进行说明。图3是示出光学膜F1X的结构的剖视图。需要说明的是,在图3中省略了表示剖面的剖面线的图示。
光学膜F1X能够通过从图3所示的长条带状的光学片FX切出规定的长度的片状件而得到。具体而言,该光学膜F1X具有:基材片F4、在基材片F4的一面(图3中的上表面)设置的粘合层F5、经由粘合层F5在基材片F4的一面设置的分隔片F6、以及在基材片F4的另一面(图3中的下表面)设置的表面保护片F7。
在基材片F4为例如偏振膜的情况下,具有一对保护膜F4b、F4c夹持偏振片F4a的结构。粘合层F5将基材片F4贴合于液晶显示面板P。分隔片F6保护粘合层F5。分隔片F6在将基材片F4借助粘合层F5而向液晶显示面板P贴合前,从光学膜F1X的粘合层F5剥离。需要说明的是,从光学膜F1X去除分隔片F6后的部分作为贴合片F8。
表面保护片F7保护基材片F4的表面。表面保护片F7在将贴合片F8的基材片F4粘贴于液晶显示面板P后,从基材片F4的表面剥离。
需要说明的是,对于基材片F4,可以省略一对保护膜F4b、F4c中的任一方。例如,可以省略粘合层F5侧的保护膜F4b,在偏振片F4a直接设置有粘合层F5。另外,可以对表面保护片F7侧的保护膜F4c实施例如保护液晶显示面板P的最外面的硬涂处理、得到防眩效果的防眩处理等表面处理。另外,对于基材片F4,不限于上述的层叠结构,也可以为单层结构。另外,也可以省略表面保护片F7。
(膜制造装置以及膜制造方法)
接下来,对图4所示的膜制造装置1进行说明。图4是示出第一实施方式所涉及的膜制造装置1的结构的侧视图。
例如,膜制造装置1制造在偏振膜的两面贴合有表面保护膜的光学膜F10X。膜制造方法包括光学膜F10X的制造工序。例如,膜制造方法包括:制造长条带状的偏振膜的卷料辊(未图示)的卷料辊制造工序、向长条带状的偏振膜贴合长条带状的表面保护膜从而制造长条带状的光学膜F10X的卷料辊R1的贴合工序、以及根据长条带状的光学膜F10X的缺陷检查的结果而在缺陷的位置进行标注的标注工序。需要说明的是,在标注工序之后,进行将被标注的部分作为不合格品而去除、并且将未被标注的部分作为合格品而回收的产品化工序。
例如,在卷料辊制造工序中,通过在对PVA(Polyvinyl Alcohol;聚乙烯醇)等成为偏振片的基材的膜实施染色处理、交联处理以及拉伸处理等后,在实施了上述处理的膜的两面贴合TAC(Triacetylcellulose;三乙酰纤维素)等保护膜从而制造长条带状的偏振膜,通过将所制造的偏振膜卷绕于芯材从而得到卷料辊(未图示)。
在贴合工序中,从长条带状的偏振膜的卷料辊以及长条带状的表面保护膜的卷料辊(均未图示)分别卷出长条带状的偏振膜以及长条带状的表面保护膜并通过夹持辊等进行夹持贴合并抽出,从而制造长条带状的光学膜F10X,通过将所制造的光学膜F10X卷绕于芯材从而得到卷料辊R1。例如,作为表面保护膜,使用PET(Polyethylene terephthalate;聚对苯二甲酸乙二醇酯)。
在标注工序中,根据缺陷检查的结果而向缺陷的位置射出墨水4i(液滴)从而向光学膜F10X标注信息。在此,“射出”是指,例如从图6所示的射出孔21发射墨水4i。在标注工序中,通过在光学膜F10X的缺陷位置印刷(标注)比缺陷大的点状的标识,从而在缺陷位置直接进行记录。
图5是示出产品化工序的立体图。
如图5所示,在产品化工序中,由长条带状的光学膜F10X得到多个单张物品(产品)。在光学膜F10X中的缺陷11的附近印刷有比缺陷11大的点状的标识12。需要说明的是,光学膜F10X中的区域MA是在膜宽度方向整体实施有标注(以下称作“全宽度标注”)的区域。例如,在光学膜F10X的规定区域发现多个缺陷时等进行全宽度标注。
产品化工序包括根据标注的信息而将光学膜F10X切断的切断工序。在切断工序中,根据标注的信息将光学膜F10X切出,从而取出单张物品(产品)。在产品化工序中,将被标注的部分作为不合格品13而去除,并且将未被标注的部分作为合格品14而回收。
如图4所示,膜制造装置1具备搬运线9。搬运线9形成搬运从卷料辊R1卷出的长条带状的光学膜F10X的搬运路径。光学膜F10X被实施缺陷检查以及标注等规定处理,在卷绕部8作为规定处理后的卷料辊R2而卷绕于芯材。
在搬运线9配置有一对夹持辊5a、5b。需要说明的是,也可以在搬运线9配置有包括多个松紧调节辊的蓄积器(未图示)、引导辊7(参照图17)。
一对夹持辊5a、5b将光学膜F10X夹在它们之间,并且相互向相反方向旋转,从而向图4中示出的箭头的方向V1(光学膜F10X的搬运方向)抽出光学膜F10X。
蓄积器(未图示)用于吸收因光学膜F10X的进给量的变动而产生的差异,并且减少对光学膜F10X施加的张力的变动。例如,蓄积器具有如下结构:在搬运线9的规定区间,交替地排列配置有位于上部侧的多个松紧调节辊、以及位于下部侧的多个松紧调节辊。
在蓄积器中,在光学膜F10X相互不同地张挂于上部侧的松紧调节辊和下部侧的松紧调节辊的状态下,一边搬运光学膜F10X,一边使上部侧的松紧调节辊和下部侧的松紧调节辊相对地在上下方向上进行升降动作。由此,能够在不停止搬运线9的情况下蓄积光学膜F10X。例如,在蓄积器中,通过增大上部侧的松紧调节辊与下部侧的松紧调节辊之间的距离,能够增加光学膜F10X的蓄积,另一方面,通过减小上部侧的松紧调节辊与下部侧的松紧调节辊之间的距离,能够减少光学膜F10X的蓄积。蓄积器例如在更换卷料辊R1、R2的芯材后的卷料粘接等作业时运行。
引导辊7(参照图17)一边旋转一边将由夹持辊5a、5b抽出的光学膜F10X向搬运线9的下游侧引导。需要说明的是,引导辊7不限定于1个,也可以配置多个。
光学膜F10X在卷绕部8作为规定处理后的卷料辊R2卷绕于芯材后,向下一工序输送(参照图5)。
(缺陷检查系统)
接下来,对上述膜制造装置1所具备的缺陷检查系统10进行说明。
如图4所示,缺陷检查系统10具备搬运线9、缺陷检查装置2、缺陷信息读取装置3、标注装置4、以及控制装置6。
缺陷检查装置2进行光学膜F10X的缺陷检查。具体而言,缺陷检查装置2对制造光学膜F10X时、以及搬运光学膜F10X时产生的异物缺陷、凹凸缺陷、亮点缺陷等各种缺陷进行检测。缺陷检查装置2通过对由搬运线9搬运的光学膜F10X执行例如反射检查、透射检查、斜透射检查、正交尼科耳透射检查等检查处理,从而对光学膜F10X的缺陷进行检测。
例如,缺陷检查装置2在搬运线9中的比夹持辊5a、5b靠上游侧的位置具有向光学膜F10X照射照明光的多个照明部(未图示)、以及对透过光学膜F10X的光(透射光)或者被光学膜F10X反射的光(反射光)进行检测的多个光检测部。
在缺陷检查装置2为对透射光进行检测的结构的情况下,沿光学膜F10X的搬运方向排列的多个照明部和光检测部分别隔着光学膜F10X而对置地配置。需要说明的是,缺陷检查装置2不限定于对透射光进行检测的结构,也可以为对反射光进行检测的结构,或者为对透射光以及反射光进行检测的结构。在对反射光进行检测的情况下,将光检测部配置于照明部侧即可。
照明部向光学膜F10X照射根据缺陷检查的种类而调整了光强度、波长、偏振状态等的照明光。光检测部使用CCD等拍摄元件,拍摄光学膜F10X的被照射有照明光的位置的图像。由光检测部拍摄到的图像(缺陷检查的结果)被输出至控制装置6。
需要说明的是,还可以具备进行长条带状的光学膜以及贴合长条带状的表面保护膜之前的长条带状的偏振膜的缺陷检查的缺陷检查装置、以及将基于该缺陷检查装置的缺陷检查的结果的缺陷信息记录于所述偏振膜的记录装置(均未图示)。未图示的缺陷检查装置具有与上述的缺陷检查装置2相同的结构,对偏振膜的缺陷进行检测。
记录装置(未图示)所记录的缺陷信息包括与缺陷的位置、种类等相关的信息,例如记录为文字、条形码、二维码(DataMatrix码、QR码(注册商标)等)等识别码。在识别码中包括例如表示由未图示的缺陷检查装置检测到的缺陷存在于距印刷有识别码的位置沿着膜宽度方向隔开多远的距离的位置的信息(与缺陷的位置相关的信息)。另外,在识别码中还可以包括与所检测到的缺陷的种类相关的信息。
记录装置设置在偏振膜的搬运线中比未图示的缺陷检查装置靠下游侧的位置。记录装置具有例如采用喷墨方式的印刷头。该印刷头向偏振膜的沿着宽度方向的端缘部(端部)的位置排出墨水,从而进行上述缺陷信息的印刷。
缺陷信息读取装置3设置在搬运线9中的比缺陷检查装置2靠下游侧的位置。缺陷信息读取装置3读取记录于光学膜F10X(所述偏振膜)的缺陷信息。缺陷信息读取装置3具有拍摄装置。拍摄装置使用CCD等拍摄元件,拍摄所搬运的光学膜F10X的缺陷信息。
缺陷信息读取装置3读取缺陷信息,该缺陷信息包括与缺陷的位置、种类等相关的信息,例如被记录为文字、条形码、二维码(DataMatrix码、QR码(注册商标)等)等识别码。例如,通过读取缺陷信息,能够得到表示由缺陷检查装置2等检测到的缺陷存在于距印刷有识别码的位置沿着膜宽度方向隔开多远的距离的位置的信息(与缺陷的位置相关的信息)。另外,在识别码中包含与所检测的缺陷的种类相关的信息的情况下,通过读取缺陷信息,能够得到与所检测的缺陷的种类相关的信息。由缺陷信息读取装置3得到的缺陷信息(读取结果)被输出至控制装置6。
标注装置4设置在搬运线9中的比缺陷信息读取装置3靠下游侧的位置。标注装置4根据缺陷检查的结果而向缺陷的位置射出墨水4i,从而向光学膜F10X标注信息。标注装置4通过在光学膜F10X的缺陷位置印刷(标注)比缺陷大的点状的标识,从而在缺陷位置直接进行记录。
需要说明的是,标注装置4也可以通过印刷(标注)将缺陷包含在内的大小的点状、线状或者框状的标识,从而在缺陷位置直接进行记录。此时,除标识以外,还可以通过在缺陷位置印刷表示缺陷的种类的符号、图案,从而记录与缺陷的种类相关的信息。
缺陷检查系统10可以具备测定光学膜F10X的搬运量的测长器(未图示)。例如,作为测长器,可以在搬运线9中,在夹持辊配置旋转编码器等角位置传感器。测长器根据与光学膜F10X接触并旋转的夹持辊的旋转位移量,来测定光学膜F10X的搬运量。测长器的测定结果被输出至控制装置6。
控制装置6综合控制膜制造装置1的各部。具体而言,该控制装置6具备作为电子控制装置的计算机系统。计算机系统具备CPU等运算处理部、存储器、硬盘等信息存储部。
在控制装置6的信息存储部中记录有控制计算机系统的操作系统(OS)、以及使运算处理部对膜制造装置1的各部执行各种处理的程序等。另外,控制装置6也可以包括执行膜制造装置1的各部的控制所需要的各种处理的ASIC等逻辑电路。另外,控制装置6包括用于进行计算机系统与外部装置的输入输出的接口。在该接口能够连接例如键盘、鼠标等输入装置、液晶显示器等显示装置、通信装置等。
控制装置6对由缺陷检查装置的光检测部拍摄的图像进行分析,从而辨别缺陷的有无(位置)、种类等。控制装置6在判断为偏振膜中存在有缺陷的情况下,控制记录装置在偏振膜记录缺陷信息。控制装置6在根据缺陷检查装置的检查结果以及缺陷信息读取装置3的读取结果等而判断为光学膜F10X中存在有缺陷的情况下,控制标注装置4在光学膜F10X印刷标识。
(标注装置)
接下来,对上述缺陷检查系统10所具备的标注装置4进行说明。
如图13所示,标注装置4具备液滴射出装置20、遮挡板30(遮挡构件)、固定构件40、以及飞溅限制构件50。首先,在以下的说明中,对标注装置4的构成要素中的、除飞溅限制构件50以外的液滴射出装置20、遮挡板30以及固定构件40进行说明。
图6是示出第一实施方式所涉及的标注装置4中的液滴射出装置20、遮挡板30以及固定构件40的立体图。
如图6所示,标注装置4具备液滴射出装置20、遮挡板30、以及固定构件40。标注装置4通过向光学膜F10X射出墨水4i,从而在光学膜F10X的缺陷位置印刷比缺陷大的点状的标识12。
在以下说明中,根据需要设定xyz直角坐标系,参照该xyz直角坐标系对各构件的位置关系进行说明。在本实施方式中,将液滴射出装置20的射出面22的法线方向设为x方向,将射出面22的面内的与x方向正交的方向(射出面22的宽度方向)设为y方向,将与x方向以及y方向正交的方向设为z方向。在此,x方向与y方向处于水平面内,z方向为铅垂方向(上下方向)。需要说明的是,有时将x方向称作前后方向,将y方向称作左右方向。另外,有时将+x方向称作前方向,将-x方向称作后方向,将+y方向称作左方向,将-y方向称作右方向,将+z方向称作上方向,将-z方向称作下方向。
如图6所示,标注装置4对在搬运线9中沿与铅垂方向平行的方向V1(上方)搬运的光学膜F10X从与铅垂方向正交的水平方向射出墨水4i。例如,作为能够在光学膜F10X印刷标识12的范围,光学膜F10X的搬运速度(以下称作“线速度”)设为50m/min以下的值。在本实施方式中,线速度设为30m/min以下的值。
图7是示出第一实施方式所涉及的标注装置4中的液滴射出装置20、遮挡板30以及固定构件40的主视图。图8是图7的VIII-VIII剖视图。图9是图8的主要部分放大图,并且是用于对第一实施方式所涉及的遮挡板30的作用进行说明的图。需要说明的是,在图9中,为了方便,省略固定构件40的图示。
如图7所示,液滴射出装置20具备能够射出墨水的多个射出头20A。在图7中,作为一例,示出了3个射出头20A,但射出头20A的数量并不限定于此,能够根据需要适当设定为1个、2个或者4个以上等。射出头20A呈在y方向上具有长边的长方体状。射出头20A的射出面22(参照图8)在图7的主视观察时呈在y方向上具有长边的长方形。
遮挡板30针对多个射出头20A而设置有多个。在图7中,作为一例,图示了针对3个射出头20A而设置的3个遮挡板30,但遮挡板30的数量并不限定于此,能够根据射出头20A的数量来设定,能够根据需要适当设定为1个、2个或者4个以上等。遮挡板30的与射出面22相反的一侧的面32(以下称作“第一主面”)在图7的主视观察时呈与射出面22大致相同的大小的长方形。
固定构件40以能够将遮挡板30固定于多个射出头20A的各个射出头20A的方式设置有多个。在图7中,作为一例,图示了以能够将遮挡板30固定于3个射出头20A的各个射出头20A的方式设置的3个固定构件40,但固定构件40的数量并不限定于此,能够根据射出头20A以及遮挡板30的数量来设定,能够根据需要适当设定为1个、2个或者4个以上等。固定构件40在图7的主视观察时呈沿着遮挡板30的第一主面32的外形的矩形框状。
例如,射出头20A采用阀方式的喷墨头。例如,从射出头20A的射出孔21射出的墨水的量(以下称作“液滴量”)设为0.05μL以上且0.2μL以下的范围内的值,以便使印刷于光学膜F10X的点状的标识12的直径(以下称作“点直径”)为1mm以上且10mm以下的范围内的值。在本实施方式中,液滴量设为0.166μL左右。
例如,从射出头20A的射出孔21射出的墨水的粘度(以下称作“墨水粘度”)设为0.05×10-3Pa·s以上且1.00×10-3Pa·s以下的范围内的值,以便使点直径为1mm以上且10mm以下的范围内的值。在本实施方式中,墨水粘度设为0.89×10-3Pa·s。
例如,作为能够印刷的范围,从射出头20A射出墨水的射出速度(以下称作“墨水射出速度”)设为1m/s以上且10m/s以下的范围内的值,优选设为4m/s以上且5m/s以下的范围内的值。在本实施方式中,墨水射出速度设为4.2m/s左右。通过将墨水射出速度设为上述范围内,能够向搬运中的光学膜F10的设为目标的印刷区域高精度地印刷,从而能够抑制墨水喷落时的飞沫(例如图14所示的第二飞沫4b)的产生。在此,“墨水的喷落”是指,射出的墨水4i与光学膜F10X接触,破坏墨水4i的形状并且在光学膜F10X上印刷。
例如,作为能够在光学膜F10X印刷标识12的范围,射出头20A的射出孔21的开口时间设为0.5ms以上的范围内的值,优选设为0.8ms以上且1.5ms以下的范围,更优选设为0.9ms以上且1.2ms以下的范围内的值。在本实施方式中,开口时间设为1.0ms左右。通过将开口时间设为上述范围内,能够使射出的墨水的量稳定化,形成所需的点直径,从而能够抑制在墨水射出时产生飞沫4a。
例如,作为能够在光学膜F10X印刷标识12的范围,从射出头20A射出墨水的射出压力(以下称作“墨水射出压力”)设为0.030MPa以下的范围,优选设为0.020MPa以上且0.028MPa以下的范围内的值。在本实施方式中,墨水射出压力设为0.025MPa左右。通过将墨水射出压力设为上述范围内,能够使墨水射出速度稳定化,抑制墨水射出时的飞沫4a以及墨水的喷落时的飞沫(例如图14所示的第二飞沫4b)的产生。
例如,作为能够在光学膜F10X印刷标识12的范围,射出头20A的射出孔21与光学膜F10X之间的距离K1(参照图9)设为50mm以下的值,优选设为5mm以上且15mm以下的值。其理由为,若过度减小距离K1则存在射出头20A与光学膜F10X接触的可能性,若过度增大距离K1则存在从射出孔21射出墨水时飞溅的飞沫向较大范围扩散的可能性。在本实施方式中,距离K1设为13mm左右。需要说明的是,距离K1设为在射出面22的法线方向上将射出面22的射出孔21的中心与光学膜F10X的印刷面(-x方向侧的面)连结的线段的长度。射出头20A的射出孔21与光学膜F10X之间的距离相当于射出头20A的射出面22与光学膜F10X之间的距离。
例如,作为能够在光学膜F10X印刷标识12的范围,因光学膜F10X的搬运而产生的光学膜F10X周边的风速设为0.5m/s以下的范围内的值,优选设为0.2m/s以下的范围内的值。在本实施方式中,在线速度为25m/min左右的条件下,所述风速为0.1m/s左右。若风速处于上述范围内,则能够抑制产生的飞沫4a、4b向较大范围扩散。
在射出头20A(液滴射出装置20)的射出面22形成有向光学膜F10X射出墨水的多个射出孔21。多个射出孔21在射出面22的上下方向(z方向)的中央沿射出面22的宽度方向(y方向)排列而配置成一列。在图7中,作为一例,在每个射出面22图示了9个射出孔21,但在本实施方式中,在每个射出面22形成有16个射出孔21。需要说明的是,射出孔21的数量并不限定于此,能够根据需要适当地设定为8个以下的数量或者10个以上的数量等。另外,射出孔21的列并不限定于1列,能够根据需要适当设定为2列以上等。射出孔21在图7的主视观察时呈圆形。
如图8所示,遮挡板30设置于射出面22。如图9所示,遮挡板30在与射出面22的法线平行的方向(x方向)上具有厚度t1。例如,遮挡板30的厚度t1优选设为2mm以上且10mm以下的范围内的值,更优选设为2mm以上且5mm以下的范围内的值。在本实施方式中,遮挡板30的厚度t1设为3mm左右。需要说明的是,遮挡板30的厚度t1优选在遮挡板30不与光学膜F10X接触的范围内尽可能地增大。
遮挡板30能够遮挡从射出孔21射出墨水4i时飞溅的飞沫4a。在遮挡板30形成有在与射出孔21对置的位置开口的开口部31。开口部31具有面向供墨水4i射出的射出通路Ia的内壁面31a。开口部31的内壁面31a呈以射出路径Ia为中心轴的圆筒状。开口部31的内壁面31a遮挡从射出孔21射出墨水4i时沿与射出面22的法线交叉的方向飞溅的飞沫4a。飞溅的飞沫4a的至少一部分附着于开口部31的内壁面31a。
如图7所示,开口部31针对多个射出孔21而设置有多个。多个开口部31在第一主面32的上下方向(z方向)的中央沿第一主面32的宽度方向(y方向)排列而配置成一列。在图7中,作为一例,在每个遮挡板30图示了9个开口部31,但在本实施方式中,在每个遮挡板30与16个射出孔21相应地设置有16个开口部31。需要说明的是,开口部31的数量并不限定于此,能够根据需要适当设定为8个以下的数量或者10个以上的数量等。另外,开口部31的列并不限定于1列,能够根据需要适当设定为2列以上等。开口部31在图7的主视观察时呈圆形。
如图9所示,开口部31的直径d1大于射出孔21的直径d2(d1>d2)。例如,开口部31的直径d1与射出孔21的直径d2之比d1/d2优选设为1.5以上且5以下的范围内的值,更优选设为2以上且4以下的范围内的值。在本实施方式中,比d1/d2设为3左右,开口部31的直径d1设为3mm左右,射出孔21的直径d2设为1mm左右。需要说明的是,射出孔21的直径d2可以设为0.1mm以上且2mm以下的范围内的值。
遮挡板30的第一主面32与光学膜F10X分离。例如,遮挡板30的第一主面32与光学膜F10X之间的距离L1优选设为10mm以下的值,更优选设为5mm以下的值。在本实施方式中,所述距离L1设为10mm左右。需要说明的是,所述距离L1优选在遮挡板30不与光学膜F10X接触的范围内尽可能地减小。
遮挡板30与射出面22抵接。换言之,遮挡板30的射出面22侧的面35(以下称作“第二主面”)与射出面22配置于同一平面。
例如,遮挡板30由SUS等金属板、或者亚克力板以及聚丙烯板(PP板)等塑料板形成。在本实施方式中,遮挡板30由亚克力板形成。需要说明的是,遮挡板30可以由不与墨水发生反应的板材形成。由此,能够抑制遮挡板30的由墨水造成的腐蚀,因此能够提高遮挡板30的耐腐蚀性。
固定构件40将遮挡板30固定于射出头20A。如图8所示,固定构件40具备第一壁部41和第二壁部42。例如,固定构件40由SUS等金属板形成。
第一壁部41覆盖射出头20A以及遮挡板30双方中的沿与射出面22的法线正交的方向配置的侧端部23、33。第一壁部41呈沿前后方向(x方向)延伸的矩形筒状。第一壁部41与射出头20A的上下方向(z方向)以及宽度方向(y方向)的侧端部23中的射出面22侧的部分、以及遮挡板30的上下方向(z方向)以及宽度方向(y方向)的侧端部33双方抵接。例如,第一壁部41通过螺栓等紧固构件紧固于射出头20A。由此,限制射出头20A以及遮挡板30的上下方向(z方向)以及宽度方向(y方向)的相对移动。
第二壁部42覆盖遮挡板30的第一主面32中的开口部31的外周的外缘部34。第二壁部42呈从第一壁部41的前端(+x方向端)朝向z方向内侧延伸的矩形框状。第二壁部42与遮挡板30的第一主面32中的开口部31的外周的外缘部34抵接。例如,第二壁部42与第一壁部41由同一构件一体地形成。需要说明的是,第二壁部42也可以通过螺栓等紧固构件紧固于第一壁部41。由此,限制射出头20A以及遮挡板30的前后方向(x方向)的相对移动。
以下,对标注装置4的构成要素中的飞溅限制构件50进行说明。图13是示出第一实施方式所涉及的标注装置4的立体图。图14包括图13的主要部分放大图,是用于对第一实施方式所涉及的标注装置4中的飞溅限制构件50的作用进行说明的图。需要说明的是,在图14中,为了方便,省略固定壁部53、54的图示。
如图13所示,标注装置4具备液滴射出装置20、遮挡板30、固定构件40、以及飞溅限制构件50。
如图14所示,飞溅限制构件50设置在射出面22与光学膜F10X之间。具体而言,飞溅限制构件50设置在比遮挡板30靠前方的固定构件40与光学膜F10X之间。飞溅限制构件50遮挡在墨水4i从射出孔21射出直至喷落于光学膜F10X的过程中飞溅的飞沫。所述飞沫包括墨水4i从射出孔21射出时飞溅的第一飞沫4a、以及墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅的第二飞沫4b中的至少一方。第一飞沫4a以及第二飞沫4b对印刷对象具有特别大的影响。
在此,作为在墨水4i从射出孔21射出直至喷落于光学膜F10X的过程中飞溅的飞沫,除在墨水射出、喷落时产生的飞沫4a、4b以外,还可以列举在墨水4i从射出孔21朝向光学膜F10X飞行过程中飞溅的飞沫。但是,在该墨水4i飞行过程中飞溅的飞沫与墨水射出、喷落时产生的飞沫4a、4b相比,产生的数量少,并且飞沫本身的大小非常小,因此认为笔译达到污染印刷对象的程度。
需要说明的是,第一飞沫4a包括不附着于遮挡板30的开口部31的内壁面31a而通过开口部31并在空中漂浮的飞沫。另外,在墨水4i飞行过程中飞溅的飞沫具有与第一飞沫4a相同的运动情况。
在飞溅限制构件50形成有沿与射出面22的法线正交的方向延展的遮挡面50f。在飞溅限制构件50中,射出面22侧的遮挡面50f限制第一飞沫4a向光学膜F10X侧移动,光学膜F10X侧的遮挡面50f限制第二飞沫4b向射出面22侧移动。即,飞溅的第一飞沫4a的至少一部分附着于飞溅限制构件50中的射出面22侧的遮挡面50f,飞溅的第二飞沫4b的至少一部分附着于飞溅限制构件50中的光学膜F10X侧的遮挡面50f。
需要说明的是,遮挡面50f不限定于沿与射出面22的法线正交的方向延展,也可以沿与射出面22的法线交叉的方向延展。例如,基于有效地遮挡第一飞沫4a以及第二飞沫4b的观点,优选遮挡面50f沿与膜搬运方向平行的方向且与射出面22的法线正交的方向延展,以使得与光学膜F10X的对置面积最大。需要说明的是,在由于设备布局的关系而无法确保上述关系的情况下,可以以尽可能与膜搬运方向平行的方式,调整遮挡面50f与射出面22的法线所成的角度。
如图13所示,飞溅限制构件50具备飞溅限制板51、52和固定壁部53、54。
飞溅限制板51、52在与射出面22的法线平行的方向(x方向)上具有厚度。在本实施方式中,飞溅限制板51、52的厚度设为3mm左右。需要说明的是,飞溅限制板51、52的厚度可以根据需要适当设定,只要设定为能够遮挡第一飞沫4a以及第二飞沫4b的程度即可。
飞溅限制板51、52设为在膜宽度方向(图13所示的y方向)上具有长边且在膜搬运方向(图13所示的z方向)上具有短边的长方形。在本实施方式中,飞溅限制板51、52的长边的长度设为与膜宽度相当的1600mm左右,飞溅限制板51、52的短边的长度设为50mm左右。
如图14所示,第一飞溅限制板51隔着供墨水4i射出的射出通路Ia而配置于一侧。第二飞溅限制板52隔着射出通路Ia而配置于另一侧。第一飞溅限制板51配置于在铅垂方向上比射出通路Ia靠上方的位置,第二飞溅限制板52配置于在铅垂方向上比射出通路Ia靠下方的位置。第一飞溅限制板51以及第二飞溅限制板52配置在隔着射出通路Ia而相邻的位置。在第一飞溅限制板51形成有沿与射出面22的法线正交的方向延展的第一遮挡面51f,在第二飞溅限制板52形成有与第一遮挡面51f平行地延展的第二遮挡面52f。
如图13所示,第一飞溅限制板51与第二飞溅限制板52分离的间隔s1(以下称作“狭缝间隔”)大于射出孔21的直径d2(参照图9)。例如,狭缝间隔s1优选设为2mm以上且10mm以下的范围内的值,更优选设为2mm以上且5mm以下的范围内的值。其理由为,若过度减小狭缝间隔s1则存在墨水4i无法通过狭缝间隔s1、即墨水4i与第一飞溅限制板51以及第二飞溅限制板52接触的可能性,若过度增大狭缝间隔s1则存在第一飞沫4a从射出孔21向较大范围扩散的可能性。在本实施方式中,狭缝间隔s1设为5mm左右。需要说明的是,射出孔21的直径d2设为1mm左右。
第一固定壁部53具备上壁部53a和侧壁部53b。第一固定壁部53与第一飞溅限制板51。第一固定壁部53的上壁部53a与第一飞溅限制板51的上端一体地连结,并且以越趋于后侧(-x方向侧)越位于上方的方式倾斜。第一固定壁部53的侧壁部53b与第一飞溅限制板51的左右侧端以及上壁部53a的左右侧端一体地连结,并且在以越趋于后侧(-x方向侧)越位于上方的方式倾斜后,向后方弯曲地延伸。由此,能够提高第一飞溅限制板51的支承刚性,并且限制第一飞沫4a向上方以及左右侧方的移动。
例如,第一固定壁部53通过螺栓等紧固构件紧固于射出头20A。由此,限制射出头20A、第一固定壁部53以及第一飞溅限制板51的上下方向(z方向)、宽度方向(y方向)以及前后方向(x方向)的相对移动。
第二固定壁部54具备下壁部54a和侧壁部54b。第二固定壁部54与第二飞溅限制板52一体地形成。第二固定壁部54的下壁部54a与第二飞溅限制板52的下端一体地连结,并且向后方(-x方向)延伸。第二固定壁部54的侧壁部54b与第二飞溅限制板52下部的左右侧端以及下壁部54a的左右侧端一体地连结,并且向后方延伸至下壁部54a的后端。由此,能够提高第二飞溅限制板52的支承刚性,并且限制第一飞沫4a向下方以及左右侧方的移动。
例如,第二固定壁部54通过螺栓等紧固构件紧固于射出头20A。由此,限制射出头20A、第二固定壁部54以及第二飞溅限制板52的上下方向(z方向)、宽度方向(y方向)以及前后方向(x方向)的相对移动。
飞溅限制构件50的光学膜F10X侧的遮挡面50f与光学膜F10X分离。例如,飞溅限制构件50的光学膜F10X侧的遮挡面50f与光学膜F10X之间的距离(以下称作“遮挡面-光学膜间距离”)优选设为10mm以下的值,更优选设为1mm以上且5mm以下的值。其理由为,若过度减小遮挡面-光学膜间距离则存在飞溅限制构件50与光学膜F10X接触的可能性,若过度增大遮挡面-光学膜间距离则存在无法通过遮挡面50f限制第二飞沫4b的移动的可能性。在本实施方式中,遮挡面-光学膜间距离设为3mm左右。
飞溅限制构件50的射出面22侧的遮挡面50f与射出面22分离。例如,飞溅限制构件50的射出面22侧的遮挡面50f与射出面22之间的距离(以下称作“遮挡面-射出面间距离”)设为3mm以上的值。在本实施方式中,遮挡面-射出面间距离设为10mm左右。其理由为,若过度减小遮挡面-射出面间距离则存在无法通过遮挡面50f限制第二飞沫4b的移动的可能性,若过度增大遮挡面-射出面间距离则需要增大狭缝间隔s1。
例如,飞溅限制构件50由SUS等金属板、或者亚克力板以及聚丙烯板(PP板)等塑料板形成。在本实施方式中,飞溅限制构件50由亚克力板形成。需要说明的是,飞溅限制构件50可以由不与墨水发生反应的板材形成。由此,能够抑制飞溅限制构件50的由墨水造成的腐蚀,因此能够提高飞溅限制构件50的耐腐蚀性。
如以上说明那样,本实施方式所涉及的标注装置4能够通过对光学膜F10X射出墨水4i而标注标识12,其中,标注装置4具备:液滴射出装置20,其具有形成有向光学膜F10X射出墨水4i的射出孔21的射出面22;以及飞溅限制构件50,其设置在射出面22与光学膜F10X之间,且能够遮挡从射出孔21射出墨水4i时飞溅的第一飞沫4a、以及墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅的第二飞沫4b中的至少一方,在飞溅限制构件50形成有沿与射出面22的法线正交的方向延展的遮挡面50f。
根据本实施方式,在射出面22与光学膜F10X之间设置有飞溅限制构件50,该飞溅限制构件50能够遮挡从射出孔21射出墨水4i时飞溅的第一飞沫4a、以及墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅的第二飞沫4b中的至少一方,在飞溅限制构件50形成有沿与射出面22的法线正交的方向延展的遮挡面50f,从而在与不设置飞溅限制构件50而直接从液滴射出装置20射出墨水4i的情况相比,能够在射出面22与光学膜F10X之间限制第一飞沫4a向光学膜F10X侧移动,并且限制第二飞沫4b向射出面22侧移动,因此即使从射出孔21射出墨水4i时飞溅有第一飞沫4a、或墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅有第二飞沫4b,也能够抑制第一飞沫4a以及第二飞沫4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率。
另外,飞溅限制构件50具备在与射出面22的法线平行的方向(x方向)上具有厚度的飞溅限制板51、52,从而能够通过调整飞溅限制板51、52的厚度来提高飞溅限制板51、52的刚性,能够有效地遮挡第一飞沫4a以及第二飞沫4b。
另外,飞溅限制构件50具备隔着供墨水4i射出的射出通路Ia而配置于一侧的第一飞溅限制板51、以及隔着射出通路Ia而配置于另一侧的第二飞溅限制板52,从而能够通过简单的结构有效地遮挡隔着射出通路Ia而向两侧飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。
另外,第一飞溅限制板51配置于在铅垂方向上比射出通路Ia靠上方的位置,第二飞溅限制板52配置于在铅垂方向上比射出通路Ia靠下方的位置,从而能够通过简单的结构有效地遮挡隔着射出通路Ia而向上下两侧飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。
另外,在第一飞溅限制板51形成有沿与射出面22的法线正交的方向延展的第一遮挡面51f,在第二飞溅限制板52形成有与第一遮挡面51f平行地延展的第二遮挡面52f,从而与第一遮挡面51f以及第二遮挡面52f相互交叉的情况相比,能够以不偏向任一方的限制的方式有效地限制射出面22与光学膜F10X之间的第一飞沫4a向光学膜F10X侧的移动、第二飞沫4b向射出面22侧的移动。
另外,使狭缝间隔s1大于射出孔21的直径d2,从而能够避免墨水4i与第一飞溅限制板51以及第二飞溅限制板52接触。
需要说明的是,在上述实施方式中,列举了将第一飞溅限制板51以及第二飞溅限制板52隔着射出通路Ia而配置于两侧的例子进行说明,但并不限定于此。例如,飞溅限制板也可以仅配置于在铅垂方向上比供墨水4i射出的射出通路Ia靠下方的位置。由此,与将第一飞溅限制板51以及第二飞溅限制板52隔着射出通路Ia而配置于两侧的情况相比,能够通过削减部件数量而形成简单的结构从而实现成本降低,并且选择性地遮挡因重力的影响而向比射出通路Ia靠下方的位置飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。特别是,当点直径较大时(液滴量较多时),在沿上下方向搬运光学膜F10X的情况下,向下方飞溅的飞沫变多,因此将飞溅限制板仅配置在比射出通路Ia靠下方的位置的实际效益增大。
另外,还具备遮挡板30,该遮挡板30设置于射出面22,且能够遮挡从射出孔21射出墨水4i时飞溅的飞沫4a,在遮挡板30形成有开口部31,该开口部31在与射出孔21对置的位置开口,并且具有遮挡向与射出面22的法线交叉的方向飞溅的飞沫4a的内壁面31a,从而与不设置遮挡板30而直接从液滴射出装置20射出墨水4i的情况相比,能够减小向与射出面22的法线交叉的方向飞溅的飞沫4a的扩散范围,具体而言能够减小以飞沫4a附着于光学膜F10X时的标识12为中心的飞溅直径L2(参照图9),因此即使从射出孔21射出墨水4i时飞溅有飞沫4a,也能够抑制飞沫4a附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率。
另外,具备在与射出面22的法线平行的方向上具有厚度t1的遮挡板30,从而能够通过调整遮挡板30的厚度t1来调整飞沫4a的扩散范围,因此能够抑制飞沫4a附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域。例如,通过在遮挡板30不与光学膜F10X接触的范围内尽可能地增大遮挡板30的厚度t1,能够最大限度地减小飞沫4a的扩散范围。
另外,还具备能够将遮挡板30固定于液滴射出装置20的固定构件40,从而与不设置固定构件40的情况相比,容易将遮挡板30牢固地固定于液滴射出装置20。
另外,固定构件40具备:第一壁部41,其覆盖射出头20A以及遮挡板30双方中的沿与射出面22的法线正交的方向配置的侧端部23、33;以及第二壁部42,其覆盖遮挡板30的第一主面32中的开口部31的外周的外缘部34,从而能够将遮挡板30牢固地固定于射出头20A,并且通过简单的结构来限制射出头20A以及遮挡板30的前后左右上下方向(xyz方向)的相对移动。
另外,液滴射出装置20具备能够射出墨水4i的多个射出头20A,遮挡板30针对多个射出头20A而设置有多个,固定构件40以能够将遮挡板30固定于多个射出头20A的各个射出头20A的方式设置有多个,从而能够与各个射出头20A以一对一的关系进行遮挡板30以及固定构件40的定位,因此与设置有对应于多个射出头20A的大小的遮挡板以及固定构件的情况相比,能够抑制射出头20A、遮挡板30以及固定构件40的相对位置偏移。
另外,遮挡板30与射出面22抵接,从而与遮挡板30与射出面22分离的情况相比,容易限制射出头20A以及遮挡板30的前后方向(x方向)的相对移动。
另外,使开口部31的直径d1大于射出孔21的直径d2,从而能够避免从射出孔21射出的墨水4i与开口部31接触。
本实施方式所涉及的缺陷检查系统10具备:搬运线9,其搬运长条带状的光学膜F10X;缺陷检查装置2,其进行由搬运线9搬运的光学膜F10X的缺陷检查;以及标注装置4,其能够通过根据缺陷检查的结果向缺陷11的位置射出墨水4i而印刷标识12。
根据本实施方式,具备上述的标注装置4,从而即使从射出孔21射出墨水4i时飞溅有第一飞沫4a、或墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅有第二飞沫4b,也能够抑制第一飞沫4a以及第二飞沫4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率。另外,具备标注装置4,该标注装置4能够通过根据缺陷检查的结果向缺陷11的位置射出墨水4i而印刷标识12,从而能够与缺陷的位置相应地印刷标识12,因此能够有效地抑制飞沫4a、4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,进一步提高产品的成品率。
另外,标注装置4对由搬运线9沿与铅垂方向平行的方向搬运的光学膜F10X从与铅垂方向正交的水平方向射出墨水4i,从而与标注装置4对沿水平方向搬运的光学膜F10X在铅垂方向上向下方射出墨水4i的情况相比,能够抑制墨水4i因重力的影响而从射出孔21自然地垂落的情况。
本实施方式所涉及的膜制造装置1具备上述的缺陷检查系统10。
根据本实施方式,具备上述的缺陷检查系统10,从而即使从射出孔21射出墨水4i时飞溅有第一飞沫4a、或墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅有第二飞沫4b,也能够抑制第一飞沫4a以及第二飞沫4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率。另外,与缺陷的位置相应地印刷标识12,从而能够有效地抑制飞沫4a、4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,进一步提高产品的成品率。
本实施方式所涉及的膜制造方法包括使用上述的缺陷检查系统10进行标注的工序。
根据本实施方式,包括上述的标注工序,从而即使从射出孔21射出墨水4i时飞溅有第一飞沫4a、或墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅有第二飞沫4b,也能够抑制第一飞沫4a以及第二飞沫4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率。另外,与缺陷的位置相应地印刷标识12,从而能够有效地抑制飞沫4a、4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,进一步提高产品的成品率。
另外,作为从射出孔射出墨水时飞溅有飞沫的因素,可以考虑(A1)液滴量、(A2)墨水粘度等。
以下,对上述因素进行说明。
若液滴量微小,则认为从射出孔射出墨水时基本不飞溅有飞沫、或者即使飞溅有飞沫也不易达到污染光学膜的程度。另一方面,通过本发明人的研究发现:若液滴量多,则从射出孔射出墨水射出时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染光学膜。
例如,在市售的喷墨打印机中,液滴量为1×10-6μL左右,液滴量微小,因此认为从射出孔射出墨水时基本不飞溅有飞沫、或者即使飞溅有飞沫也不易达到污染光学膜的程度。另一方面,在本实施方式所涉及的液滴射出装置20中,液滴量为0.166μL左右,与市售的喷墨打印机相比非常多,因此存在从射出孔射出墨水时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染光学膜的情况。
另外,若墨水粘度大,则认为从射出孔射出墨水时基本不飞溅有飞沫。另一方面,通过本发明人的研究发现:若墨水粘度小,则从射出孔射出墨水射出时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染光学膜。
例如,在市售的喷墨打印机中,墨水粘度为1.17×10-3Pa·s左右。另一方面,在本实施方式所涉及的液滴射出装置20中,墨水粘度为0.89×10-3Pa·s左右,比市售的喷墨打印机小,因此存在从射出孔射出墨水时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染光学膜的情况。
即使在因上述因素(A1)、(A2)等而在从射出孔射出墨水时飞溅有飞沫的情况下,根据本实施方式,在遮挡板30形成有开口部31,该开口部31在与射出孔21对置的位置开口,并且具有遮挡向与射出面22的法线交叉的方向飞溅的飞沫4a的内壁面31a,从而与不设置遮挡板30而直接从液滴射出装置20射出墨水4i的情况相比,能够减小向与射出面22的法线交叉的方向飞溅的飞沫4a的扩散范围,具体而言能够减小以飞沫4a附着于光学膜F10X时的标识12为中心的飞溅直径L2(参照图9),因此能够有效地抑制飞沫4a附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,从而进一步提高产品的成品率。
另一方面,作为墨水喷落于光学膜(印刷对象)时飞溅有飞沫的因素,可以考虑(B1)点直径(液滴量)、(B2)墨水粘度、(B3)印刷对象、(B4)线速度等。
以下,对上述因素进行说明。
若点直径非常小(液滴量微小),则认为墨水喷落于印刷对象时基本不飞溅有飞沫、或者即使飞溅有飞沫也不易达到污染印刷对象的程度。另一方面,通过本发明人的研究发现:若点直径大(若液滴量多),则墨水喷落于印刷对象时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染印刷对象。
例如,在市售的喷墨打印机中,点直径为20μm左右而非常小,液滴量推断为1×10-6μL左右,认为墨水喷落于印刷对象时基本不飞溅有飞沫、或者即使飞溅有飞沫也不易达到污染印刷对象的程度。另一方面,在本实施方式所涉及的液滴射出装置20中,点直径为1mm以上且10mm以下的范围内的值,液滴量推断为0,166μL左右,与市售的喷墨打印机相比,点直径非常大(液滴量非常多),因此存在墨水喷落于印刷对象时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染印刷对象的情况。
另外,若墨水粘度大,则认为墨水喷落于印刷对象时基本不飞溅有飞沫。另一方面,通过本发明人的研究发现:若墨水粘度小,则墨水喷落于印刷对象时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染印刷对象。
例如,在市售的喷墨打印机中,墨水粘度为1.17×10-3Pa·s左右。另一方面,在本实施方式所涉及的液滴射出装置20中,墨水粘度为0.89×10-3Pa·s左右,比市售的喷墨打印机小,因此存在墨水喷落于印刷对象时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染印刷对象的情况。
另外,若印刷对象为记录纸等纸介质,则认为墨水喷落于印刷对象时基本不飞溅有飞沫。另一方面,通过本发明人的研究发现:若印刷对象为包含PVA以及TAC的光学膜,则墨水喷落于印刷对象时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染印刷对象。
例如,在市售的喷墨打印机中,印刷对象为纸介质。另一方面,在本实施方式所涉及的液滴射出装置20中,印刷对象为光学膜,存在墨水喷落于印刷对象时飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染印刷对象的情况。
另外,若线速度小,则认为墨水喷落于印刷对象时基本不飞溅有飞沫。另一方面,通过本发明人的研究发现:若线速度大,则墨水喷落于印刷对象时在较大范围内飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染印刷对象。
例如,在市售的喷墨打印机中,线速度为3m/min左右而较小。另一方面,在本实施方式中,线速度为30m/min以下的值,作为能够在光学膜F10X印刷标识12的范围,上限为50m/min以下的值而较大,存在墨水喷落于印刷对象时在较大范围内飞溅有飞沫,飞溅的飞沫污染印刷对象的情况。
即使在因上述因素(A1)、(A2)等而在从射出孔射出墨水时飞溅有飞沫的情况下,另外,在因上述因素(B1)~(B4)等而在墨水喷落于印刷对象时飞溅有飞沫的情况下,根据本实施方式,在射出面22与光学膜F10X之间设置有飞溅限制构件50,该飞溅限制构件50能够遮挡从射出孔21射出墨水4i时飞溅的第一飞沫4a、以及墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅的第二飞沫4b中的至少一方,在飞溅限制构件50形成有沿与射出面22的法线正交的方向延展的遮挡面50f,从而在与不设置飞溅限制构件50而直接从液滴射出装置20射出墨水4i的情况相比,能够在射出面22与光学膜F10X之间限制第一飞沫4a向光学膜F10X侧移动,并且限制第二飞沫4b向射出面22侧移动,因此能够有效地抑制第一飞沫4a以及第二飞沫4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,从而进一步提高产品的成品率。
以下,对实施方式的变形例进行说明。在以下的变形例中,对与第一实施方式相同的结构要素标注相同的附图标记,并省略其详细说明。
(固定构件的第一变形例)
图10是示出固定构件的第一变形例的图,并且是相当于图8的剖视图。
在上述实施方式中,列举了固定构件40与遮挡板30由分体构件形成的例子。相对于此,在本变形例中,如图10所示,固定构件140与遮挡板130由同一构件一体地形成。
固定构件140与遮挡板130一起固定于射出头20A。固定构件140具备遮挡板130和侧壁部141。例如,固定构件140由SUS等金属板形成。
侧壁部141覆盖射出头20A中的沿与射出面22的法线正交的方向配置的侧端部23。侧壁部141呈沿前后方向(x方向)延伸的矩形筒状。侧壁部141与射出头20A的上下方向(z方向)以及宽度方向(y方向)的侧端部23中的射出面22侧的部分抵接。
遮挡板130呈从侧壁部141的前端(+x方向端)朝向z方向内侧延伸的矩形框状。在遮挡板130形成有开口部131,该开口部131在与射出孔21对置的位置开口,并且具有遮挡向与射出面22的法线交叉的方向飞溅的飞沫4a的内壁面13la。遮挡板130与射出面22抵接。换言之,遮挡板130的第二主面135与射出面22配置于同一平面。
例如,侧壁部141通过螺栓等紧固构件紧固于射出头20A。由此,限制射出头20A以及遮挡板30的上下方向(z方向)、宽度方向(y方向)以及前后方向(x方向)的相对移动。
根据本变形例,固定构件140与遮挡板130一体地形成,且具备侧壁部141,该侧壁部141覆盖射出头20A中的沿与射出面22的法线正交的方向配置的侧端部23,从而能够将遮挡板130牢固地固定于射出头20A,并且通过简单的结构限制射出头20A以及遮挡板130的前后左右上下方向(xyz方向)的相对移动。另外,同固定构件40与遮挡板30由分体构件形成的情况相比,能够削减部件数量,从而能够实现装置结构的简化。
(固定构件的第二变形例)
图11是示出固定构件的第二变形例的图,并且是相当于图8的剖视图。
在上述第一变形例中,列举了遮挡板130与射出面22抵接的例子。相对于此,在本变形例中,如图11所示,遮挡板130与射出面22分离。具体而言,遮挡板130的第二主面135配置在比射出面22靠前方(+x方向)的位置。
根据本变形例,使遮挡板130与射出面22分离,从而能够通过调整遮挡板130与射出面22之间的间隔来调整飞沫4a的扩散范围,因此能够抑制飞沫4a附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域。例如,通过在遮挡板130不与光学膜F10X接触的范围内尽可能地增大遮挡板130与射出面22之间的间隔,能够最大限度地减小飞沫4a的扩散范围。另外,同遮挡板130与射出面22抵接的情况相比,即使不调整遮挡板130的厚度t1,也能够通过仅调整遮挡板130与射出面22之间的间隔来调整飞沫4a的扩散范围,因此设计的自由度提高。
(遮挡构件的变形例)
图12是示出遮挡构件的变形例的图,并且是相当于图8的剖视图。
在上述实施方式中,列举了作为遮挡构件具备在与射出面22的法线平行的方向上具有厚度的遮挡板30的例子。相对于此,在本变形例中,如图12所示,作为遮挡构件具备沿与射出面22的法线平行的方向延伸的筒构件230。
在筒构件230形成有在与射出孔21对置的位置开口的开口部231。如图12所示,开口部231具有面向供墨水射出的射出通路Ia(参照图9)的内壁面231a。开口部231的内壁面231a遮挡从射出孔21射出墨水时沿与射出面22的法线交叉的方向飞溅的飞沫4a(参照图9)。
开口部231的内壁面231a呈以射出路径Ia为中心轴的圆筒状。开口部231的直径(筒构件230的内径)大于射出孔21的直径。
筒构件230与射出面22抵接。换言之,筒构件230的端面235(第二主面)与射出面22配置于同一平面。
根据本变形例,具备沿与射出面22的法线平行的方向延伸的筒构件230,从而能够通过调整筒构件230的长度(x方向的长度)来调整飞沫4a的扩散范围,因此能够抑制飞沫4a附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域。例如,通过在筒构件230不与光学膜F10X接触的范围内尽可能地增大筒构件230的长度,能够最大限度地减小飞沫4a的扩散范围。
另外,使开口部231的直径大于射出孔21的直径,从而能够避免从射出孔21射出的墨水4i与开口部231接触。
(第二实施方式)
以下,对本发明的第二实施方式所涉及的标注装置的结构进行说明。图15是示出第二实施方式所涉及的标注装置204的立体图。图16包括图15的主要部分放大图,是用于对第二实施方式所涉及的吸引装置60的作用进行说明的图。需要说明的是,为了方便,在图15中仅图示第二吸引机构62(下侧吸引机构),在图16中图示第一吸引机构61以及第二吸引机构62。另外,在图15中,为了方便,用双点划线示出光学膜F10X。另外,在图15以及图16中省略飞溅限制构件50的图示。在本实施方式中,对于与第一实施方式相同的构成要素标注相同的附图标记,并省略其详细的说明。
在第一实施方式中,如图13所示,列举了标注装置4具备液滴射出装置20、遮挡板30、固定构件40、以及飞溅限制构件50的例子。相对于此,在本实施方式中,如图15所示,标注装置204还具备吸引装置60。
如图16所示,吸引装置60设置在射出面22与光学膜F10X之间。吸引装置60吸引墨水4i从射出孔21射出时飞溅的第一飞沫4a、以及墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅的第二飞沫4b中的至少一方。
如图15所示,在本实施方式中,吸引装置60具备第二吸引机构62。第二吸引机构62仅配置于在铅垂方向上比供墨水4i射出的射出通路Ia靠下方的位置。在第二吸引机构62形成有以面向射出路径Ia的方式向前上方倾斜的吸引面62f。
在第二吸引机构62的吸引面62f形成有吸引第一飞沫4a以及第二飞沫4b的吸引孔62h。吸引孔62h在吸引面62f上以沿着吸引面62f的宽度方向(y方向)具有长边的方式延伸。在图15中,作为一例,图示了以沿着吸引面62f的宽度方向(y方向)的方式延伸的吸引孔62h,但吸引孔62h的配置并不限定于此,也可以以多个吸引孔沿吸引面62f的宽度方向(y方向)排列而配置成一列的方式,将吸引孔62h在吸引面62f的宽度方向(y方向)上分割等,根据需要适当地设定。
例如,吸引面62f与光学膜F10X之间的距离J1(以下称作“吸引面-光学膜间距离”)设为10mm以上的值。其理由为,若过度减小吸引面-光学膜间距离J1,则存在吸引面62f与光学膜F10X接触的可能性。在本实施方式中,吸引面-光学膜间距离J1设为10mm左右。需要说明的是,吸引面-光学膜间距离J1设为在印刷面的法线方向(x方向)上将吸引面62f的下端与光学膜F10X的印刷面连结的线段的长度。
例如,吸引面62f与固定构件40之间的距离J2(以下称作“吸引面-固定构件间距离”)设为30mm以上的值。其理由为,若过度减小吸引面-固定构件间距离J2,则存在吸引面62f与固定构件40接触的可能性。在本实施方式中,吸引面-固定构件间距离J2设为30mm左右。需要说明的是,吸引面-固定构件间距离J2设为在固定构件40的下表面的法线方向(z方向)上将吸引面62f的上端与固定构件40的下端连结的线段的长度。
例如,吸引孔62h与射出孔21之间的距离J3(以下称作“吸引孔-射出孔间距离”)优选设为50mm以下的值,更优选设为15mm以上且50mm以下的范围内的值。在本实施方式中,吸引孔-射出孔间距离J3设为45mm左右。需要说明的是,吸引孔-射出孔间距离J3设为将吸引面62f中的吸引孔62h的中心与射出面22中的射出孔21的中心连结的线段的长度。
例如,吸引孔62h的长度设为与吸引面62f的宽度方向(y方向)的长度相同程度,具体而言设为比吸引面62f的宽度方向(y方向)的长度小与第二吸引机构62的左右侧壁的厚度相应的量。需要说明的是,吸引孔62h的长度设为吸引孔62h的长度方向(y方向)的长度。
例如,吸引孔62h的宽度优选设为50mm以下的值,更优选设为5mm以上且20mm以下的范围内的值。在本实施方式中,吸引孔62h的宽度设为10mm左右。需要说明的是,吸引孔62h的宽度设为吸引孔62h的短边方向(吸引面62f的倾斜方向)的长度。
例如,通过吸引孔62h吸引飞沫时的风速(以下称作“吸引风速”)优选设为2m/sec以上的值,更优选设为5m/sec以上且7m/sec以下的范围内的值。在本实施方式中,吸引风速设为6.4m/sec。需要说明的是,作为不拉拽墨水4i(并非飞沫而是主滴)的范围,吸引风速设为4m/sec以上且20m/sec以下的范围内的值。
吸引孔62h的大小能够变更。例如,可以通过在吸引面62f设置有能够以沿着吸引孔62h的长度方向的方式移动的闸门等闭塞机构,从而可变更吸引孔62h的大小。
第二吸引机构62呈以吸引面62f面向射出路径Ia的方式向前上方倾斜地延伸的形状。具体而言,第二吸引机构62具备呈在宽度方向(y方向)上具有长边的长方形的吸引面62f、以及呈将吸引面62f的左右侧缘作为上底而向前上方延伸的梯形状的左右侧面64。在第二吸引机构62的后端部(-x方向侧端部)设置有与左右侧面64的法线平行地向左右侧方(y方向)突出的支承轴65。
在第二吸引机构62的左右侧方设置有能够将第二吸引机构62支承为转动自如的支承机构73。在第二吸引机构62的下方设置有沿膜宽度方向(y方向)延伸的台72。支承机构73具备:固定于台72的支承台73a、固定于支承台73a的支承板73b、以及从支承板73b的宽度方向内侧端部(-+-y方向侧端部)向上方延伸的立起片73c。
在立起片73c形成有在立起片73c的厚度方向(y方向)开口并且上下延伸的长孔73h。第二吸引机构62的支承轴65穿过立起片73c的长孔73h。长孔73h的大小设为能够使支承轴65上下移动且能够绕支承轴65的轴线转动的大小。在穿过长孔73h的穿过状态下,支承轴65从立起片73c向左右侧方突出。通过利用未图示的固定器具将支承轴65固定于立起片73c,从而限制第二吸引机构62的上下移动以及绕支承轴65的轴线的转动。例如,可以在支承轴65的左右侧端部形成有螺纹牙,通过使螺母等与支承轴65的螺纹牙螺合并紧固,从而限制第二吸引机构62的位置。
需要说明的是,图中的附图标记71是支承液滴射出装置20的支承台。支承台71沿液滴射出装置20的宽度方向(y方向)延伸。例如,液滴射出装置20通过螺栓等紧固构件紧固于支承台71。
根据本实施方式,在射出面22与光学膜F10X之间设置有吸引装置60,该吸引装置60能够吸引从射出孔21射出墨水4i时飞溅的第一飞沫4a、以及墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅的第二飞沫4b中的至少一方,从而与不设置吸引装置60而直接从液滴射出装置20射出墨水4i的情况相比,能够吸引在射出面22与光学膜F10X之间飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b,因此即使从射出孔21射出墨水4i时飞溅有第一飞沫4a、或墨水4i喷落于光学膜F10X时飞溅有第二飞沫4b,也能够抑制第一飞沫4a以及第二飞沫4b附着于光学膜F10X的缺陷位置以外的区域,从而提高产品的成品率。
另外,第二吸引机构62仅配置于在铅垂方向上比供墨水4i射出的射出通路Ia靠下方的位置,从而与将吸引机构隔着射出通路Ia而配置在两侧的情况相比,能够通过削减部件数量而形成简单的结构从而实现成本降低,并且能够选择性地吸引因重力的影响而向比射出通路Ia靠下方的位置飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。特别是,当点直径较大时(液滴量较多时),在沿上下方向搬运光学膜F10X的情况下,向下方飞溅的飞沫变多,因此仅设置第二吸引机构62的实际效益(将吸引机构仅配置在比射出通路Ia靠下方的位置的实际效益)增大。
需要说明的是,在上述实施方式中,列举了将第二吸引机构62仅配置于在铅垂方向上比供墨水4i射出的射出通路Ia靠下方的位置的例子进行说明,但并不限定于此。例如,如图16所示,吸引装置60可以具备:隔着供墨水4i射出的射出通路Ia而配置于一侧的第一吸引机构61、以及隔着射出通路Ia而配置于另一侧的第二吸引机构62。即,可以将吸引机构61、62隔着射出通路Ia而配置于两侧。由此,能够通过简单的结构有效地吸引隔着射出通路Ia而向两侧飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。
另外,也可以为,第一吸引机构61配置于在铅垂方向上比射出通路Ia靠上方的位置,第二吸引机构62(相当于上述实施方式的第二吸引机构62)配置于在铅垂方向上比射出通路Ia靠下方的位置。由此,能够通过简单的结构有效地吸引隔着射出通路Ia而向上下两侧飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。
第一吸引机构61吸引在射出通路Ia的上方飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b,第二吸引机构62吸引在射出通路Ia的下方飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。被第一吸引机构61吸引的飞沫经由配管而沿箭头的方向Q1移送,被第二吸引机构62吸引的飞沫经由配管而沿箭头的方向Q2移送,分别贮存于未图示的罐。
(第三实施方式)
以下,对本发明的第三实施方式所涉及的标注装置的结构进行说明。图17是示出第三实施方式所涉及的标注装置304的图,并且是包含相当于图8的剖面的图。在本实施方式中,对于与第一实施方式以及第一实施方式的第二变形例相同的构成要素,标注相同的附图标记,并且省略其详细的说明。
在第一实施方式中,如图13所示,列举了标注装置4具备液滴射出装置20、遮挡板30、固定构件40、以及飞溅限制构件50的例子,在第一实施方式的第二变形例中,如图11所示,列举了在固定构件140与遮挡板130由同一构件一体地形成的结构中,使遮挡板130与射出面22分离的例子。相对于此,在本实施方式中,如图17所示,标注装置304具备液滴射出装置20、固定构件340、以及吸引装置360。
固定构件340与遮挡板330由同一构件一体地形成。固定构件340与遮挡板330一起固定于射出头20A。固定构件340具备遮挡板330和侧壁部141。例如,固定构件340由SUS等金属板形成。
遮挡板330与射出面22分离。具体而言,遮挡板330的第二主面335配置在比射出面22靠前方(+x方向)的位置。通过使遮挡板330与射出面22分离,从而遮挡板330还作为上述的飞溅限制构件而发挥功能。具体而言,通过使遮挡板330与射出面22分离,从而遮挡板330的第二主面335(射出面22侧的面)限制第一飞沫4a向光学膜F10X侧移动,遮挡板330的第一主面332(光学膜F10X侧的面)限制第二飞沫4b向射出面22侧移动。
在遮挡板330的开口部331中的射出面22侧的缘部形成有锥部336,该锥部336具有以面向射出孔21的方式相对于射出面22的法线倾斜的倾斜面336a。需要说明的是,遮挡板330的开口部331中的射出面22侧的缘部为开口部331的内壁面331a与遮挡板330的第二主面335的边界部。
在本实施方式中,设置有与光学膜F10X接触的引导辊7。本实施方式所涉及的液滴射出装置20配置为,在搬运光学膜F10X的期间,隔着光学膜F10X与引导辊7对置。液滴射出装置20从光学膜F10X的与同引导辊7接触的位置相反的一侧射出墨水4i(参照图9)。
光学膜F10X优选以40°以上且130°以下的角度范围(以下称作“抱角θ”)张挂于引导辊7的外周面。需要说明的是,抱角为用引导辊7的中心角来表示光学膜F10X在周向上与引导辊7的外周面接触的部分的角度范围的值。
其理由为,若抱角θ小于40°,则光学膜F10X容易在引导辊7的外周面上滑动,存在光学膜F10X中产生擦伤等的可能性,若抱角θ大于130°,则例如气泡容易进入表面保护膜与偏振膜之间。
另外,在施加于光学膜F10X的张力较小的情况下,优选将抱角θ设为大于90°的值,更优选设为95°以上。施加于光学膜F10X的张力越小则越容易产生颤动,但通过将抱角θ设为95°以上,即使在施加于光学膜F10X的张力较小的情况下,也能够抑制光学膜F10X中产生的颤动。另一方面,在施加于光学膜F10X的张力较大的情况下,优选将抱角θ设为小于90°,更优选设为85°以下。由此,即使在施加于光学膜F10X的张力较大的情况下,也能够抑制光学膜F10X紧贴于引导辊7的外周面的情况。
需要说明的是,光学膜F10X的搬运速度通常为9m/min以上且50m/min以下的范围内的值。另外,对于施加于光学膜F10X的张力,在干燥炉内设为400N以上且1500N以下的范围内的值,在干燥炉外设为200N以上且500N以下的范围内的值。需要说明的是,光学膜F10X的宽度设为500mm以上且1500mm以下的范围内的值,光学膜F10X的厚度设为10μm以上且300μm以下的范围内的值。光学膜F10X的宽度越大,另外,光学膜F10X的厚度越薄,则越容易产生颤动。
例如,引导辊7的外径优选设为100mm以上且150mm以下的范围内的值。其理由为,若增大引导辊7的外径,则同与抱角θ相对的引导辊7的外周面接触的光学膜F10X的面积增大,因此能够抑制光学膜F10X中产生的颤动,但若过度增大引导辊7的外径,则光学膜F10X中容易产生上述的擦伤以及气泡的进入等。
例如,引导辊7的圆度优选设为1.0mm以下的值,更优选设为0.5mm以下的值。其理由为,引导辊7的圆度越小,则越能够抑制与引导辊7接触的光学膜F10X的振动。
例如,引导辊7的外周面的表面粗糙度(最大粗糙度Ry)优选设为100s以下的值,更优选设为25s以下的值。其理由为,若引导辊7的外周面的表面粗糙度(最大粗糙度Ry)过大,则光学膜F10X中容易产生上述的擦伤以及气泡的进入等。
另外,基于进一步有效地抑制光学膜F10X中产生的颤动的观点,可以在引导辊7的上游侧以及下游侧也追加设置与光学膜F10X接触的引导辊。另外,对于追加的引导辊也与光学膜F10X具有抱角。
引导辊7能够沿与光学膜F10X的搬运方向V1交叉的方向V2进退。例如,可以通过在引导辊7安装工作缸机构等,从而使引导辊7能够向前下方以及后上方等倾斜方向移动。由此,基于通纸性、接头、头部美观性等观点,能够实现作业性提高。
具体而言,基于通纸性的观点,在从搬运线9中未搬运光学膜F10X的状态(不通过的状态)起搬运光学膜F10X时(通过时),通过扩大标注装置304与引导辊7之间的距离,从而作业性提高。
接下来,基于接头的观点进行说明。在更换卷料辊R1、R2时,若通过胶带等连结光学膜F10X则产生接头。在光学膜F10X中,接头的部分的厚度大于通常的位置的厚度(无接头的部分的厚度)。在这种情况下,通过将引导辊7设为能够移动,能够以避免接头的部分与标注装置304的接触的方式在搬运线9中搬运光学膜F10X,从而作业性提高。
需要说明的是,头部美观是指头部的清扫,通过将引导辊7设为能够移动,能够扩大作业空间,因此能够提高作业性。
需要说明的是,也可以使液滴射出装置20能够沿与光学膜F10X的搬运方向V1交叉的方向(例如前后方向)进退。
图17中的附图标记Va表示包括供墨水4i射出的射出通路Ia(参照图9)在内的、固定构件340与引导辊7对置的部分(以下称作“对置部分”)。
吸引装置360具备隔着对置部分Va而配置于一侧的第一吸引机构361、以及隔着对置部分Va而配置于另一侧的第二吸引机构362。即,吸引机构361、362隔着对置部分Va而配置于两侧。具体而言,第一吸引机构361配置于在铅垂方向上比对置部分Va靠上方的位置,第二吸引机构362配置于在铅垂方向上比对置部分Va靠下方的位置。
在第一吸引机构361形成有以面向对置部分Va的方式向前下方倾斜的吸引面361f。在第二吸引机构362形成有以面向对置部分Va的方式向后下方倾斜的吸引面362f。在各吸引面361f、362f形成有吸引第一飞沫4a以及第二飞沫4b的吸引孔(未图示)。各吸引机构361、362配置为,各吸引面361f、362f进入遮挡板330的第一主面332与同引导辊7接触的光学膜F10X之间的间隙。
根据本实施方式,在遮挡板330的开口部331中的射出面22侧的缘部形成有锥部336,该锥部336具有以面向射出孔21的方式相对于射出面22的法线倾斜的倾斜面336a,从而能够通过倾斜面336a来承受第一飞沫4a,因此能够避免第一飞沫4a分裂。若假设未在遮挡板330的开口部331中的射出面22侧的缘部形成有锥部,则开口部331的内壁面331a与遮挡板330的第二主面335的边界部在剖视观察时形成90°左右的角部,因此存在从射出孔21射出墨水4i时飞溅的第一飞沫4a在角部处分裂的可能性。
另外,吸引装置360具备隔着对置部分Va而配置于一侧的第一吸引机构361、以及隔着对置部分Va而配置于另一侧的第二吸引机构362,从而能够通过简单的结构有效地吸引隔着对置部分Va而向两侧飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。
另外,第一吸引机构361配置于在铅垂方向上比对置部分Va靠上方的位置,第二吸引机构362配置于在铅垂方向上比对置部分Va而靠下方的位置,从而能够通过简单的结构有效地吸引隔着对置部分Va而向上下两侧飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。
另外,将各吸引机构361、362配置为,各吸引面361f、362f进入遮挡板330的第一主面332与同引导辊7接触的光学膜F10X之间的间隙,从而能够使吸引孔接近射出路径Ia,因此能够有效地吸引在射出面22与光学膜F10X之间飞溅的第一飞沫4a以及第二飞沫4b。需要说明的是,通过使吸引孔接近墨水4i的喷落位置,能够更加有效地吸引第二飞沫4b。
另外,将液滴射出装置20配置为,在搬运光学膜F10X的期间,隔着光学膜F10X而与同光学膜F10X接触的引导辊7对置,从而能够将液滴射出装置20以及固定构件340配置为抑制光学膜F10X中产生的颤动的状态,因此能够在遮挡板330不与光学膜F10X接触的范围内尽可能地减小固定构件340的遮挡板330与射出面22之间的间隔,从而最大限度地减小飞沫4a的扩散范围。
另外,在吸引机构361、362不将光学膜F10X吸入的范围内尽可能地减小吸引机构361、362的吸引面与对置部分Va之间的间隔,从而能够最大限度地吸收飞沫4a、4b。
需要说明的是,即使在不具备固定构件340(遮挡板330)的情况下,通过在射出面22不与光学膜F10X接触的范围内尽可能地减小射出头20A的射出孔21与光学膜F10X之间的间隔,也能够最大限度地减小飞沫4a的扩散范围。
本实施方式所涉及的缺陷检查系统310还具备与光学膜F10X接触的引导辊7,标注装置304隔着光学膜F10X而与引导辊7对置地配置,且从光学膜F10X的与同引导辊7接触的位置相反的一侧射出墨水4i。
根据本实施方式,还具备上述的引导辊7,从而能够将液滴射出装置20以及固定构件340配置为抑制光学膜F10X中产生的颤动的状态,因此能够在遮挡板330不与光学膜F10X接触的范围内尽可能地减小固定构件340的遮挡板330与射出面22之间的间隔,从而最大限度地减小飞沫4a的扩散范围。
需要说明的是,在本实施方式中,列举了将遮挡板330设为平板状、即将遮挡板330的第一主面332设为与yz平面平行的面的例子进行说明,但并不限定于此。例如,也可以将遮挡板中的与引导辊7对置的部分设为以向与引导辊7相反的一侧凹陷的方式剖视观察时呈圆弧状、即将遮挡板的第一主面设为以沿着引导辊7的外周面的方式呈圆弧状的面。由此,与将遮挡板330设为平板状的情况相比,能够进一步减小遮挡板与光学膜F10X之间的间隔,因此能够进一步有效地减小飞沫4a的扩散范围。
需要说明的是,本发明并不限定于上述实施方式,在不脱离本发明的主旨的范围内能够加以各种变更。
在上述实施方式中,列举了标注装置对由搬运线9沿与铅垂方向平行的方向搬运的光学膜F10X从与铅垂方向正交的方向射出墨水4i的例子进行说明,但并不限定于此。例如,标注装置也可以对沿水平方向搬运的光学膜F10X从下方射出墨水4i。在该情况下,与标注装置对沿水平方向搬运的光学膜F10X从上方射出墨水4i的情况相比,能够抑制墨水4i因重力的影响而从射出孔21自然地垂落的情况。
另外,在上述实施方式中,列举了隔着从标注装置射出墨水4i的射出通路Ia而在两侧配置有飞溅限制板、吸引机构的例子进行说明,但并不限定于此。例如,在因光学膜F10X的搬运而产生的风的朝向、墨水4i的射出通路Ia的方向,而使墨水4i的飞沫隔着射出通路Ia集中于一侧的情况下,也可以仅在该一侧配置有飞溅限制板、吸引机构。
另外,在上述实施方式中,列举了在如图7等所示的液滴射出装置中,具有多个射出孔的射出头沿光学膜F10X的宽度方向以覆盖印刷范围的方式配置有多个的结构为例而进行说明,但并不限定于此。例如,也可以为,具备具有1~3个射出孔的单独的射出头的液滴射出装置根据来自控制装置的缺陷位置信息而沿光学膜F10X的宽度方向以及搬运方向移动,从而对光学膜F10X上的缺陷位置射出墨水4i而进行印刷。需要说明的是,也可以使飞溅限制板、吸引机构也与液滴射出装置一起向缺陷位置移动,从而防止因墨水4i的飞沫造成的对光学膜F10X的污染。
另外,对于上述缺陷检查系统10,将设置为膜制造装置1的一部分的结构作为一例而列举并进行说明,但并不限定于此。上述缺陷检查系统10也可以与膜制造装置1分别独立地设置。例如,也可以为,膜制造装置1不具备上述缺陷检查系统10,在将膜制造装置1中制造出的光学膜F10X通过卷绕部8卷绕于芯材而作为光学膜F10X的卷料辊R2后,向下一工序输送,在下一工序的设备的一部分中设置有上述缺陷检查系统10。
需要说明的是,对于应用本发明的膜,不限定于上述的偏振膜、相位差膜以及增亮膜这样的光学膜,能够将本发明广泛地应用于能够进行由标注装置实施的印刷的膜。
以上,参考附图说明了本发明所涉及的优选的实施方式例,但本发明当然并不限定于相关例子。上述的例子中所示的各构成构件的诸形状、组合等仅是一例,能够在不脱离本发明的主旨的范围内根据设计要求等进行各种变更。

Claims (13)

1.一种标注装置,其能够通过对光学膜射出液滴而标注信息,其中,
所述标注装置具备:
液滴射出装置,其具有形成有向所述光学膜射出所述液滴的射出孔的射出面;以及
飞溅限制构件,其设置在所述射出面与所述光学膜之间,且能够遮挡在所述液滴从所述射出孔射出直至喷落于所述光学膜的过程中飞溅的飞沫,
所述飞沫包括从所述射出孔射出所述液滴时飞溅的第一飞沫,
在所述飞溅限制构件形成有沿与所述射出面的法线交叉的方向延展的遮挡面,
所述射出面侧的所述遮挡面限制所述第一飞沫向所述光学膜侧移动,
所述飞溅限制构件具有第一飞溅限制板和第二飞溅限制板,所述第一飞溅限制板和所述第二飞溅限制板在所述光学膜的宽度方向上具有长边,
所述第一飞溅限制板与所述第二飞溅限制板分离地配置,并形成供所述液滴通过的狭缝,
所述飞溅限制构件具有固定壁部,
所述固定壁部具备上壁部和侧壁部,
所述上壁部与所述第一飞溅限制板的上端一体地连结,并且以越趋于后侧越位于上方的方式倾斜。
2.根据权利要求1所述的标注装置,其中,
所述飞沫还包括所述液滴喷落于所述光学膜时飞溅的第二飞沫。
3.根据权利要求1所述的标注装置,其中,
所述飞溅限制构件具备在与所述射出面的法线平行的方向上具有厚度的飞溅限制板。
4.根据权利要求3所述的标注装置,其中,
所述飞溅限制板具备隔着供所述液滴射出的射出通路而配置于一侧的第一飞溅限制板、以及隔着所述射出通路而配置于另一侧的第二飞溅限制板中的至少一方。
5.根据权利要求4所述的标注装置,其中,
所述射出通路沿着与铅垂方向交叉的方向,
所述第一飞溅限制板配置于在铅垂方向上比所述射出通路靠上方的位置,
所述第二飞溅限制板配置于在铅垂方向上比所述射出通路靠下方的位置。
6.根据权利要求4所述的标注装置,其中,
在所述第一飞溅限制板形成有沿与所述射出面的法线交叉的方向延展的第一遮挡面,
在所述第二飞溅限制板形成有与所述第一遮挡面平行地延展的第二遮挡面。
7.根据权利要求4所述的标注装置,其中,
所述第一飞溅限制板与所述第二飞溅限制板分离的间隔大于所述射出孔的直径。
8.根据权利要求5所述的标注装置,其中,
所述飞溅限制板仅为所述第二飞溅限制板。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的标注装置,其中,
所述标注装置还具备遮挡构件,该遮挡构件设置于所述射出面,且能够遮挡从所述射出孔射出所述液滴时飞溅的飞沫,
在所述遮挡构件形成有开口部,该开口部在与所述射出孔对置的位置开口,并且具有遮挡向与所述射出面的法线交叉的方向飞溅的所述飞沫的内壁面。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的标注装置,其中,
所述标注装置还具备吸引装置,该吸引装置设置在所述射出面与所述光学膜之间,且能够吸引在所述液滴从所述射出孔射出直至喷落于所述光学膜的过程中飞溅的飞沫。
11.根据权利要求1至8中任一项所述的标注装置,其中,
所述液滴射出装置配置为,在搬运长条带状的所述光学膜的期间,隔着所述光学膜而与同所述光学膜接触的引导辊对置,且从所述光学膜的与同所述引导辊接触的位置相反的一侧射出所述液滴。
12.一种缺陷检查系统,其具备:
搬运线,其搬运长条带状的膜;
缺陷检查装置,其进行由所述搬运线搬运的膜的缺陷检查;以及
权利要求1至11中任一项所述的标注装置,其能够通过根据所述缺陷检查的结果向缺陷的位置射出液滴而标注信息。
13.一种膜制造方法,包括使用权利要求12所述的缺陷检查系统来进行标注的工序。
CN201810169816.5A 2017-03-03 2018-02-28 标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法 Active CN108535253B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017040929A JP6978842B2 (ja) 2017-03-03 2017-03-03 マーキング装置、欠陥検査システム及びフィルム製造方法
JP2017-040929 2017-03-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108535253A CN108535253A (zh) 2018-09-14
CN108535253B true CN108535253B (zh) 2022-11-11

Family

ID=63486373

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810169816.5A Active CN108535253B (zh) 2017-03-03 2018-02-28 标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6978842B2 (zh)
KR (1) KR102478804B1 (zh)
CN (1) CN108535253B (zh)
TW (1) TWI772372B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6934733B2 (ja) * 2017-03-03 2021-09-15 住友化学株式会社 マーキング装置、欠陥検査システム及びフィルム製造方法
CN109540902A (zh) * 2018-11-14 2019-03-29 苏州襄行软件有限公司 一种偏光片瑕疵检测系统及其检测方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008111746A (ja) * 2006-10-31 2008-05-15 Toppan Printing Co Ltd 基板検査装置及び基板検査方法
CN204649635U (zh) * 2015-03-31 2015-09-16 苏州友佳电子有限公司 一种网板检查台

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5877788A (en) * 1995-05-09 1999-03-02 Moore Business Forms, Inc. Cleaning fluid apparatus and method for continuous printing ink-jet nozzle
JP3618943B2 (ja) * 1996-12-17 2005-02-09 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録装置
JP2002292853A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Tomoegawa Paper Co Ltd マーキングシステム、マーキング方法およびマーキング装置
JP4343456B2 (ja) 2001-04-03 2009-10-14 大日本印刷株式会社 シート状製品の欠陥マーキング方法および装置
JP2004174819A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Canon Inc インクジェット記録装置
JP4044012B2 (ja) * 2003-08-29 2008-02-06 シャープ株式会社 静電吸引型流体吐出装置
US7623699B2 (en) * 2004-04-19 2009-11-24 3M Innovative Properties Company Apparatus and method for the automated marking of defects on webs of material
JP2006088468A (ja) * 2004-09-22 2006-04-06 Fuji Xerox Co Ltd インクジェット記録装置
US7424902B2 (en) * 2004-11-24 2008-09-16 The Boeing Company In-process vision detection of flaw and FOD characteristics
JP4899490B2 (ja) * 2006-01-19 2012-03-21 富士ゼロックス株式会社 液滴吐出装置
JP2008175940A (ja) * 2007-01-17 2008-07-31 Sekisui Chem Co Ltd 光学フィルムの欠陥のマーキング方法
US8323438B2 (en) * 2008-10-23 2012-12-04 Xerox Corporation Method for fixing a radiation-curable gel-ink image on a substrate
WO2010052964A1 (ja) * 2008-11-10 2010-05-14 エスアイアイ・プリンテック株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及び液体噴射ヘッドの液体充填方法
US20100162865A1 (en) * 2008-12-31 2010-07-01 E.I. Du Pont De Nemours And Company Defect-containing strip and method for detecting such defects
JP2010231170A (ja) * 2009-03-06 2010-10-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 液晶表示装置用基板の検査装置および液晶表示装置の製造方法
JP2011065184A (ja) 2009-04-10 2011-03-31 Nitto Denko Corp 光学フィルムロール原反、およびそれを用いた画像表示装置の製造方法
JP2010247362A (ja) * 2009-04-13 2010-11-04 Seiko Epson Corp 液体噴射装置
US20120081684A1 (en) * 2009-06-22 2012-04-05 Asml Netherlands B.V. Object Inspection Systems and Methods
JP2011224522A (ja) * 2010-04-23 2011-11-10 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置および描画方法
JP2012232450A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Panasonic Corp 液体吐出ヘッド及び液体吐出装置
JP2012232552A (ja) * 2011-05-09 2012-11-29 Riso Kagaku Corp インクジェットヘッド
JP6155759B2 (ja) * 2013-03-29 2017-07-05 セイコーエプソン株式会社 液体吐出装置
JP6177017B2 (ja) * 2013-06-12 2017-08-09 住友化学株式会社 欠陥検査システム
JP6934733B2 (ja) * 2017-03-03 2021-09-15 住友化学株式会社 マーキング装置、欠陥検査システム及びフィルム製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008111746A (ja) * 2006-10-31 2008-05-15 Toppan Printing Co Ltd 基板検査装置及び基板検査方法
CN204649635U (zh) * 2015-03-31 2015-09-16 苏州友佳电子有限公司 一种网板检查台

Also Published As

Publication number Publication date
JP6978842B2 (ja) 2021-12-08
KR102478804B1 (ko) 2022-12-16
JP2018146361A (ja) 2018-09-20
TW201843435A (zh) 2018-12-16
CN108535253A (zh) 2018-09-14
KR20180101208A (ko) 2018-09-12
TWI772372B (zh) 2022-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108535274B (zh) 标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法
US10391795B2 (en) Target transport apparatus and liquid ejecting apparatus
CN105247351B (zh) 缺陷检查系统
CN108535253B (zh) 标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法
US9199493B2 (en) Transportation device and recording apparatus
US9022551B2 (en) Transportation device and recording apparatus
CN108535273B (zh) 缺陷检查系统、膜制造装置及方法、印刷装置及方法
US10850501B2 (en) Printing method and printing apparatus
KR102447149B1 (ko) 마킹 장치, 결함 검사 시스템 및 필름 제조 방법
JP2014195881A (ja) 液体吐出装置
JP7117864B2 (ja) 欠陥検査システム、フィルム製造装置、フィルム製造方法、印字装置及び印字方法
JP6357829B2 (ja) 媒体搬送装置及び印刷装置
JP7195042B2 (ja) 欠陥情報読取方法、欠陥情報読取システム及びフィルム製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant