CN108459036A - X射线光学装置 - Google Patents

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Abstract

提供了一种在X射线分析系统中使用的X射线光学装置，其包括：发射X射线的X射线源，X射线光学器件，将由X射线源产生的X射线成像到待分析的样品上；以及光束阻挡单元，布置为选择性地阻挡由X射线光学器件输出的X射线光束的至少一部分。光束阻挡单元包括旋转轴和光束阻挡元件，旋转轴能够围绕其轴线旋转并相对于由X射线光学器件输出的X射线光束侧向偏移地布置，光束阻挡元件偏心地安装在旋转轴上，当光束阻挡元件围绕旋转轴轴线偏心地旋转时，光束阻挡元件能够移动到不同的光束重叠位置中以阻挡输出的X射线光束的相应部分。还提供了一种用于分析结晶或粉末样品的X射线分析系统，包括上述X射线光学装置、样品台和X射线探测器。

Description

X射线光学装置
技术领域
本发明通常涉及X射线分析领域。更特别地，本发明涉及一种X射线光学装置。
背景技术
诸如X射线衍射(或XRD)的X射线分析技术已经变得非常流行，因为它们能够对样品进行无损分析。例如，X射线衍射已经成为用于研究蛋白质类或其它大分子结晶样品的结构特征的基础试验技术中的一种。通常，结晶形态的大分子样品的制备是具有挑战性的。通常，样品非常小并且需要能够将具有小横截面尺寸和高强度的聚焦X射线光束引导到小的样品上的X射线衍射仪。
在DE 10 2004 052 350A1和US 2010/0086104A1中描述了这种X射线衍射仪，并且X射线衍射仪包括发射X射线的X射线源、设计成将由X射线源生成的X射线光束成像到待分析样品上的X射线光学器件、放置待分析样品的样品台以及设计成探测散射X射线的X射线探测器。使用包括一个或两个多层膜反射镜(也称作Geobel或Montel光学器件)的反射光学器件作为X射线光学器件，该一个或两个多层膜反射镜布置并设计成将具有特定光束特性的X射线光束成像到样品上。由于X射线光学器件的这种设计，如反射镜的表面曲率是固定的并且后续不能调节至特定的实验需求，所以在光学器件的生产阶段就必须确定应当满足哪些实验需求。
在X射线衍射中，最相关的光束特性(或参数)为聚焦光束的收敛角和发散角、焦点处的光束强度和光束尺寸。X射线衍射仪的分辨率取决于光束收敛角和发散角并随着收敛角和发散角的增加而降低。另一方面，信噪比随着光束强度增加而提高，并且光束强度随着收敛角和发散角的增加而增加。因此，取决于待分析的样品的特性(即样品是否具有小的或者大的晶胞)，需要不同的收敛角和发散角并因此需要不同的X射线光学器件。
为了调节成像光束在焦点处的收敛角和发散角，US 2009/0129552 A1提出使用可调光圈，以便切断或切除由X射线光学器件反射的X射线光束的某些部分。该可调光圈布置在光学器件的远端处(即背离X射线源的端部处)或与其极为接近并且该可调光圈由两个成角度的板组成，其中这两个成角度的板中的至少一个能够线性移动。
从US 2010/0086104 A1中也可以得知用于切断不需要的X射线光束部分的可调光圈。根据一个实施方式，光圈由两个L形的光圈叶片限定。至少一个L形光圈叶片可以通过高精度的测微螺丝或细螺纹螺栓而移动。根据旋转方向转动螺丝，叶片能够向前或向后线性移动，以使得光圈的开口尺寸相应地变窄或变宽。根据另一实施方式，提出了一种具有固定光圈开口尺寸的光圈。在这个实施例中，光圈作为一个整体能够在垂直于X射线光束的传播方向的平面中移动。通过相对于X射线光束适当地移动光圈，能够切断不需要的X射线部分，以使仅仅具有期望的收敛角和发散角的光束部分可以通过光圈开口。同样，光圈相对于X射线光束的线性移动通过测微螺丝或细螺纹螺丝来实施。
上述的光圈设计具有一些缺点。首先，测微螺丝或细螺纹螺丝非常昂贵且对外界影响非常敏感。另外，带有测微螺丝的光圈难以在通常接收反射光学器件的气密性壳体中实施。更进一步地，很难通过测微螺丝来控制光圈叶片的运动，这是因为运动参数(如起始位置、终点止动装置、旋转方向的变化)必须要精确地定义。因此，需要一种不同的X射线光束调节技术，该技术能够用于切除某些光束部分以便在图像焦点处获得具有期望的收敛角和发散角的光束并且克服了至少上述相对于现有可调光圈的缺陷。
发明内容
为了解决上述问题和其它问题，本发明提供一种X射线光学装置，包括：X射线源，其构造为发射X射线；X射线光学器件，其构造为将由X射线源生成的X射线光束成像在待分析的样品上；光束准直装置；以及光束阻挡单元，其布置为选择性地阻挡由X射线光学器件输出的X射线光束的至少一部分，该光束阻挡单元包括旋转轴和光束阻挡元件；其中，旋转轴可以围绕其轴线旋转并相对于由X射线光学器件输出的X射线光束侧向地偏离设置；并且其中光束阻挡元件偏心地安装在旋转轴上，使得当光束阻挡元件围绕旋转轴线偏心地旋转时，光束阻挡元件可移动进入不同的光束重叠位置以阻挡期望的光束部分。
被光束阻挡单元阻挡的光束部分对应于输出的X射线光束的被偏心旋转的光束阻挡元件重叠的那些光束部分。剩余的未阻挡(或非重叠)光束部分可以穿过光束阻挡单元并传送至待分析的样品。未阻挡光束部分和被阻挡的光束部分的比例可以通过将光束阻挡元件旋转至不同的光束重叠位置而连续地改变。因此，具有期望的光束特征(即具有期望的发散角、光束强度、光束尺寸或光束横截面积)的未阻挡光束部分可以通过简单地改变偏心旋转的光束阻挡元件的角位置而轻松地调节。
由于光束阻挡元件和旋转轴围绕相同的旋转轴线旋转，所以光束阻挡元件到达的光束重叠部分可以取决于旋转轴的旋转角度。因此，通过将旋转轴转动特定的旋转角度，可以达到针对光束阻挡元件的特定光束重叠位置。因此，仅仅通过将旋转轴围绕其轴线转动就可以将具有期望收敛角和发散角的光束部分切掉。
通过将旋转轴围绕其轴线转动，偏心旋转的光束阻挡元件可以在预先确定的最小光束重叠位置和预先确定的最大光束阻挡位置之间移动。最小重叠位置可以是光束阻挡元件与输出的X射线光束具有最小重叠的位置。最大重叠位置可以是光束阻挡元件与输出的X射线光束具有最大重叠的位置。因此，X射线光束的未被光束阻挡元件重叠并可以穿过光束阻挡单元的光束部分在最大重叠位置处变得最小并且在最小重叠位置处变得最大。
通过偏心的光束阻挡元件获得的最大重叠可以取决于光束阻挡元件的几何尺寸，特别是取决于其侧向尺寸。根据一个变型，光束阻挡元件的尺寸可以确定成使其在最小重叠位置中与输出的X射线光束完全重叠。根据一个备选的变型，光束阻挡元件的尺寸可以确定成使其与输出的X射线光束仅仅部分地重叠。对于最大重叠位置，可以设想光束重叠在输出的X射线光束的50％至100％的范围内。
通过偏心的光束阻挡元件获得的最小重叠也可以取决于光束阻挡元件的几何尺寸以及其在旋转轴上的偏心轴承的几何尺寸。根据一个变型，最小重叠也可以包括在光束阻挡元件和输出的X射线光束之间没有重叠的限值。对于最小重叠位置，可以设想光束重叠在输出的X射线光束的0％至40％范围内。
最小重叠位置和最大重叠位置可以分别与旋转光束阻挡元件及相应旋转轴的特定角位置相关。光束阻挡元件可以设计成并偏心地安装在旋转轴上，以便从最小重叠位置开始，可以通过将旋转轴(以及相应的光束阻挡元件)转动180°(或一半)而到达最大重叠位置。而且，可以通过简单地将旋转轴围绕其轴线以选自0°至180°之间的相应旋转角旋转而可以使光束阻挡元件到达最小重叠位置和最大重叠位置之间的任意位置。
在通过将旋转轴转动180°到达最大重叠位置以后，可以通过进一步的180°旋转(进一步转动一半)而将光束阻挡元件进一步从最大重叠位置移动回到最小重叠位置。因此，通过将光束阻挡元件转动一整圈(转动360°)，光束阻挡元件可以在最小重叠位置和最大重叠位置之间振荡(即前后移动)。另外，旋转轴和光束阻挡元件的旋转可以不限于一个完整的圈。它们可以旋转多个圈而不受任一方向的限制。光束阻挡元件从而以360°的振荡周期在最小重叠位置和最大重叠位置之间振荡。因此，通过简单地沿一个方向连续转动旋转轴而可以重复地到达最小重叠位置和最大重叠位置之间的任意重叠位置。虽然前后移动是可能的，但是不需要改变旋转轴的旋转方向，因为从当前重叠位置开始，最小重叠位置和最大重叠位置之间的任意其它重叠位置(包括最小位置和最大位置)均可以在旋转轴的进一步整圈的旋转中获得。因此，不需要前后移动光束阻挡元件以调节不同的重叠位置。因此，光束阻挡元件位置的控制可以进一步简化。
光束阻挡元件可以包括旋转对称主体，其具有可以限定针对输出的X射线光束的光束阻挡边缘的侧表面。光束阻挡元件可以安装在旋转轴上，使得该旋转对称主体的旋转轴线大致平行于旋转轴的旋转轴线，但是偏离旋转轴的旋转轴线而定位。由于这种偏离，该主体可以围绕轴的轴线进行偏心旋转，使得光束阻挡边缘可以在预先确定的最小光束重叠位置和最大光束重叠位置之间振荡。
旋转对称主体的侧表面可以为沿其圆周方向的主体表面。另外，光束阻挡边缘还可以由侧表面的轮廓限定。对于该轮廓，其可以意指由旋转对称主体投影到大致垂直于输出的X射线光束的传播方向的截面平面上而得到的一维侧向主体边缘。由于偏心旋转，该主体与输出的X射线光束可以越来越多或越来越少地重叠，并且因此，主体轮廓可以进一步移入或移出位于平面内的光束横截面区域。因此，主体可以用作针对输出的X射线光束的可变狭缝或光圈，其侧表面作为可移动的狭缝或光圈边缘。
限定光束阻挡边缘的侧表面的轮廓可以进一步与输出的X射线光束的横截面形状对齐。对于横截面形状，其可以意指大致垂直于光束传播方向的光束横截面的形状。例如，如果输出的X射线光束的横截面形状为矩形，则光束阻挡元件主体可以为具有直线侧表面轮廓的圆柱体，该圆柱体可以与输出的光束的矩形形状的一侧对齐。备选地，如果输出的X射线光束的横截面形状为菱形，则光束阻挡元件的主体可以为对顶锥，具有与菱形横截面区域的两侧对齐的L形轮廓。
独立于上述几何形状，光束阻挡元件(光束阻挡元件主体)可以由有效吸收X射线的材料制成。根据一个变型，光束阻挡元件可以由青铜制成。
光束阻挡元件可以牢固地安装在旋转轴上。反过来，旋转轴可以由轴承单元可旋转地支承。轴承单元可以在X射线光学器件之后布置。例如，轴承单元可以布置于X射线光学器件的远端部(即背离X射线源的端部)处或附近。另外，轴承单元可以安装成使得旋转轴可以远离光束定位。也就是说，旋转轴可以不与输出的X射线光束重叠。
X射线光学装置可以进一步包括设计成接收至少一个轴承单元、旋转轴以及光束阻挡元件的套管。另外，该套管可以设计成额外地接收X射线光学器件。该套管可以设计为可被抽空的和/或充满保护气体的气密性套管。
X射线光学装置也可以包括至少一个布置成在旋转轴周围实现气密密封的密封元件。例如，可以将O形环用作密封元件。
为了获得期望的光束重叠位置，可以手动地或自动地转动旋转轴。为了实施自动化的轴旋转，该X射线光学装置还可以包括驱动单元，该驱动单元可操作地与旋转轴连接并构造成使轴以预先确定的旋转角度旋转。另外，该X射线光学装置还可以包括传感器单元，传感器单元构造成在轴旋转期间测量轴的当前角位置和/或角位移。由于每个角位置均可以被分配给光束阻挡元件的特定重叠位置，可以通过为轴设定相应的旋转角度而轻松地调节当前重叠位置。
驱动单元可以包括构造成产生转矩的电动机和构造成向轴传递转矩的传输单元。可以使用皮带传动作为传输单元。但是，也可以设想其它的传输工具以向轴传递电机转矩。
X射线光学装置还可以包括控制单元。控制单元可以与传感器单元、驱动单元和外部输入装置通信。控制单元可以被编程为基于由传感器单元测量的旋转轴的角位置来确定光束阻挡元件的实际重叠位置，以将该实际重叠位置与从输入装置接收的设定的光束重叠位置进行比较，并且基于比较结果生成电机信号，该电机信号控制驱动单元的电机以将旋转轴驱动至与设定的重叠位置对应的角位置。出于这个目的，控制器可包括至少一个处理器，该处理器用于处理实现上文描述的控制步骤的软件程序。
该X射线光学装置的X射线光学器件可以包括至少一个反射元件，反射元件的形状设计成将X射线光束以预先确定的焦距聚焦在预先确定的焦点上。至少一个反射元件可以设计成具有(侧向或深度)的梯度d间距的多层膜反射镜。根据一个变型，可以实现仅包括一个反射镜的Goebel光学器件。根据另一变型，可以实现包括并排安装且相互垂直的两个反射镜的Montel光学器件。
X射线光学器件还可以包括在准直器，该准直器在X射线光学器件之后布置并构造成对X射线光学器件和待分析样品之间的X射线光束进行进一步细化。该准直器可包括带有一个或多个针孔的管子或毛细管或其它任何准直元件以进行光束细化。根据一个实施方式的变型，光束阻挡元件可以在X射线光学器件之后，但是在准直器之前布置。根据备选实施方式的变型，光束阻挡元件可以在X射线光学器件和准直器之后布置。
X射线光学装置的X射线源可以为常规X射线发生器，该常规X射线发生器构造成通过使用由强电场加速的高速电子撞击金属靶而产生X射线。金属靶可以实施为旋转的或固定的靶。另外，可以使用铬(Cr)、钴(Co)、铜(Cu)钼(Mo)、银(Ag)或铁(Fe)靶作为金属靶。
根据本发明的另一方面，提供了一种操作上述X射线光学装置的方法，其中该方法包括：通过X射线源产生X射线光束；通过X射线光学器件将X射线光束成像在待分析样品上；通过准直器将待成像的X射线光束准直到样品；以及根据待分析样品调节所成像的X射线光束的发散角和/或强度，其中，调节步骤包括通过将光束阻挡元件的旋转轴旋转预先确定的旋转角度而使光束阻挡元件朝着期望的光束重叠位置移动。
调节步骤可以通过上文提到的控制单元和与旋转轴机械地耦接的驱动单元自动地进行。
根据又一方面，提供了一种X射线分析系统，其包括上述X射线光学装置；样品台，其构造成保持住待分析的样品并且相对于由X射线光学装置输出的X射线光束而对待分析的样品进行定向；以及X射线探测器，其构造成探测被样品散射的X射线。
X射线分析装置可以为设计用于分析结晶或粉末样品的X射线衍射仪。对于结晶样品，样品可以是指以单晶或多晶形式制备的样品。
样品台可以设计成将样品定位在任意位置并使样品相对于输出的光束定向。特别地，样品台可以设计成用于沿两个不同的方向旋转样品。
X射线探测器可以构造成探测散射的X射线光束。可以使用市场上能买到的一维或二维X射线探测器作为X射线探测器，其构造为根据位置、时间和能量测量从样品衍射的X射线光束的强度。
附图说明
本文描述的本公开的进一步的细节、方面和优点将从以下附图中变得显而易见，其中：
图1为根据本发明的X射线分析系统的示意图；
图2为根据本发明实施例的X射线光学装置的一部分的三维视图；
图3a-图3b为图2中所示的X射线光学装置的横截面视图；
图4为根据本发明实施例的X射线光学装置的一部分的三维视图；以及
图5为图4的X射线光学装置的框图。
具体实施方式
在下面的描述中，出于解释而并非限制的目的，阐述了具体细节以便提供对本文呈现的X射线分析系统和X射线光学装置的透彻理解。对于本领域技术人员显而易见的是，所公开的X射线分析系统和X射线光学装置可以在保护范围内从下文阐述的具体细节偏离。
在下文中，参考了图1。图1示出了根据所要求保护的本发明的X射线分析系统100的示意图。X射线分析系统100为设计用于在结晶样品300上进行X射线衍射分析的X射线衍射仪。该X射线分析系统100包括X射线光学装置110、样品台120以及X射线探测器130。X射线光学装置110依次包括X射线源1100、X射线光学器件1200以及X射线光束阻挡单元1300。X射线光学装置110也可以包括用于细化成像光束的准直器(图1中未示出)。
X射线光学装置110的X射线源1100构造成产生X射线辐射220。出于这个目的，可以使用常规的X射线发生器，其构造为通过使由强电场加速的高速电子撞击静止或旋转的金属靶而生成X射线220。可以使用铬(Cr)、钴(Co)、铜(Cu)、钼(Mo)、银(Ag)或铁(Fe)靶作为金属靶。根据优选的实施方案，使用了铜或钼靶。
样品台120构造为在相对于从X射线光学器件1200输出的X射线光束240的预定取向上保持样品300。为了使样品300相对于X射线光束240定向，样品台120可以在至少两个独立的方向上旋转。
X射线探测器130构造为测量由样品300散射的X射线的强度、空间分布、光谱和/或其它特性。可以使用从现有技术中已知的常规的闪烁探测器或充气式探测器。
X射线光学器件1200布置在X射线源1100和样品台120之间。X射线光学器件1200布置并构造成使得从X射线源1100的X射线220生成预定形状的单色X射线光束240并且将单色X射线光束240成像到可放置样品300的特定区域。出于这个目的，X射线光学器件1200可以设计为包括至少一个反射元件1210的X射线聚焦光学器件，例如具有(侧向或深度)的梯度为d间距的多层膜反射镜。反射元件1210的表面的形状可以设计成使得在图像焦点处获得具有预定形状、尺寸、强度以及收敛角和发散角310的X射线光束240。
X射线光学装置110的光束阻挡单元1300设置在X射线光学器件1200的出口(即远端部)处。光束阻挡单元1300包括光束阻挡元件1320和旋转轴1310。旋转轴1310侧向地设置且不与输出X射线光束240重叠。根据图2中所示的实施方式，旋转轴1310和光束阻挡元件1320布置成靠近光束侧部，光束240在该处具有最低的强度。也可以想到一种备选的实施方式，其中旋转轴1310和光束阻挡元件1320布置在相对的一侧，即光束240具有最高强度的光束侧部附近。在本文中，应注意的是，由于在反射元件1210的近端部1210a和远端部1210b处的X射线捕获角不同，光束强度在反射元件1210上可以不是均匀的并且可以从其近端部1210a(即最靠近X射线源1100的反射元件端部)到其远端部1210b(即最远离X射线源1100的反射元件端部)变化。通常，从近端部1210a处的或靠近近端部1210a的反射元件部分反射的X射线光束部分240a具有比从远端部1210b处的或靠近远端部1210b的反射元件部分反射的X射线光束部分240b更高的强度。
独立于上文描述的在近端部光束侧部或远端部光束侧部处的布置，光束阻挡元件1320偏心地安装在旋转轴1310上，以便旋转轴1310围绕其轴线的旋转(见图1中的箭头)使光束阻挡元件1310围绕旋转轴1310偏心旋转并从而使光束阻挡元件1320相对于输出的X射线光束240进行基于旋转的移动。也就是说，由于光束阻挡元件1320的偏心布置(即光束阻挡元件1320的重心轴线的中心相对于旋转轴1310的轴线偏移)，侧向布置的光束阻挡元件1320的至少一部分可以旋转进入输出的X射线光束240中。因此，输出的X射线光束240可以由光束阻挡元件1320至少部分地重叠，以便仅仅剩余的未重叠光束部分240a可以穿过光束阻挡单元1300。
在图1中，光束阻挡元件1320示出为假设两个不同的光束重叠位置，即最小光束重叠位置(光束阻挡元件1320的实线表现形式)和最大重叠位置(见虚线表现形式)。在当前情况下，最小重叠位置对应非重叠位置，在该位置光束阻挡元件1320从输出的X射线光束240被转离并与输出的光束240完全不重叠。在该情况下，由X射线光学器件1200输出的X射线光束240可以作为整体穿过阻挡单元1300。然而，也可以想到的是，光束阻挡单元1300设计成使得即使在将光束阻挡元件1320从输出的X射线光束转离的情况下，光束阻挡元件1320和输出的X射线光束240之间仍然存在小的重叠。在这种情况下，小的光束部分也在最小重叠位置被阻挡。
最大重叠位置对应于光束阻挡元件1320和X射线输出的光束240之间的重叠达到最大的位置。从图1的附图中可以清楚地看出，光束阻挡元件1320能达到的最大重叠位置主要取决于光束阻挡元件1320的几何尺寸。例如，可以沿着垂直于旋转轴1310的方向确定光束阻挡元件1320的尺寸，以便当光束阻挡元件1320到达其最大重叠位置时，整个X射线光束240或仅其一部分240a被光束阻挡元件1320重叠。在图1中，仅仅出于解释而非限制的目的，处于最大重叠位置处的光束阻挡元件1320只阻挡输出的X射线光束240的一部分240b。剩余的未阻挡光束部分240a仍然可以穿过阻挡单元并到达样品300。因此，相比于整个光束240的收敛角或发散角310，剩余的未阻挡光束部分240a的收敛角或等同地发散角310a减小了。
光束阻挡元件1320的最小重叠位置和最大重叠位置分别可以与旋转轴1310的特定的角位置相关。在当前情况下，光束阻挡元件1320设计并支承在旋转轴1310上，以使最小重叠位置可以与旋转轴1310的0°角位置相关并且最大重叠位置与旋转轴1310的180°角位置相关。换句话说，在从最小重叠位置开始时，旋转轴1310转动180°后可以获得最大重叠位置。另外，最小重叠位置和最大重叠位置之间的任何重叠位置都可以通过简单地将旋转轴1310旋转0°至180°之间的相应旋转角度而得到。因此，通过为旋转轴1310选择合适的旋转角度，可以对预定义的最小和最大重叠位置之间的任何期望的重叠位置进行调节。因此，可以选择性地阻挡光束240的期望的部分，以便可以将收敛角/发散角选择性地调节至实验需求。
光束阻挡元件可以旋转多圈而不受限制。通过执行一整圈的旋转(即360°转动)，光束阻挡元件1320可以从最小重叠位置(或非重叠位置)向最大重叠位置移动并回到最初的最小重叠位置。由于光束阻挡元件1320在最小重叠位置和最大重叠位置之间以360°的旋转周期振荡，所以不管光束阻挡元件1320转向光束或从光束转出，都不需要改变旋转方向。
在下文中将进一步描述X射线系统100的操作。在操作中，X射线源1100朝着反射光学器件1200发射X射线(例如由Cu靶生成的X射线)。接着，反射光学器件1200将选定波长的X射线(例如Cu-Kα)以预先确定的横截面面积和横截面形状的形式朝着待研究的结晶或粉末样品300反射。X射线光束的形状和横截面面积取决于X射线光学器件设计并且可以在不同的设计实施方式之间变化。样品300安装在样品台120上并可以通过样品台120相对于X射线光束240进行定向。可以通过在X射线光束曝光期间旋转样品300而改变样品的定向。X射线光束240被样品300衍射。探测器将不同样品定向上的衍射的X射线光束的强度和空间分布记录下来，并且基于此产生X射线衍射图案。所获得的X射线衍射图案包括对应结晶样品的间隔开的离散点或对应粉末样品的线。
X射线衍射图案的分辨率(即相邻点或线的分辨率)取决于由X射线光学器件1200输出的X射线光束240的发散角。对于具有大晶胞的样品300，需要具有小发散角的输出的X射线光束240以提高图案分辨率。具有小发散角的X射线光束240可以通过将光束阻挡单元1320仅旋转至期望的重叠位置(例如见图1)而达到。由于在图1中光束阻挡元件1320布置成阻挡输出的X射线光束240的弱光束部分240b，所以不必过多地限制光束强度就可以在样品300处获得具有小发散角的X射线光束。因此，光束阻挡元件1320用作可调光圈，该可调光圈能够将输出的X射线光束240限制成具有期望的发散角的光束。
此外，光束阻挡元件1320可以用于调节到达样品300的输出的X射线光束240的强度。对于较强衍射的样品300的情况，到达探测器130的衍射强度可能会因为太强而无法准确地测量，在这种情况下，可以将光束阻挡元件1320仅仅旋转至期望的重叠位置以便在样品300上得到降低了的X射线光束强度。
结合图2，将进一步描述X射线光学装置110的实施方式。更具体地，将进一步描述X射线光学装置110的X射线光学器件1200和光束阻挡单元1300的实施方式。
图2示出了背离X射线源1100的X射线光学器件1200的端部的三维视图。X射线光学器件1200包括两个反射镜1212、1214以及用于接收镜子1212、1214的套管1230a。X射线光学器件1200可以进一步包括用于将套管1230a在至少一个方向上枢转的枢转机构1240以及用于接收套管1230a和枢转机构1250(图2中未示出，但在图4中可见)的外部壳体1230c。而且，可以在外部壳体1250的近端处设置销1260，通过销1260可以将壳体1250机械连接到X射线源1100上。
两个反射镜1212、1214设计并布置成生成单色X射线光束240。可以在镜子1212、1214的远端处设置固定的光圈。该固定的光圈设计成仅仅让由这两个反射镜1212、1214反射的单色X射线光束通过而阻挡其它的X射线光束部分，如只从单个的镜子反射的光束部分(图2中未示出)。生成的X射线光束240具有预先确定的横截面大小和形状，其取决于所使用的镜子1212、1214的设计细节。在本实施方式中，仅仅出于解释而非限制的目的，使用镜子布置以生成并输出菱形的X射线光束240。
X射线光学装置110的光束阻挡单元1300布置于X射线光学器件1210的远端处。光束阻挡单元1300包括可旋转的光束阻挡元件1320和旋转轴1310，光束阻挡元件1320偏心地安装在旋转轴1310上。光束阻挡单元1300还包括轴承单元1340，轴承单元1340构造为可旋转地支撑旋转轴1310和至少一个密封元件1350。
光束阻挡单元1300被固定在镜子套管1230a的远端处的套管1230b接收。根据备选的实施方式，光束阻挡单元1300可以被镜子壳体1230在其远端处直接接收。
轴承单元1340包括套筒1342，套筒1342布置在套管1230b的上侧并且构造成接收旋转轴1310的上部。套筒1342还包括布置在套筒外表面并在套筒1342的圆周方向上的凹部。凹部1350构造成部分地接收密封元件1350(即O形环)以用于在套筒1340和套管1230b之间提供气密性的密封。另外，轴承单元1340包括轴承凹部144，轴承凹部144布置在套管1230b的下侧并且构造为接收旋转轴1310的下端部。轴承单元1340布置成使得旋转轴1310对于输出的光束240侧向偏移地设置。也就是说，旋转轴1310不与X射线光束240重叠。
光束阻挡元件1320包括偏心地设置在旋转轴1310上的旋转对称主体1324。另外，在沿着旋转轴1310的轴向方向上，主体1324安装在输出X射线光束240的高度处。主体1324具有截去顶部的对顶锥的形状。因此，主体1324具有侧表面1326，侧表面1326具有用于为输出的光束240限定光束阻挡边缘的L形侧轮廓1326a。在本实施方式中，光束阻挡边缘的形状适应于X射线光束240的横截面形状。该形状代表了菱形光束240的两个侧部(同样参见图3a和图3b)。
将结合图3a和图3b对图3的光束阻挡单元1300的操作进一步描述。图3a和图3b均为图2中所示的X射线光学装置110的远端的侧视图。具有相同结构和/或功能特征的X射线光学装置110的部件设置有相同的附图标记。为了清楚起见，只有最突出的部件才设置有附图标记。
图3a示出了光束阻挡元件1320完全从X射线光束240处旋转出来的位置。也就是说，在这个位置，光束阻挡元件1320不与X射线光束240重叠。这个位置对应了上文提到的最小重叠位置并且其可以与旋转轴1310的0°角位置相关联。在这个位置，所输出的X射线光束240具有最大的横截面区域240a。通过将旋转轴1310转动180°，主体1324转动进入X射线光束240中以便该主体的侧轮廓1326a连续地移动进入光束240当中。因此，光束横截面区域240a持续收缩并在旋转180°而达到最大重叠位置处变得最小(见图3b)。
如上文已经提到的，最大重叠位置处的重叠程度取决于光束阻挡元件1320的设计，特别取决于其侧向延伸。在图3b中，只有具有小横截面区域240a的小X射线部分可以穿过阻挡单元1300，而光束240的主要部分被光束阻挡元件1320切断。可以设想，将主体1324的尺寸确定成使得当到达最大重叠位置时光束横截面尺寸240a相对于最初的横截面大小减小80％至98％。备选地，还可以设想，主体1324的尺寸确定成使得当到达最大重叠位置时实现光束的完全阻挡。
为了在主体表面1326处降低X射线散射，主体1324是由具有优异的X射线吸收特性的材料制成。例如，可用青铜制作主体。
参照图4和图5，将讨论根据另外的实施方式的X射线光学装置100a。X射线光学装置100a包括在上文中结合图2、图3a和图3b所讨论的实施方式的X射线源1100、X射线光学器件1200和光圈装置1300。这些部件将不会再次描述。而是将参照上文的相应描述。另外，X射线光学装置100a进一步包括驱动单元1400、传感器单元1500、控制单元1600和输入单元1700(同样见图5)。
驱动单元1400包括构造成生成转矩的电动机1410。此外，驱动单元1400包括皮带传动形式的传输单元。该皮带传动包括皮带1420，皮带1420设置成将由电机1410生成的转矩传递至安装在旋转轴1310的上端部处的皮带轮1430。驱动单元1400设置在壳体1230的上侧。
传感器单元1500构造成在轴的旋转过程中测量旋转轴1310的角位置和/或旋转轴1310的角位移。出于这个目的，可以使用靠近旋转轴1310设置的光学传感器。
输入单元1700(仅在图5的框图中示出)构造成接收用户输入。用户输入可以是光束重叠位置、旋转轴1310的旋转角和/或光束特征(如光束240的发散角310)的指示。由于这些量彼此相关，控制单元1600可以使用每个量来生成适当的电机控制信号。
控制单元1600(仅在图5的框图中示出)与传感器单元1500、驱动单元1400和输入单元1700进行通信。控制单元1600可以被编程为基于由传感器单元1500测量的旋转轴1310的角位置来确定光束阻挡元件1320(或其侧边缘1326a)的实际重叠位置，以将该实际重叠位置与从输入装置1700接收的设定的重叠位置进行比较，并且基于比较结果生成电机信号，该电机信号控制电机1410从而将电机1410驱动至与设定的重叠位置对应的角位置。出于这个目的，控制器1600包括至少一个处理器，该处理器用于处理实现上文描述的控制步骤的软件程序。
上文描述的光束阻挡技术具有很多的优点。该阻挡技术可以轻松地与常规的X射线光学器件结合，因为旋转轴1310和光束阻挡元件1320可以轻松地与常规的X射线光学器件结合。进一步地，该阻挡技术是机械坚固且廉价的，因为没有使用昂贵的高精度螺纹件或者测微螺丝。更进一步地，所描述的技术有助于调节期望的重叠位置并因此调节期望的光束发散角和/或光束强度，因为仅通过沿着一个方向旋转旋转轴而能够在预先定义的最小重叠位置和最大重叠位置之间轻松地选择任何位置。不需要反向旋转旋转轴，因为阻挡元件每进行一次新的轴旋转都会在最小重叠位置和最大重叠位置之间振荡。

Claims (15)

1.一种X射线光学装置(110、110a)，包括：
X射线源(1100)，其构造成发射X射线；
X射线光学器件(1200)，其构造成将由所述X射线源(1100)生成的X射线光束(240)成像到待分析的样品(300)上；以及
光束阻挡单元(1300)，其布置为选择性地阻挡由所述X射线光学器件(1200)输出的所述X射线光束(240)的至少一部分；
光束阻挡单元(1300)包括旋转轴(1310)和光束阻挡元件(1320)，
其中，所述旋转轴(1310)能够围绕其轴线(1312)旋转并相对于由所述X射线光学器件(1200)输出的所述X射线光束(240)侧向偏移地布置，并且
其中，所述光束阻挡元件(1320)偏心地安装在所述旋转轴(1310)上，以便当所述光束阻挡元件(1320)围绕旋转轴线(1312)偏心地旋转时，所述光束阻挡元件(1320)能够移动到不同的光束重叠位置中以阻挡相应的光束(240)部分。
2.根据权利要求1所述的X射线光学装置(110、110a)，其中，所述光束阻挡元件(1320)的光束重叠位置取决于所述旋转轴(1310)的旋转角度。
3.根据权利要求1或2所述的X射线光学装置(110、110a)，其中，所述光束阻挡元件(1320)能够通过在0°和180°之间选择的相应旋转角度而移动到预先确定的最小重叠位置和预先确定的最大重叠位置之间的任意位置。
4.根据前述权利要求中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)，其中，通过将所述旋转轴(1310)转动一整圈，所述光束阻挡元件(1320)能够从最小重叠位置移动到最大重叠位置并且能够从所述最大重叠位置回到所述最小重叠位置。
5.根据前述权利要求中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)，其中，所述光束阻挡元件(1320)包括旋转对称主体(1324)，所述旋转对称主体(1324)具有侧表面(1326)，所述侧表面(1326)限定了针对所述X射线光束(240)的光束阻挡边缘(1326a)。
6.根据前述权利要求中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)，还包括：
-轴承单元(1340)，其设计成旋转地支承所述旋转轴(1310)；以及
-套管(1230a、1230b)，其设计成接收至少一个所述轴承单元(1340)、所述旋转轴(1310)以及所述光束阻挡元件(1320)。
7.根据前述权利要求中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)，其中，还包括至少一个密封元件(1350)，所述密封元件(1350)设计成用于围绕所述旋转轴(1310)实现气密性密封。
8.根据前述权利要求中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)，其中，装置还包括：
-驱动单元(1400)，其与所述旋转轴(1310)操作性地连接并构造成使轴以预先确定的旋转角度旋转；以及
-传感器单元(1500)，其构造成测量由所述驱动单元(1400)旋转的轴(1310)的旋转角度或角位置。
9.根据权利要求8所述的X射线光学装置(110、110a)，其中，所述驱动单元(1400)包括构造成产生转矩的电动机(1410)和构造成向所述轴(1310)传递所述转矩的皮带传动(1420、1430)。
10.根据权利要求7或8所述的X射线光学装置(110、110a)，还包括控制单元(1600)，其中，所述控制单元(1600)与传感器单元(1500)、驱动单元(1400)和外部的输入装置(1700)进行通信，其中，所述控制单元(1600)还构造成：
-基于由所述传感器单元(1500)测量的所述旋转轴(1310)的角位置确定所述光束阻挡元件(1320)的实际光束重叠位置；
-将所述实际光束重叠位置与从所述输入装置(1700)接收的设定光束重叠位置进行比较；以及
-基于比较结果，生成控制所述驱动单元(1400)的信号以将所述旋转轴(1310)驱动至与所述设定光束重叠位置对应的角位置。
11.根据前述权利要求中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)，其中，所述X射线光学器件(1200)包括至少一个反射元件，所述反射元件设计成以预先确定的焦距对X射线光束(240)成像。
12.根据前述权利要求中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)，还包括准直器，所述准直器构造成对所述X射线光学器件(1200)和所述样品300之间的X射线光束(240)进行进一步细化，其中，所述光束阻挡单元(1300)或者设置在所述X射线光学器件(1200)之后、所述准直器之前，或者设置在所述准直器之后。
13.一种操作根据前述权利要求1至12中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)的方法，其中，所述方法包括：
-通过所述X射线源(1100)生成X射线；
-通过所述X射线光学器件(1200)将所述X射线光束(240)成像在待分析的样品(300)上；
-通过所述准直器将待成像的所述X射线光束(240)准直到所述样品(300)上；以及
-根据待分析的所述样品(300)调节所成像的所述X射线光束(240)的发散角(310)和/或强度，其中，调节步骤包括通过将所述旋转轴(1310)旋转预先确定的旋转角度而使所述光束阻挡元件(1320)朝着期望的重叠位置移动。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述调节步骤通过控制单元(1600)和与所述旋转轴(1310)机械地耦接的驱动单元(1400)而自动地进行。
15.一种用于分析结晶或粉末样品(300)的X射线分析系统，特别是X射线衍射仪，包括：
-根据前述权利要求1至12中任一项所述的X射线光学装置(110、110a)；
-样品台(120)，其构造成保持待分析的样品(300)并使待分析的所述样品(300)相对于由所述X射线光学装置(110、110a)输出的所述X射线光束定向；以及
-X射线探测器(130)，其构造成探测被所述样品(300)散射的X射线。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110609048A (zh) * 2019-09-19 2019-12-24 西安交通大学 基于单色x射线衍射的标定方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1275189A (zh) * 1998-06-08 2000-11-29 卡尔海因茨·斯特罗贝尔 有效的光引擎系统、元件及其制造方法
US20030086534A1 (en) * 2001-11-07 2003-05-08 Siemens Aktiengesellschaft Radiation diaphragm for an X-ray apparatus
US20040170250A1 (en) * 2003-02-28 2004-09-02 Osmic, Inc. X-ray optical system with adjustable convergence
US7139366B1 (en) * 2005-05-31 2006-11-21 Osmic, Inc. Two-dimensional small angle x-ray scattering camera
US20100086104A1 (en) * 2008-10-08 2010-04-08 Incoatec Gmbh X-ray analysis instrument with adjustable aperture window
CN101981651A (zh) * 2008-03-05 2011-02-23 X射线光学系统公司 在高度校准的包装中具有多个激发能量带的xrf系统
CN102792156A (zh) * 2010-01-18 2012-11-21 谢诺思公司 紧凑式x射线分析系统

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5644614A (en) * 1995-12-21 1997-07-01 General Electric Company Collimator for reducing patient x-ray dose
JPH11248652A (ja) * 1998-03-02 1999-09-17 Naomi Shimura Ｘ線回折測定法およびｘ線回折装置
DE19833524B4 (de) * 1998-07-25 2004-09-23 Bruker Axs Gmbh Röntgen-Analysegerät mit Gradienten-Vielfachschicht-Spiegel
DE102004052350B4 (de) 2004-10-28 2008-01-10 Bruker Axs B.V. Röntgendiffraktometer mit Wechselapertur
KR20140018392A (ko) 2006-06-13 2014-02-12 세미이큅, 인코포레이티드 이온 빔 장치와 자기 스캐닝을 채용한 방법
US7706503B2 (en) 2007-11-20 2010-04-27 Rigaku Innovative Technologies, Inc. X-ray optic with varying focal points
US9052271B2 (en) * 2010-10-27 2015-06-09 American Science and Egineering, Inc. Versatile x-ray beam scanner
US10580545B2 (en) * 2013-09-25 2020-03-03 Asml Netherlands B.V. Beam delivery apparatus and method

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1275189A (zh) * 1998-06-08 2000-11-29 卡尔海因茨·斯特罗贝尔 有效的光引擎系统、元件及其制造方法
US20030086534A1 (en) * 2001-11-07 2003-05-08 Siemens Aktiengesellschaft Radiation diaphragm for an X-ray apparatus
US20040170250A1 (en) * 2003-02-28 2004-09-02 Osmic, Inc. X-ray optical system with adjustable convergence
US7139366B1 (en) * 2005-05-31 2006-11-21 Osmic, Inc. Two-dimensional small angle x-ray scattering camera
CN101981651A (zh) * 2008-03-05 2011-02-23 X射线光学系统公司 在高度校准的包装中具有多个激发能量带的xrf系统
US20100086104A1 (en) * 2008-10-08 2010-04-08 Incoatec Gmbh X-ray analysis instrument with adjustable aperture window
CN102792156A (zh) * 2010-01-18 2012-11-21 谢诺思公司 紧凑式x射线分析系统

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