CN108449978A - 异物检查装置 - Google Patents
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Abstract
一种异物检查装置,具备:输送部、X射线检查部、金属检测部、具有输入口和输出口的箱体、设置于输入口的第一X射线遮蔽帘以及设置于输出口的第二X射线遮蔽帘。壳体具有:主体部,在内部配置有探测线圈;第一罩部,相对于主体部设置在输入口侧;以及第二罩部,相对于主体部设置在输出口侧。第一X射线遮蔽帘的长度比从其上端经由第一罩部到主体部的距离小。第二X射线遮蔽帘的长度比从其上端经由第二罩部到主体部的距离小。
Description
技术领域
本公开涉及异物检查装置。
背景技术
在专利文献1中记载了能够进行X射线检查和金属检测的异物检查装置,X射线检查利用X射线的透过性检测被检查物中所包含的异物,金属检测利用磁场和金属的相互作用检测被检查物中所包含的异物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2015-28465号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
在上述那样的异物检查装置中,谋求装置尺寸的小型化。但是,例如若为了抑制由X射线检查部产生的X射线向外部泄漏而设置的X射线遮蔽帘不小心接近金属检测部,则当X射线遮蔽帘摇动时,有可能对金属检测部的检查精度产生不良影响。
在此,本公开的目的在于提供能够实现装置尺寸的小型化和检查精度的提高的异物检查装置。
用于解决技术问题的手段
本公开的一方式的异物检查装置具备:输送部,输送被检查物;X射线检查部,利用X射线的透过性,检测由输送部输送的被检查物中所包含的异物;金属检测部,利用磁场和金属的相互作用,检测由输送部输送的被检查物中所包含的异物;箱体,在内部收容输送部的至少一部分、X射线检查部以及金属检测部,箱体具有供输送部输入被检查物的输入口以及供输送部输出被检查物的输出口;第一X射线遮蔽帘,设置于输入口,第一X射线遮蔽帘的上端是相对于箱体的固定端,并且第一X射线遮蔽帘的下端是自由端;以及第二X射线遮蔽帘,设置于输出口,第二X射线遮蔽帘的上端是相对于箱体的固定端,并且第二X射线遮蔽帘的下端是自由端,金属检测部中供输送部通过的壳体具有:主体部,在内部配置有探测线圈;第一罩部,相对于主体部设置在输入口侧;以及第二罩部,相对于主体部设置在输出口侧,第一X射线遮蔽帘的长度比从第一X射线遮蔽帘的上端经由第一罩部到主体部的距离小,第二X射线遮蔽帘的长度比从第二X射线遮蔽帘的上端经由第二罩部到主体部的距离小。
在该异物检查装置中,即便各X射线遮蔽帘因与由输送部输送的被检查物接触等而摇动,可防止各X射线遮蔽帘与金属检测部的壳体的主体部接触。因此,即便采用各X射线遮蔽帘靠近金属检测部的布局,能够抑制各X射线遮蔽帘的摇动对金属检测部的磁场造成的影响。因此,根据该异物检查装置,能够实现装置尺寸的小型化以及检查精度的提高。
在本公开的一方式的异物检查装置中,可以是,第一X射线遮蔽帘的长度比从第一X射线遮蔽帘的上端到第一罩部的距离大,第二X射线遮蔽帘的长度比从第二X射线遮蔽帘的上端到第二罩部的距离大。由此,能够更可靠地抑制各X射线遮蔽帘从金属检测部离开而使装置尺寸大型化。
在本公开的一方式的异物检查装置中,可以是,在第一罩部上设置有供X射线检查部的X射线通过的第一开口。由此,先行开始比金属检测部的检查需要更长的处理时间的X射线检查部的检查,能够缩短装置整体的处理时间。
在本公开的一方式的异物检查装置中,可以是,在第二罩部上以隔着主体部而与第一罩部呈对称形状的方式设置有第二开口。由此,防止因开口的影响而使金属检测部的磁场平衡变差,能够抑制金属检测部的检查精度的降低。
本公开的其他方式的异物检查装置具备:输送部,输送被检查物;X射线检查部,利用X射线的透过性,检测由输送部输送的被检查物中所包含的异物;金属检测部,利用磁场和金属的相互作用,检测由输送部输送的被检查物中所包含的异物;以及箱体,在内部收容输送部的至少一部分、X射线检查部以及金属检测部,箱体具有供输送部输入被检查物的输入口以及供输送部输出被检查物的输出口,金属检测部中供输送部通过的壳体具有:主体部,在内部配置有探测线圈;第一罩部,相对于主体部设置在输入口侧和输出口侧中的一侧;以及第二罩部,相对于主体部设置在输入口侧和输出口侧中的另一侧,在第一罩部上设置有供X射线检查部的X射线通过的第一开口,在第二罩部上以隔着主体部而与第一罩部呈对称形状的方式设置有第二开口。
在该异物检查装置中,相对于在内部配置有探测线圈的主体部分别在输入口侧和输出口侧设置有罩部(第一罩部、第二罩部)。由此,例如即便使箱体小型化,能够抑制外部扰乱对金属检测部的磁场产生影响。此外,在第一罩部上设置有供X射线检查部的X射线通过的第一开口,在第二罩部上以隔着主体部而与第一罩部呈对称形状的方式设置有第二开口。由此,防止因第一开口的影响而使金属检测部的磁场平衡变差,能够抑制金属检测部的检查精度的降低。因此,根据该异物检查装置,能够实现装置尺寸的小型化以及检查精度的提高。
在本公开的其他方式的异物检查装置中,可以是,第一罩部相对于主体部设置在输入口侧,第二罩部相对于主体部设置在输出口侧。通过将设置有供X射线检查部的X射线通过的第一开口的第一罩部相对于主体部配置在输入口侧,先行开始比金属检测部的检查需要更长的处理时间的X射线检查部的检查,能够缩短装置整体的处理时间。
在本公开的其他方式的异物检查装置中,可以是,在第一罩部上以在从由输送部输送被检查物的输送方向观察时呈左右对称的方式设置有供光发射接收传感器的光通过的一对第三开口,在第二罩部上以隔着主体部而与第一罩部呈对称形状的方式设置有一对第四开口。由此,防止因第三开口的影响而使金属检测部的磁场平衡变差,能够抑制金属检测部的检查精度的降低。
发明效果
根据本公开,能够提供能够实现装置尺寸的小型化和检查精度的提高的异物检查装置。
附图说明
图1是示出实施方式的异物检查装置的主视图。
图2是说明图1所示的异物检查装置的内部结构以及控制系统的概念图。
图3是图2的X射线检查部及金属检测部的主要结构的说明图。
图4是图2的X射线检查部及金属检测部的主要结构的立体图。
图5是图2的X射线检查部、金属检测部以及X射线遮蔽帘的主要结构的主视图。
图6是沿着图5的VI-VI线的剖视图。
图7是沿着图5的VII-VII线的剖视图。
具体实施方式
下面,参照附图,对本公开的实施方式进行说明。需要说明的是,在以下说明中,对相同或相当的要素标注相同的附图标记,并省略重复的说明。
图1是示出实施方式的异物检查装置1的主视图。图1所示的异物检查装置1是检测被检查物中所包含的异物的装置。被检查物例如是食品。异物检查装置1在其内部输送被检查物并进行X射线检查以及金属检测,检查被检查物中是否含有异物。
X射线检查是利用X射线的透过性检测被检查物中所包含的异物的方法,通过X射线检查部2(参照图2)来实现。在X射线检查中,能够检测出具有与被检查物不同的X射线透过性的异物。另一方面,金属检测是利用磁场和金属的相互作用来检测被检查物中所包含的异物的方法,通过金属检测部3(参照图2)来实现。在金属检测中能够检测金属异物。在后面说明X射线检查部2及金属检测部3的详细。
异物检查装置1具有在其内部划分空间的箱体4。箱体4在内部收容X射线检查部2及金属检测部3。箱体4遮蔽由X射线检查部2产生的X射线,抑制X射线的外部泄漏。箱体4例如由不锈钢等形成。
在本实施方式中,箱体4呈箱状。在箱体4的右侧面形成有连通于箱体4的内部的开口部4a。同样地,在箱体4的左侧面形成有连通于箱体4的内部的开口部4b。在本实施方式中,被检查物从开口部4a被输入箱体4的内部而进行检查,并从开口部4b被向箱体4的外部输出。也就是说,开口部4a为被检查物的输入口,开口部4b为被检查物的输出口。
在箱体4的前表面设置有开关箱体4的上部门40及下部门41。上部门40和下部门41例如是铰页门结构。通过开闭上部门40或下部门41,后述的X射线检查部2以及金属检测部3的至少一部分露出至外部。上部门40和下部门41例如由不锈钢等形成。
在上部门40的前表面设置有显示器5以及操作开关6。显示器5是兼具显示功能和输入功能的显示装置,例如是触摸面板。显示器5显示X射线检查及金属检测的结果等,并且显示进行与金属检测及X射线检查相关的各种参数的设定的操作画面。操作开关6是X射线检查部2及金属检测部3的电源开关。
箱体4由支承台7支承。在箱体4的上表面设置有通知部8和冷却器9。通知部8通知异物混入、设备的动作状态。通知部8具备与X射线检查部2对应的第一通知器81以及与金属检测部3对应的第二通知器82。冷却器9向箱体4的内部输送冷气,调整配置于箱体4的内部的设备的温度。
图2是说明图1所示的异物检查装置1的内部结构以及控制系统的概念图。如图2所示,箱体4的内部被划分成配置后述的X射线发生器的一部分、构成要素的控制基板等的基板室T1、以及输入被检查物S进行检查的检查室T2。基板室T1由上述的冷却器9进行温度调整。
在检查室T2中配置有输送被检查物S的输送机(输送部)10。在本实施方式中,输送机10是辊式的带式输送机,以一端部位于开口部4a且另一端部位于开口部4b的状态在箱体4的内部沿水平方向延伸。也就是说,箱体4将输送机10中的除一端部和另一端部之外的部分收容在内部。本实施方式的输送机10经由开口部4a将被检查物S输入箱体4的内部,并经由开口部4b将被检查物S输出至箱体4的外部。
在开口部4a配置有X射线遮蔽帘(第一X射线遮蔽帘)42。同样地,在开口部4b中配置有X射线遮蔽帘(第二X射线遮蔽帘)43。X射线遮蔽帘42、43的上端是相对于箱体4的固定端且下端是自由端。X射线遮蔽帘42、43遮蔽X射线检查部2产生的X射线,抑制X射线的外部泄漏。X射线遮蔽帘42、43例如由含有钨的金属材料的可挠性材料等形成。需要说明的是,为了使被检查物S的输入及输出自动化,可以在输送机10的右侧配置输入用输送机11,在输送机10的左侧配置输出用输送机12。另外,输出用输送机12可以具备被检查物S的分配功能。
在检查室T2中配置有环状体的壳体31,环状体的壳体31形成有用于使被检查物S通过的贯通孔31a。输送机10经由贯通孔31a贯通壳体31。被检查物S利用输送机10通过壳体31的贯通孔31a,在壳体31内被依次执行X射线检查以及金属检测。壳体31例如由不锈钢等形成。
首先,对进行X射线检查的X射线检查部2进行说明。X射线检查部2具备X射线检查控制部20、X射线发生器21以及X射线检测器22。X射线发生器21包括产生X射线的X射线源以及狭缝机构。X射线检测器22检测由X射线发生器21产生的X射线。X射线发生器21和X射线检测器22以从上下方向夹着输送机10和壳体31的方式对置配置。需要说明的是,X射线发生器21中的X射线源等配置于基板室T1,照射X射线的机构配置于检查室T2。作为X射线检测器22,例如使用沿着前后方向排列设置有多个X射线检测传感器的行式传感器。为了减少X射线泄漏,X射线检测器22被收容于基板壳体23。为了使X射线到达X射线检测器22,在基板壳体23上设置有狭缝23a(参考图4)。
X射线检查控制部20具有与外部进行信号的输入输出等的输入输出接口I/O、存储有用于进行处理的程序及信息等的ROM(Read Only Memory:只读存储器)、临时存储数据的RAM(Random Access Memory:临时存取存储器)、HDD(Dard Disk Drive:硬盘存储器)等的存储介质、CPU(Central Processing Unit:中央处理器)以及通信电路等。X射线检查控制部20基于CPU输出的信号,将输入数据存储于RAM,将存储于ROM的程序加载到RAM,通过执行加载于RAM的程序,实现后述的功能。
X射线检查控制部20配置于基板室T1,并与X射线发生器21及X射线检测器22连接。X射线检查控制部20连接于显示器5,经由操作画面从操作人员接收操作信息。X射线检查控制部20基于操作信息设定X射线发生器21和X射线检测器22的动作文件,并且控制X射线发生器21和X射线检测器22的动作。在使用比X射线发生器21和X射线检测器22更靠上游侧配置的激光传感器24检测到被检查物S的情况下,X射线检查控制部20开始该被检查物S的检查。X射线检查控制部20控制X射线发生器21,向由输送机10输送的被检查物S照射X射线。X射线检测器22测量透过被检查物S的X射线的X射线透过量,将所测量的X射线透过量输出到X射线检查控制部20。
X射线检查控制部20生成X射线透过图像,该X射线透过图像在像素上反映以时序列获得的X射线透过量。而且,X射线检查控制部20通过图像处理技术分析X射线透过图像,检测异物。例如,X射线检查控制部20基于X射线透过图像的像素值,判断是否存在与被检查物S的基准透过率的差在预定值以上的图像区域。而且,在存在与被检查物S的基准透过率的差在预定值以上的图像区域的情况下,X射线检查控制部20判断为检测到异物。
X射线检查控制部20根据来自操作人员的要求,在显示器5上显示X射线检查的结果数据、在存储部存储结果数据。另外,在X射线发生器21及X射线检测器22正常动作的情况下,X射线检查控制部20使用第一通知器81向操作人员通知X射线检查相关的设备正在工作中。此外,在判断为检测到异物的情况下,X射线检查控制部20使用第一通知器81向操作人员通知检测到异物。
图3是图2的X射线检查部2及金属检测部3的主要结构的说明图。图4是图2的X射线检查部2及金属检测部3的主要结构的立体图。如图3及图4所示,壳体31具有主体部32、第一罩部33以及第二罩部34。第一罩部33相对于主体部32设置于开口部4a侧(输入口侧)。第二罩部34相对于主体部32设置于开口部4b侧(输出口侧)。上述壳体31的贯通孔31a由主体部32、第一罩部33以及第二罩部34各自的内壁划分。
使X射线通过的X射线通过狭缝(第一开口)33a以位于X射线发生器21的下方的方式形成于第一罩部33的上表面。使X射线通过的X射线通过狭缝(第一开口)33b以与X射线通过狭缝33a对置的方式形成于第一罩部33的下表面。在X射线通过狭缝33b的下方配置有X射线检测器22。通过这种结构,X射线发生器21产生的X射线21a通过X射线通过狭缝33a、33b,照射到在壳体31的内部被输送的被检查物S上。需要说明的是,在第一罩部33的侧面,在比X射线通过狭缝33a、33b更靠下游侧(主体部32侧)处设置有狭缝33c。在狭缝33c配置激光传感器38。激光传感器38经由狭缝33c向输送机10上的被检查物S照射激光。
接着,对进行金属检测的金属检测部3进行说明。金属检测部3具备金属检测控制部30、作为探测线圈的环状的发送线圈35以及作为探测线圈的环状的接收线圈36、37。发送线圈35以及接收线圈36、37由金属等的导电性材料形成,配置在壳体31的主体部32的内部。发送线圈35以及接收线圈36、37与贯通孔31a的延伸方向同轴地配置。也就是说,发送线圈35以及接收线圈36、37配置成包围贯通孔31a。由此,被检查物S借助于输送机10而通过发送线圈35和接收线圈36、37。
发送线圈35配置在接收线圈36、37之间。接收线圈36、37彼此差分连接并且相对于发送线圈35对称地配置。两个接收线圈36、37具有相同的交链磁通。发送线圈35构成为能够通电,产生磁通。在各个接收线圈36、37中通过发送线圈35产生的磁场的电磁感应而激发电压。需要说明的是,第一罩部33和第二罩部34遮蔽发送线圈35产生的磁场的外部泄漏和外来磁场的进入。
金属检测控制部30具有与外部进行信号的输入输出等的输入输出接口I/O、存储用于进行处理的程序以及信息等的ROM、临时存储数据的RAM、HDD等的存储介质、CPU以及通信电路等。金属检测控制部30基于CPU输出的信号,将输入数据存储于RAM,将ROM中所存储的程序加载至RAM,通过执行RAM中所加载的程序,实现后述的功能。
金属检测控制部30配置于基板室T1并与X射线检查控制部20连接,经由X射线检查控制部20接收被输入到显示器5的操作画面的来自操作人员的操作信息。金属检测控制部30基于操作信息,设定发送线圈35以及接收线圈36、37的动作文件。在使用比发送线圈35和接收线圈36、37更靠上游侧配置的激光传感器38检测到被检查物S的情况下,金属检测控制部30开始该被检查物S的金属检测。
金属检测控制部30向发送线圈35供给交变励磁电流,产生磁通。由发送线圈35产生的磁通贯穿两个接收线圈36、37,因电磁感而在接收线圈36、37各自中激发电压。金属检测控制部30取得接收线圈36、37的差分连接的输出电压,进行金属检测的判断。当差分连接的输出电压为0时,金属检测控制部30判断没有检测出金属异物。另一方面,当差分连接的输出电压不为0时,金属检测控制部30判断检测到金属异物。
金属检测控制部30根据来自操作人员的要求,在显示器5上显示金属检测的结果数据、在存储部存储结果数据。另外,在发送线圈35以及接收线圈36、37正常动作的情况下,金属检测控制部30使用第二通知器82向操作人员通知金属检测相关的设备正在工作中。此外,在判断为检测到异物的情况下,金属检测控制部30使用第二通知器82向操作人员通知检测到异物。需要说明的是,出于提高耐振特性的目的,壳体31可以被防振台39(防振台39a、39b)保持。
上述的X射线检查部2以及金属检测部3分别构成为能够独立动作。也就是说,异物检查装置1不仅进行X射线检查和金属检测双方,还能够执行X射线检查和金属检测中的任一方。如上所述,在本实施方式中,由于X射线检查部2进行显示器5的显示控制,因此在X射线检查部2停止的情况下,在显示器5上不显示金属检测部3的操作画面。因此,在箱体4的内部配置有连接于金属检测部3的副显示器(未图示)。在X射线检查部2停止的情况下,金属检测部3经由副显示器接收操作信息,在副显示器上显示结果数据等。
接着,对金属检测部3的壳体31和X射线遮蔽帘42、43的位置关系进行说明。如图5所示,当着眼于最靠近壳体31的X射线遮蔽帘42时,X射线遮蔽帘42的上端42a和第一罩部33的最短的距离d1加上第一罩部33的沿着输送机10输送被检查物S的输送方向的长度d2的值是从X射线遮蔽帘42的上端42a经由第一罩部33到主体部32的距离。在此,X射线遮蔽帘42的长度(即,从上端42a到下端42b的距离)L1比从X射线遮蔽帘42的上端42a经由第一罩部33到主体部32的距离即d1+d2小。这表示即便X射线遮蔽帘42摇动,X射线遮蔽帘42也不会接触主体部32。另一方面,X射线遮蔽帘42的长度L1比从X射线遮蔽帘42的上端42a到第一罩部33的距离d1大。这表示X射线遮蔽帘42摇动时,X射线遮蔽帘42接触第一罩部33。需要说明的是,在图5中,省略了激光传感器24的图示。
同样地,当着眼于最接近壳体31的X射线遮蔽帘43时,X射线遮蔽帘43的上端43a和第二罩部34的最短距离d3加上第二罩部34的沿着输送机10输送被检查物S的输送方向的长度d4的值是从X射线遮蔽帘43的上端43a经由第二罩部34到主体部32的距离。在此,X射线遮蔽帘43的长度(即,从上端43a到下端43b的距离)L2比从X射线遮蔽帘43的上端43a经由第二罩部34到主体部32的距离即d3+d4小。这表示即便X射线遮蔽帘43摇动,X射线遮蔽帘43也不会接触主体部32。另一方面,X射线遮蔽帘43的长度L2比从X射线遮蔽帘43的上端43a到第二罩部34的距离d3大。这表示X射线遮蔽帘43摇动时,X射线遮蔽帘43接触第二罩部34。
接着,对壳体31的形状进行说明。如图6所示,在相对于主体部32设置于开口部4a侧(输入口侧)的第一罩部33上,设置有X射线检查部2的X射线通过的一对X射线通过狭缝(第一开口)33a、33b。一对X射线通过狭缝33a、33b在垂直方向上彼此相对。另外,在第一罩部33上设置有一对狭缝(第三开口)33c、33d,该一对狭缝(第三开口)33c、33d供包含激光传感器38在内的光发射接收传感器的光(激光)通过。一对狭缝33c、33d在与输送机10输送被检查物S的输送方向垂直的水平方向上彼此相对。在从输送机10输送被检查物S的输送方向观察的情况下,第一罩部33呈左右对称(以沿着垂直方向通过第一罩部33的中心的线为基准而左右对称)的形状。即,一对X射线通过狭缝33a、33b以及一对狭缝33c、33d以从输送机10输送被检查物S的输送方向观察的情况下呈左右对称的方式设置于第一罩部33。
如图7所示,相对于主体部32设置于开口部4b侧(输出口侧)的第二罩部34隔着主体部32而与第一罩部33呈对称形状。也就是说,在第二罩部34中以隔着主体部32而与第一罩部33呈对称形状的方式设置有与X射线通过狭缝33a对应的狭缝(第二开口)34a、与X射线通过狭缝33b对应的狭缝(第二开口)34b、与狭缝33c对应的狭缝(第四开口)34c以及与狭缝33d对应的狭缝(第四开口)34d。在从输送机10输送被检查物S的输送方向观察的情况下,第二罩部34呈左右对称(以沿着垂直方向通过第二罩部34的中心的线为基准而左右对称)的形状。即,在第二罩部34上以从输送机10输送被检查物S的输送方向观察的情况下呈左右对称的方式、且以隔着主体部32而与第一罩部33呈对称形状的方式设置有一对狭缝34a、34b以及一对狭缝34c、34d。
如以上所说明那样,在异物检查装置1中,X射线遮蔽帘42的长度L1比从X射线遮蔽帘42的上端42a经由第一罩部33到主体部32的距离d1+d2小,X射线遮蔽帘43的长度L2比从X射线遮蔽帘43的上端43a经由第二罩部34到主体部32的距离d3+d4小。因此,即便各X射线遮蔽帘42、43因与输送机10输送的被检查物S接触等而摇动,也可防止各X射线遮蔽帘42、43与金属检测部3的壳体31的主体部32接触。因此,即便采用各X射线遮蔽帘42、43靠近金属检测部3的布局,也能够抑制各X射线遮蔽帘42、43的摇动对金属检测部3的磁场造成的影响。因此,根据异物检查装置1,能够实现装置尺寸的小型化以及检查精度的提高。
另外,在异物检查装置1中,X射线遮蔽帘42的长度L1比从X射线遮蔽帘42的上端42a到第一罩部33的距离d1大,X射线遮蔽帘43的长度L2比从X射线遮蔽帘43的上端43a到第二罩部34的距离d3大。由此,能够更可靠地抑制各X射线遮蔽帘42、43从金属检测部3离开而使装置尺寸大型化。
另外,在异物检查装置1中,在第一罩部33上设置有供X射线检查部2的X射线通过的X射线通过狭缝33a、33b。由此,先行开始比金属检测部3的检查需要更长的处理时间的X射线检查部2的检查,能够缩短装置整体的处理时间。
另外,在异物检查装置1中,在第二罩部34上以隔着主体部32而与第一罩部33呈对称形状的方式设置有狭缝34a、34b、34c。由此,防止因狭缝的影响而使金属检测部3的磁场平衡变差,能够抑制金属检测部3的检查精度的降低。另外,由于第一罩部33和第二罩部34隔着主体部32而呈对称形状,因此能够实现作为部件的共用化。
以上,说明了本公开的一实施方式,但本公开的一方式以及其他方式并不限定于上述实施方式。
例如,X射线遮蔽帘42可以不满足“X射线遮蔽帘42的长度比从X射线遮蔽帘42的上端42a到第一罩部33的距离大”的条件。特别地,在输送机10输送被检查物S的输送方向上,配置在上游侧的X射线遮蔽帘42有时不满足该条件。同样地,X射线遮蔽帘43可以不满足“X射线遮蔽帘43的长度比从X射线遮蔽帘43的上端43a到第二罩部34的距离大”的条件。特别地,在输送机10输送被检查物S的输送方向上,配置在下游侧的X射线遮蔽帘43有时不满足该条件。
另外,在本实施方式中,说明了在箱体4的内部配置输送机10的一部分的例子,但输送机10其整体可以收容在箱体4的内部。
另外,异物检查装置1可以如下那样地构成。即,异物检查装置1具备输送机10、X射线检查部2、金属检测部3以及具有开口部4a、4b的箱体4,壳体31具有主体部32、第一罩部33和第二罩部34,在第一罩部33上设置有供X射线检查部2的X射线通过的X射线通过狭缝33a、33b,在第二罩部34上可以以隔着主体部32而与第一罩部33呈对称形状的方式设置有狭缝34a、34b。在该异物检查装置1(以下称为“变形例的异物检查装置1”)中,相对于在内部配置有发送线圈35以及接收线圈36、37的主体部32,在开口部4a侧以及在开口部4b侧分别设置第一罩部33以及第二罩部34。由此,例如即便使箱体4小型化,也能够抑制外部扰动对金属检测部3的磁场产生影响。此外,在第一罩部33上设置有供X射线检查部2的X射线通过的X射线通过狭缝33a、33b,在第二罩部34上以隔着主体部32而与第一罩部33呈对称形状的方式设置有狭缝34a、34b。由此,防止因X射线通过狭缝33a、33b的影响而使金属检测部3的磁场平衡变差,能够抑制金属检测部3的检查精度的降低。因此,根据变形例的异物检查装置1,能够实现装置尺寸的小型化以及检查精度的提高。需要说明的是,在这种情况下,被检查物S可以被从开口部4b输入箱体4的内部,在箱体4的内部进行检查,从开口部4a被输出至箱体4的外部。也就是说,开口部4b可以是被检查物S的输入口,开口部4a可以是被检查物S的输出口。
另外,在变形例的异物检查装置1中,可以是,第一罩部33相对于主体部32设置在开口部(输入口)4a侧,第二罩部34相对于主体部32设置在开口部(输出口)4b侧。通过将设置有供X射线检查部2的X射线通过的X射线通过狭缝33a、33b的第一罩部33相对于主体部32配置在输入口侧,先行开始比金属检测部3的检查需要更长的处理时间的X射线检查部2的检查,能够缩短装置整体的处理时间。
另外,在变形例的异物检查装置1中,可以是,供光发射接收传感器的光通过的一对狭缝33c、33d以从输送机10输送被检查物S的输送方向观察的情况下呈左右对称的方式设置于第一罩部33,一对狭缝34c、34d以隔着主体部32而与第一罩部33呈对称形状的方式设置于第二罩部34。由此,防止因一对狭缝33c、33d的影响而使金属检测部3的磁场平衡变差,能够抑制金属检测部3的检查精度的降低。
附图标记说明:
1···异物检查装置;2···X射线检查部;3···金属检测部;4···箱体;4a···开口部(输入口);4b···开口部(输出口);10···输送机(输送部);31···壳体;32···主体部;33···第一罩部;33a、33b···X射线通过狭缝(第一开口);33c、33d···狭缝(第三开口);34···第二罩部;34a、34b···狭缝(第二开口);34c、34d···狭缝(第四开口);35···发送线圈(探测线圈);36、37···接收线圈(探测线圈);42···X射线遮蔽帘(第一X射线遮蔽帘);42a···上端;42b···下端;43···X射线遮蔽帘(第二X射线遮蔽帘);43a···上端;43b···下端;S···被检查物。
Claims (7)
1.一种异物检查装置,其特征在于,具备:
输送部,输送被检查物;
X射线检查部,利用X射线的透过性,检测由所述输送部输送的所述被检查物中所包含的异物;
金属检测部,利用磁场和金属的相互作用,检测由所述输送部输送的所述被检查物中所包含的异物;
箱体,在内部收容所述输送部的至少一部分、所述X射线检查部以及所述金属检测部,所述箱体具有供所述输送部输入所述被检查物的输入口以及供所述输送部输出所述被检查物的输出口;
第一X射线遮蔽帘,设置于所述输入口,所述第一X射线遮蔽帘的上端是相对于所述箱体的固定端,并且所述第一X射线遮蔽帘的下端是自由端;以及
第二X射线遮蔽帘,设置于所述输出口,所述第二X射线遮蔽帘的上端是相对于所述箱体的固定端,并且所述第二X射线遮蔽帘的下端是自由端,
所述金属检测部中供所述输送部通过的壳体具有:
主体部,在内部配置有探测线圈;
第一罩部,相对于所述主体部设置在所述输入口侧;以及
第二罩部,相对于所述主体部设置在所述输出口侧,
所述第一X射线遮蔽帘的长度比从所述第一X射线遮蔽帘的所述上端经由所述第一罩部到所述主体部的距离小,
所述第二X射线遮蔽帘的长度比从所述第二X射线遮蔽帘的所述上端经由所述第二罩部到所述主体部的距离小。
2.根据权利要求1所述的异物检查装置,其特征在于,
所述第一X射线遮蔽帘的所述长度比从所述第一X射线遮蔽帘的所述上端到所述第一罩部的距离大,
所述第二X射线遮蔽帘的所述长度比从所述第二X射线遮蔽帘的所述上端到所述第二罩部的距离大。
3.根据权利要求1或2所述的异物检查装置,其特征在于,
在所述第一罩部上设置有供所述X射线检查部的X射线通过的第一开口。
4.根据权利要求3所述的异物检查装置,其特征在于,
在所述第二罩部上以隔着所述主体部而与所述第一罩部呈对称形状的方式设置有第二开口。
5.一种异物检查装置,其特征在于,具备:
输送部,输送被检查物;
X射线检查部,利用X射线的透过性,检测由所述输送部输送的所述被检查物中所包含的异物;
金属检测部,利用磁场和金属的相互作用,检测由所述输送部输送的所述被检查物中所包含的异物;以及
箱体,在内部收容所述输送部的至少一部分、所述X射线检查部以及所述金属检测部,所述箱体具有供所述输送部输入所述被检查物的输入口以及供所述输送部输出所述被检查物的输出口,
所述金属检测部中供所述输送部通过的壳体具有:
主体部,在内部配置有探测线圈;
第一罩部,相对于所述主体部设置在所述输入口侧和所述输出口侧中的一侧;以及
第二罩部,相对于所述主体部设置在所述输入口侧和所述输出口侧中的另一侧,
在所述第一罩部上设置有供所述X射线检查部的X射线通过的第一开口,
在所述第二罩部上以隔着所述主体部而与所述第一罩部呈对称形状的方式设置有第二开口。
6.根据权利要求5所述的异物检查装置,其特征在于,
所述第一罩部相对于所述主体部设置在所述输入口侧,
所述第二罩部相对于所述主体部设置在所述输出口侧。
7.根据权利要求5或6所述的异物检查装置,其特征在于,
在所述第一罩部上以在从由所述输送部输送所述被检查物的输送方向观察时呈左右对称的方式设置有供光发射接收传感器的光通过的一对第三开口,
在所述第二罩部上以隔着所述主体部而与所述第一罩部呈对称形状的方式设置有一对第四开口。
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