CN108411306B - 一种金属铜表面化学抛光处理系统 - Google Patents
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Abstract
本发明属于金属铜表面清理设备技术领域，具体的说是一种金属铜表面化学抛光处理系统，包括抛光模块、物料框、摊铺模块和烘干模块；烘干模块包括第二支架、烘干输送带、托盘、横板和烘干室；抛光模块包括箱体、超声波发生器和封闭板组件；封闭板组件包括第一封闭板、第二封闭板和第三封闭板；摊铺模块包括第一支架、摊铺输送带、横梁、均料单元和振动单元振动；单元包括振动电机、导向板、连杆和旋转轮。本发明通过将清洗液分层隔离，并清除沉淀脏物，提高清洗液利用率，提高生产效率；特别适用于批量铜及铜合金零件的氧化皮清理工作，能够有效避免由于零件相互堆积而造成的清洗不充分、烘干不充分的问题。
Description
技术领域
本发明属于金属铜表面清理设备技术领域，具体的说是一种金属铜表面化学抛光处理系统。
背景技术
铜及铜合金产品及零件，在常温下其表面能与空气中的氧生成氧化物，经过加工(退火、高温弯制、焊接等)热处理高温下更容易氧化，会生成一层较厚而致密的氧化皮，给后续工序加工、使用带来很大困难。
传统的方式是对铜及铜合金进行酸洗，达到除去氧化层的目的。利用化学处理试剂，对于高温氧化皮、铜锈具有渗透、松散、软化、清洗作用。铜化学抛光是在铜及其合金表面进行的一种环保型抛光工艺，经过化学抛光后铜表面非常光滑光亮，尽显铜本色，甚至可以使铜表面产生镜面反射。铜化学抛光液维护方便、操作安全、无有害气体逸出,是一种理想的铜及其合金表面化学抛光工艺。
在对铜及铜合金零件进行化学抛光时，针对一些批量化零部件生产企业，其铜及铜合金零件数量较多，零件之间相互堆积、挤压，容易造成局部接触面清洗不干净；这就需要进行翻动，采用人工翻动，翻动效率较低，并且由于抛光液存在一定的腐蚀性，影响操作人员的身体健康。
抛光液使用多次后，变脏并产生沉淀；通常是舀出上层清澈的清洗液，除去下层的脏物，并重新添加化学试剂后，方可继续使用；往往抽取上层清洗液量较多，效率较低；并且需要额外容器暂存清洗液，占用工作空间，不利于场地的利用。
批量的零件清洗过后，需要对这些零件进行烘干；为了提高烘干效率，这就需要将堆积的零件进行摊铺，避免堆积过厚而烘不干；采用人工摊铺，费时费力，并且摊铺不均匀；同时在烘干过程中，由于零件相互堆积，这就造成零件与零件之间、零件和托盘之间的接触面不易烘干，造成局部未烘干，产生质量事故。
发明内容
为了弥补现有技术的不足，本发明提出的一种金属铜表面化学抛光处理系统，特别适用于批量铜及铜合金零件的氧化皮清理工作，能够有效避免由于零件相互堆积而造成的清洗不充分、烘干不充分的问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明所述的一种金属铜表面化学抛光处理系统，包括抛光模块、物料框、摊铺模块和烘干模块；所述抛光模块上端设有气管，所述气管用于配合连接物料框；所述摊铺模块设在抛光模块一侧，并配合连接着烘干模块；所述抛光模块和摊铺模块之间设有悬臂吊；所述悬臂吊用于将抛光模块内清洗完成的物料框移至摊铺模块；物料框内放入批量零件，将物料框放置在抛光模块内部，利用超声波进行清洗，物料框酸洗并水洗后，通过悬臂吊将物料框移至摊铺模块上方，将物料框内的零件放置在摊铺模块上，利用摊铺模块将批量的零件摊铺均匀，以便于提高干燥效率；零件通过摊铺后即进入烘干模块进行烘干。
所述烘干模块包括第二支架、烘干输送带、托盘、横板和烘干室；所述第二支架固定安装地面上；所述烘干输送带安装在第二支架上端；所述托盘通过一组弹簧固定安装在烘干输送带表面；所述托盘由一组能够相互转动的横板组成，所述横板布满网孔；所述烘干室固定安装在烘干输送带中部，零件从摊铺模块落入托盘上，随着烘干输送带移动，托盘内均匀落入批量零件，并随着烘干输送带移入烘干室进行烘干作业；所述第二支架中部固定安装着磁铁，所述磁铁位于烘干室下方；所述磁铁用于吸引横板，托盘移入烘干室并通过磁铁上方时，磁铁吸引单个横板靠近，使得托盘的横板呈现波浪形晃动，使得托盘内承载的零件能够产生移动，避免零件相互接触面干燥不充分的弊病。
优选的，所述横板底部固定安装着套筒，所述套筒设有连通托盘网孔的通孔；所述套筒内部滑动连接着推杆；所述推杆一端设置成圆弧形，并接触连接着烘干输送带；横板被磁铁吸引，使得推杆和套筒产生相对滑动并产生气流，使得托盘内的零件产生移动；同时产生空气对流，使得零件干燥的效率提高，节省干燥时间。
优选的，所述抛光模块包括箱体、超声波发生器和封闭板组件；所述箱体底部设有超声波发生器；所述箱体设置为方箱；所述箱体两侧设有封闭板组件，并在另外两侧设有配合封闭板组件滑动的滑槽；所述封闭板组件一端固定安装永磁块；所述箱体外侧对应滑槽设有导轨；所述导轨上滑动连接牵引磁铁；所述牵引磁铁滑动用于开启或闭合箱体底部，多次使用后的清洗液产生较多杂质，经过沉淀后，通过封闭板组件将箱体底部分隔后，排出底部沉淀脏物，提高清洗液利用效率。
优选的，所述封闭板组件包括第一封闭板、第二封闭板和第三封闭板；所述第一封闭板固定安装在箱体两侧；所述第一封闭板内部设有配合连接第二封闭板的滑槽；所述第二封闭板内部设有配合连接第三封闭板的滑槽，通过设置封闭板组件，减少设备占用场地。
优选的，所述摊铺模块包括第一支架、摊铺输送带、横梁、均料单元和振动单元；所述第一支架固定安装在地面上；所述第一支架上端配合连接着一条摊铺输送带；所述摊铺输送带两侧设有固定连接在第一支架上的横梁；所述横梁中部固定安装着均料单元；所述均料单元用于将摊铺输送带堆积的零件均匀摊铺；所述振动单元配合安装在摊铺输送带一端，批量零件堆积在摊铺输送带一端，摊铺输送带将零件输送至烘干模块进行烘干，零件经由一组均料辊进行初步摊铺，减少工人劳动量；所述均料单元包括均料电机、安装座和均料辊；所述安装座固定安装在横梁上；两个安装座之间转动连接着一组均料辊；所述均料辊通过均料电机驱动旋转，多个均料辊呈阶梯式转动安装在安装座，用于将堆积的零件摊铺成设定高度，便于后续烘干作业。
优选的，所述均料辊表面设有对称设置的螺旋刷毛，随着均料辊旋转，正反螺旋刷毛将零件均匀摊铺，均匀布置在摊铺输送带上。
优选的，所述振动单元包括振动电机、导向板、连杆和旋转轮；所述导向板一端转动安装在第一支架上，所述导向板另一端铰接着连杆；所述连杆转动连接在旋转轮一侧；所述旋转轮通过振动电机驱动；所述导向板表面设置一组垂直于导向板的挡条，利用导向板抖动，使得零件进更加均匀，便于后续烘干作业；所述导向板底部固定连接着折叠风箱；所述导向板表面设有气孔，导向板抖动的同时，通过折叠风箱产生气流，对零件进行进一步吹气干燥，提高烘干效率。
本发明的有益效果如下：
1.本发明通过设置封闭板组件，将清洗液分层隔离，单独清除沉淀脏物，效率较高；通过将托盘设置成一组相互转动的横板，利用磁铁使得托盘的横板呈现波浪形晃动，使得托盘内承载的零件能够产生移动，避免零件相互接触面干燥不充分的弊病；通过设置摊铺模块，利用均料辊配合振动单元，使得零件摊铺均匀，提高烘干效率。
2.本发明通过设置封闭板组件，将清洗液分层隔离，单独清除沉淀脏物，效率较高。
3.本发明通过将托盘设置成一组相互转动的横板，利用磁铁使得托盘的横板呈现波浪形晃动，使得托盘内承载的零件能够产生移动，避免零件相互接触面干燥不充分的弊病。
4.本发明通过推杆和横板底部设置的套筒产生相对滑动并产生气流，使得托盘内的零件产生移动；同时产生空气对流，使得零件干燥的效率提高，节省干燥时间。
5.本发明通过在导向板底部设置折叠风箱，利用折叠风箱产生气流，对零件进行进一步吹气干燥，提高烘干效率。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明。
图1是本发明的主视图；
图2是本发明的抛光模块俯视图；
图3是图2中A-A剖视图；
图4是本发明的摊铺模块结构图；
图5是本发明的均料辊结构图；
图6是本发明的烘干模块结构图；
图中：抛光模块1、箱体11、封闭板组件12、永磁块13、第一封闭板14、第二封闭板15、第三封闭板16、物料框2、摊铺模块3、第一支架31、摊铺输送带32、横梁33、均料单元34、均料辊341、螺旋刷毛342、安装座343、振动单元35、导向板351、连杆352、旋转轮353、折叠风箱354、烘干模块4、第二支架41、磁铁411、烘干输送带42、托盘43、套筒431、推杆432、横板44、烘干室45。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
如图1至图6所示，本发明所述的一种金属铜表面化学抛光处理系统，包括抛光模块1、物料框2、摊铺模块3和烘干模块4；所述抛光模块1上端设有气管，所述气管用于配合连接物料框2；所述摊铺模块3设在抛光模块1一侧，并配合连接着烘干模块4；所述抛光模块1和摊铺模块3之间设有悬臂吊；所述悬臂吊用于将抛光模块1内清洗完成的物料框2移至摊铺模块3；物料框2内放入批量零件，将物料框2放置在抛光模块1内部，利用超声波进行清洗，物料框2酸洗并水洗后，通过悬臂吊将物料框2移至摊铺模块3上方，将物料框2内的零件放置在摊铺模块3上，利用摊铺模块3将批量的零件摊铺均匀，以便于提高干燥效率；零件通过摊铺后即进入烘干模块4进行烘干。
所述烘干模块4包括第二支架41、烘干输送带42、托盘43、横板44和烘干室45；所述第二支架41固定安装地面上；所述烘干输送带42安装在第二支架41上端；所述托盘43通过一组弹簧固定安装在烘干输送带42表面；所述托盘43由一组能够相互转动的横板44组成，所述横板44布满网孔；所述烘干室45固定安装在烘干输送带42中部，零件从摊铺模块3落入托盘43上，随着烘干输送带42移动，托盘43内均匀落入批量零件，并随着烘干输送带42移入烘干室45进行烘干作业；所述第二支架41中部固定安装着磁铁411，所述磁铁411位于烘干室45下方；所述磁铁411用于吸引横板44，托盘43移入烘干室45并通过磁铁411上方时，磁铁411吸引单个横板44靠近，使得托盘43的横板44呈现波浪形晃动，使得托盘43内承载的零件能够产生移动，避免零件相互接触面干燥不充分的弊病。
作为本发明的一种实施方式，所述横板44底部固定安装着套筒431，所述套筒431设有连通托盘43网孔的通孔；所述套筒431内部滑动连接着推杆432；所述推杆432一端设置成圆弧形，并接触连接着烘干输送带42；横板44被磁铁411吸引，使得推杆432和套筒431产生相对滑动并产生气流，使得托盘43内的零件产生移动；同时产生空气对流，使得零件干燥的效率提高，节省干燥时间。
作为本发明的一种实施方式，所述抛光模块1包括箱体11、超声波发生器和封闭板组件12；所述箱体11底部设有超声波发生器；所述箱体11设置为方箱；所述箱体11两侧设有封闭板组件12，并在另外两侧设有配合封闭板组件12滑动的滑槽；所述封闭板组件12一端固定安装永磁块13；所述箱体11外侧对应滑槽设有导轨；所述导轨上滑动连接牵引磁铁；所述牵引磁铁滑动用于开启或闭合箱体11底部，多次使用后的清洗液产生较多杂质，经过沉淀后，通过封闭板组件12将箱体11底部分隔后，排出底部沉淀脏物，提高清洗液利用效率。
作为本发明的一种实施方式，所述封闭板组件12包括第一封闭板14、第二封闭板15和第三封闭板16；所述第一封闭板14固定安装在箱体11两侧；所述第一封闭板14内部设有配合连接第二封闭板15的滑槽；所述第二封闭板15内部设有配合连接第三封闭板16的滑槽，通过设置封闭板组件12，减少设备占用场地。
作为本发明的一种实施方式，所述摊铺模块3包括第一支架31、摊铺输送带32、横梁33、均料单元34和振动单元35；所述第一支架31固定安装在地面上；所述第一支架31上端配合连接着一条摊铺输送带32；所述摊铺输送带32两侧设有固定连接在第一支架31上的横梁33；所述横梁33中部固定安装着均料单元34；所述均料单元34用于将摊铺输送带32堆积的零件均匀摊铺；所述振动单元35配合安装在摊铺输送带32一端，批量零件堆积在摊铺输送带32一端，摊铺输送带32将零件输送至烘干模块4进行烘干，零件经由一组均料辊341进行初步摊铺，减少工人劳动量；所述均料单元34包括均料电机、安装座343和均料辊341；所述安装座343固定安装在横梁33上；两个安装座343之间转动连接着一组均料辊341；所述均料辊341通过均料电机驱动旋转，多个均料辊341呈阶梯式转动安装在安装座343，用于将堆积的零件摊铺成设定高度，便于后续烘干作业。
作为本发明的一种实施方式，所述均料辊341表面设有对称设置的螺旋刷毛342，随着均料辊341旋转，正反螺旋刷毛342将零件均匀摊铺，均匀布置在摊铺输送带32上。
作为本发明的一种实施方式，所述振动单元35包括振动电机、导向板351、连杆352和旋转轮353；所述导向板351一端转动安装在第一支架31上，所述导向板351另一端铰接着连杆352；所述连杆352转动连接在旋转轮353一侧；所述旋转轮353通过振动电机驱动；所述导向板351表面设置一组垂直于导向板351的挡条，利用导向板351抖动，使得零件进更加均匀，便于后续烘干作业；所述导向板351底部固定连接着折叠风箱354；所述导向板351表面设有气孔，导向板351抖动的同时，通过折叠风箱354产生气流，对零件进行进一步吹气干燥，提高烘干效率。
工作时，对于产生氧化现象的铜类半成品零件，需要进行酸洗进行氧化皮的清除；操作者将批量的零件放入物料框2内，并通过悬臂吊将物料框2放入抛光模块1的箱体11内，并浸入清洗液内，利用超声波进行清洗作业，清洗的同时，将气管接入物料框2上端接口，在清洗过程中通过气流，使得零件产生翻动，有效解决零件接触面清洗不充分的问题；清洗完成后，物料框2提取的过程中，气流对物料框2内的零件进行吹气，将多余的清洗液吹除，减小清洗液的流失并提高水洗效率，节约用水；清洗后的零件堆积在摊铺输送带32一端，摊铺模块3将零件进行摊铺；并通过摊铺输送带32落入托盘43上，随着烘干输送带42移动，托盘43内均匀落入批量零件，并随着烘干输送带42移入烘干室45进行烘干作业。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (7)
1.一种金属铜表面化学抛光处理系统，其特征在于：包括抛光模块(1)、物料框(2)、摊铺模块(3)和烘干模块(4)；所述抛光模块(1)上端设有气管，所述气管用于配合连接物料框(2)；所述摊铺模块(3)设在抛光模块(1)一侧，并配合连接着烘干模块(4)；所述抛光模块(1)和摊铺模块(3)之间设有悬臂吊；所述悬臂吊用于将抛光模块(1)内清洗完成的物料框(2)移至摊铺模块(3)；其中，
所述烘干模块(4)包括第二支架(41)、烘干输送带(42)、托盘(43)、横板(44)和烘干室(45)；所述第二支架(41)固定安装地面上；所述烘干输送带(42)安装在第二支架(41)上端；所述托盘(43)通过一组弹簧固定安装在烘干输送带(42)表面；所述托盘(43)由一组能够相互转动的横板(44)组成，所述横板(44)布满网孔；所述烘干室(45)固定安装在烘干输送带(42)中部；所述第二支架(41)中部固定安装着磁铁(411)，所述磁铁(411)位于烘干室(45)下方；所述磁铁(411)用于吸引横板(44)。
2.根据权利要求1所述的一种金属铜表面化学抛光处理系统，其特征在于：所述横板(44)底部固定安装着套筒(431)，所述套筒(431)设有连通托盘(43)网孔的通孔；所述套筒(431)内部滑动连接着推杆(432)；所述推杆(432)一端设置成圆弧形，并接触连接着烘干输送带(42)。
3.根据权利要求1所述的一种金属铜表面化学抛光处理系统，其特征在于：所述抛光模块(1)包括箱体(11)、超声波发生器和封闭板组件(12)；所述箱体(11)底部设有超声波发生器；所述箱体(11)设置为方箱；所述箱体(11)两侧设有封闭板组件(12)，并在另外两侧设有配合封闭板组件(12)滑动的滑槽；所述封闭板组件(12)一端固定安装永磁块(13)；所述箱体(11)外侧对应滑槽设有导轨；所述导轨上滑动连接牵引磁铁；所述牵引磁铁滑动用于开启或闭合箱体(11)底部。
4.根据权利要求3所述的一种金属铜表面化学抛光处理系统，其特征在于：所述封闭板组件(12)包括第一封闭板(14)、第二封闭板(15)和第三封闭板(16)；所述第一封闭板(14)固定安装在箱体(11)两侧；所述第一封闭板(14)内部设有配合连接第二封闭板(15)的滑槽；所述第二封闭板(15)内部设有配合连接第三封闭板(16)的滑槽。
5.根据权利要求1所述的一种金属铜表面化学抛光处理系统，其特征在于：所述摊铺模块(3)包括第一支架(31)、摊铺输送带(32)、横梁(33)、均料单元(34)和振动单元(35)；所述第一支架(31)固定安装在地面上；所述第一支架(31)上端配合连接着一条摊铺输送带(32)；所述摊铺输送带(32)两侧设有固定连接在第一支架(31)上的横梁(33)；所述横梁(33)中部固定安装着均料单元(34)；所述均料单元(34)用于将摊铺输送带(32)堆积的零件均匀摊铺；所述振动单元(35)配合安装在摊铺输送带(32)一端；所述均料单元(34)包括均料电机、安装座(343)和均料辊(341)；所述安装座(343)固定安装在横梁(33)上；两个安装座(343)之间转动连接着一组均料辊(341)；所述均料辊(341)通过均料电机驱动旋转。
6.根据权利要求5所述的一种金属铜表面化学抛光处理系统，其特征在于：所述均料辊(341)表面设有对称设置的螺旋刷毛(342)。
7.根据权利要求5所述的一种金属铜表面化学抛光处理系统，其特征在于：所述振动单元(35)包括振动电机、导向板(351)、连杆(352)和旋转轮(353)；所述导向板(351)一端转动安装在第一支架(31)上，所述导向板(351)另一端铰接着连杆(352)；所述连杆(352)转动连接在旋转轮(353)一侧；所述旋转轮(353)通过振动电机驱动；所述导向板(351)表面设置一组垂直于导向板(351)的挡条；所述导向板(351)底部固定连接着折叠风箱(354)；所述导向板(351)表面设有气孔。
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Legal Events
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Effective date of registration: 20190821 Address after: 325024 Jifeng Road, Dushan Village, Yongzhong Street, Longwan District, Wenzhou City, Zhejiang Province, 228 (1st and 3rd floors of Building B) Applicant after: Wenzhou oryang science and Technology Co., Ltd. Address before: 510006 Guangdong Guangdong Polytechnic University, 100 Waihuan West Road, Guangzhou University Town, Panyu District, Guangzhou City, Guangdong Province Applicant before: Chen Zhuangzhuang |
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| TA01 | Transfer of patent application right | ||
| GR01 | Patent grant | ||
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Application publication date: 20180817 Assignee: Zhejiang Aoyang New Material Co.,Ltd. Assignor: WENZHOU AOYANG TECHNOLOGY CO.,LTD. Contract record no.: X2022980006109 Denomination of invention: A chemical polishing system for copper surface Granted publication date: 20190924 License type: Common License Record date: 20220526 |
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