CN108380581A - 一种金属铜表面氧化皮处理工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明属于金属铜表面清理工艺技术领域，具体的说是一种金属铜表面氧化皮处理工艺；包括如下步骤：准备工作、化学抛光、水洗、摊铺、烘干和清洗液维护；该工艺采用的清除装置包括抛光模块、物料框、摊铺模块和烘干模块；抛光模块包括箱体、超声波发生器、加热管、水池和封闭板组件；箱体两侧设有配合封闭板组件滑动的滑槽；封闭板组件一端固定安装永磁块；箱体外侧对应滑槽设有导轨；导轨上滑动连接牵引磁铁；牵引磁铁滑动用于开启或闭合箱体底部；本发明通过物料框通入气流，使得零件在清洗液内翻动，克服人工翻动的不足；通过采用将清洗液分层隔离，并单独清除含有沉淀脏物的清洗液的工艺，提高清洗液利用率。

Description

一种金属铜表面氧化皮处理工艺
技术领域
本发明属于金属铜表面清理工艺技术领域，具体的说是一种金属铜表面氧化皮处理工艺。
背景技术
铜及铜合金产品及零件，在常温下其表面能与空气中的氧生成氧化物，经过加工(退火、高温弯制、焊接等)热处理高温下更容易氧化，会生成一层较厚而致密的氧化皮，给后续工序加工、使用带来很大困难。
传统的工艺是对铜及铜合金进行酸洗，达到除去氧化层的目的。利用化学处理试剂，对于高温氧化皮、铜锈具有渗透、松散、软化、清洗作用。铜化学抛光是在铜及其合金表面进行的一种环保型抛光工艺，经过化学抛光后铜表面非常光滑光亮，尽显铜本色，甚至可以使铜表面产生镜面反射。铜化学抛光液维护方便、操作安全、无有害气体逸出,是一种理想的铜及其合金表面化学抛光工艺。但是，现有的清洗工艺还存在以下不足之处：
1.在对铜及铜合金零件进行化学抛光时，针对一些批量化零部件生产企业，其铜及铜合金零件数量较多，零件之间相互堆积、挤压，容易造成局部接触面清洗不干净；这就需要进行翻动，采用人工翻动，翻动效率较低，并且由于抛光液存在一定的腐蚀性，影响操作人员的身体健康。
2.抛光液使用多次后，变脏并产生沉淀；通常是舀出上层清澈的清洗液，除去下层的脏物，并重新添加化学试剂后，方可继续使用；往往抽取上层清洗液量较多，效率较低；并且需要额外容器暂存清洗液，占用工作空间，不利于场地的利用。
发明内容
为了弥补现有技术的不足，本发明提出的一种金属铜表面氧化皮处理工艺，通过物料框通入气流，使得零件在清洗液内翻动，克服人工翻动的不足；通过采用将清洗液分层隔离，并单独清除含有沉淀脏物的清洗液的工艺，提高清洗液利用率。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明所述的一种金属铜表面氧化皮处理工艺，该工艺采用清除装置，其中清除装置包括抛光模块、物料框、摊铺模块和烘干模块；所述抛光模块上端设有气管，所述气管用于配合连接物料框；所述摊铺模块设在抛光模块一侧，并配合连接着烘干模块；所述抛光模块和摊铺模块之间设有悬臂吊；所述悬臂吊用于将抛光模块内清洗完成的物料框移至摊铺模块；所述抛光模块包括箱体、超声波发生器、加热管、水池和封闭板组件；所述箱体底部设有超声波发生器和控温管；所述箱体设置为方箱；箱体一侧设有水池；所述箱体两侧设有封闭板组件，并在另外两侧设有配合封闭板组件滑动的滑槽；所述封闭板组件一端固定安装永磁块；所述箱体外侧对应滑槽设有导轨；所述导轨上滑动连接牵引磁铁；所述牵引磁铁滑动用于开启或闭合箱体底部；
其具体工艺使用如下：
步骤一：准备工作，在抛光模块的箱体内注入清洗液，开启控温管使得清洗液温度升至40-60摄氏度，开启超声波发生器；
步骤二：化学抛光，将需要清洗的零件放入物料框内，并将气管和物料框连接；将物料框内零件全部浸入清洗液内清洗5-20分钟；清洗的同时气管通入0.5-0.8Mpa气流，通过物料框通入气流，使得零件产生翻动，避免相互挤压而造成局部清理不干净；并且能够在清洗完成后及时通气吹除一部分残留清洗液；
步骤三：水洗，将物料框提升到箱体上方，并离开清洗液，静置5-10分钟，利用气流初步清理部分清洗液；放入水池清洗20-30分钟，进一步清除零件表面残留的清洗液；
步骤四：摊铺，将物料框提升到水池上方，并离开水面，静置5-10分钟，利用气管初步清理部分水；关闭气管并移入摊铺模块进行摊铺；将批量零件堆积在摊铺输送带一端，摊铺输送带速度设为0.3-0.5米/分，并通过一组转速20-30转/分的均料辊进行均匀摊铺，提高后续烘干效率；
步骤五：烘干，零件经过摊铺模块摊铺后进入烘干模块进行烘干作业；
步骤六：清洗液判别，根据零件清洗效果，决定继续使用、维护或更换清洗液；通过牵引磁铁控制封闭板组件封闭箱体底部；单独排空封闭在底部的含有沉淀脏物的清洗液后，重新打开封闭板组件，并向清洗液内添加水和化学试剂，即可继续使用，对比清洗液直接报废或分离上层清澈的清洗液的工艺，提高清洗液的综合利用效率。
优选的，所述封闭板组件包括第一封闭板、第二封闭板和第三封闭板；所述第一封闭板固定安装在箱体两侧；所述第一封闭板内部设有配合连接第二封闭板的滑槽；所述第二封闭板内部设有配合连接第三封闭板的滑槽，通过设置封闭板组件，减少设备占用场地，利用封闭板组件闭合箱体底部，隔离含有沉淀脏物的清洗液并直接清理，提高清洗液沉淀脏物的效率。
优选的，所述箱体内腔底面设置成中间向两侧倾斜的坡面，并在坡底设置排污管，含有沉淀脏物的清洗液排除后，利用部分上层清澈清洗液对箱体底板进行冲洗，使得底板附着的脏物得到进一步清除。
优选的，所述摊铺模块包括第一支架、摊铺输送带、横梁和均料单元；所述第一支架固定安装在地面上；所述第一支架上端配合连接着一条摊铺输送带；所述摊铺输送带两侧设有固定连接在第一支架上的横梁；所述横梁中部固定安装着均料单元；所述均料单元用于将摊铺输送带堆积的零件均匀摊铺；批量零件堆积在摊铺输送带一端，摊铺输送带将零件输送至烘干模块进行烘干，零件经由一组均料辊进行初步摊铺，减少工人劳动量。
优选的，所述均料单元包括均料电机、安装座和均料辊；所述安装座固定安装在横梁上；两个安装座之间转动连接着一组均料辊；所述均料辊通过均料电机驱动旋转，利用机械进行摊铺，较人工摊铺的更加均匀，效率更高。
优选的，所述均料辊表面设有对称设置的螺旋刷毛，正反螺旋刷毛将零件均匀摊铺，均匀布置在摊铺输送带上。
优选的，所述物料框包括框体、连接轴、隔板和接气管；所述框体中部固定安装着连接轴；所述连接轴固定连接着一组隔板；所述隔板将框体分成四个腔室；所述隔板内部中空，并在表面布满圆孔；所述接气管固定安装在连接轴上端，物料框内部放入需要清洗的零件，由于零件数量较多，并相互堆积，容易造成零件接触面清洗不充分，在清洗过程中通过气流，使得零件产生翻动，提高清洗效率，并且能够在清洗完成后及时通气吹除一部分残留清洗液，降低清洗液流失，并有效节约水洗用水，节约成本。
本发明的有益效果如下：
1.本发明采用物料框通入气流的工艺，使得零件在清洗液内翻动，克服人工翻动的不足。
2.本发明采用将清洗液分层隔离，并单独清除含有沉淀脏物的清洗液的工艺，提高清洗液综合使用率。
3.本发明通过设置封闭板组件，将清洗液分层隔离，单独清除沉淀脏物，效率较高；通过物料框设置的隔板，在清洗过程中通过气流，使得零件产生翻动，提高清洗效率；通过设置摊铺模块，使得零件摊铺均匀，提高烘干效率。
4.本发明通过设置封闭板组件，将清洗液分层隔离，单独清除沉淀脏物，效率较高。
5.本发明通过在均料辊表面设置对称的螺旋刷毛，将零件均匀摊铺，结构简单，降低操作者工作量。
6.本发明通过物料框设置的隔板，在清洗过程中通过气流，使得零件产生翻动，提高清洗效率，并且能够在清洗完成后及时通气吹除一部分残留清洗液，降低清洗液流失，并有效节约水洗用水，节约成本。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明。
图1是本发明的工艺流程图；
图2是本发明的主视图；
图3是本发明的抛光模块俯视图；
图4是图3中A-A剖视图；
图5是本发明的均料辊结构图；
图中：抛光模块1、箱体11、封闭板组件12、永磁块13、第一封闭板14、第二封闭板15、第三封闭板16、排污管17、物料框2、框体21、连接轴22、隔板23、摊铺模块3、第一支架31、摊铺输送带32、横梁33、均料单元34、均料辊341、螺旋刷毛342、安装座343、烘干模块4。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
如图1至图5所示，本发明所述的一种金属铜表面氧化皮处理工艺，该工艺采用清除装置，其中清除装置包括抛光模块1、物料框2、摊铺模块3和烘干模块4；所述抛光模块1上端设有气管，所述气管用于配合连接物料框2；所述摊铺模块3设在抛光模块1一侧，并配合连接着烘干模块4；所述抛光模块1和摊铺模块3之间设有悬臂吊；所述悬臂吊用于将抛光模块1内清洗完成的物料框2移至摊铺模块3；所述抛光模块1包括箱体11、超声波发生器、加热管、水池和封闭板组件12；所述箱体11底部设有超声波发生器和控温管；所述箱体11设置为方箱；箱体11一侧设有水池；所述箱体11两侧设有封闭板组件12，并在另外两侧设有配合封闭板组件12滑动的滑槽；所述封闭板组件12一端固定安装永磁块13；所述箱体11外侧对应滑槽设有导轨；所述导轨上滑动连接牵引磁铁；所述牵引磁铁滑动用于开启或闭合箱体11底部；
其具体工艺使用如下：
步骤一：准备工作，在抛光模块1的箱体11内注入清洗液，开启控温管使得清洗液温度升至40-60摄氏度，开启超声波发生器；
步骤二：化学抛光，将需要清洗的零件放入物料框2内，并将气管和物料框2连接；将物料框2内零件全部浸入清洗液内清洗5-20分钟；清洗的同时气管通入0.5-0.8Mpa气流，通过物料框2通入气流，使得零件产生翻动，避免相互挤压而造成局部清理不干净；并且能够在清洗完成后及时通气吹除一部分残留清洗液；
步骤三：水洗，将物料框2提升到箱体11上方，并离开清洗液，静置5-10分钟，利用气流初步清理部分清洗液；放入水池清洗20-30分钟，进一步清除零件表面残留的清洗液；
步骤四：摊铺，将物料框2提升到水池上方，并离开水面，静置5-10分钟，利用气管初步清理部分水；关闭气管并移入摊铺模块3进行摊铺；将批量零件堆积在摊铺输送带32一端，摊铺输送带32速度设为0.3-0.5米/分，并通过一组转速20-30转/分的均料辊341进行均匀摊铺，提高后续烘干效率；
步骤五：烘干，零件经过摊铺模块3摊铺后进入烘干模块4进行烘干作业；
步骤六：清洗液判别，根据零件清洗效果，决定继续使用、维护或更换清洗液；通过牵引磁铁控制封闭板组件12封闭箱体11底部；单独排空封闭在底部的含有沉淀脏物的清洗液后，重新打开封闭板组件12，并向清洗液内添加水和化学试剂，即可继续使用，对比清洗液直接报废或分离上层清澈的清洗液的工艺，提高清洗液的综合利用效率。
作为本发明的一种实施方式，所述封闭板组件12包括第一封闭板14、第二封闭板15和第三封闭板16；所述第一封闭板14固定安装在箱体11两侧；所述第一封闭板14内部设有配合连接第二封闭板15的滑槽；所述第二封闭板15内部设有配合连接第三封闭板16的滑槽，通过设置封闭板组件，减少设备占用场地，利用封闭板组件闭合箱体底部，隔离含有沉淀脏物的清洗液并直接清理，提高清洗液沉淀脏物的效率。
作为本发明的一种实施方式，所述箱体11内腔底面设置成中间向两侧倾斜的坡面，并在坡底设置排污管17，含有沉淀脏物的清洗液排除后，利用部分上层清澈清洗液对箱体11底板进行冲洗，使得底板附着的脏物得到进一步清除。
作为本发明的一种实施方式，所述摊铺模块3包括第一支架31、摊铺输送带32、横梁33和均料单元34；所述第一支架31固定安装在地面上；所述第一支架31上端配合连接着一条摊铺输送带32；所述摊铺输送带32两侧设有固定连接在第一支架31上的横梁33；所述横梁33中部固定安装着均料单元34；所述均料单元34用于将摊铺输送带32堆积的零件均匀摊铺；批量零件堆积在摊铺输送带32一端，摊铺输送带32将零件输送至烘干模块4进行烘干，零件经由一组均料辊341进行初步摊铺，减少工人劳动量。
作为本发明的一种实施方式，所述均料单元34包括均料电机、安装座343和均料辊341；所述安装座343固定安装在横梁33上；两个安装座343之间转动连接着一组均料辊341；所述均料辊341通过均料电机驱动旋转，利用机械进行摊铺，较人工摊铺的更加均匀，效率更高。
作为本发明的一种实施方式，所述均料辊341表面设有对称设置的螺旋刷毛342，正反螺旋刷毛342将零件均匀摊铺，均匀布置在摊铺输送带32上。
作为本发明的一种实施方式，所述物料框2包括框体21、连接轴22、隔板23和接气管；所述框体21中部固定安装着连接轴22；所述连接轴22固定连接着一组隔板23；所述隔板23将框体21分成四个腔室；所述隔板23内部中空，并在表面布满圆孔；所述接气管固定安装在连接轴22上端，物料框2内部放入需要清洗的零件，由于零件数量较多，并相互堆积，容易造成零件接触面清洗不充分，在清洗过程中通过气流，使得零件产生翻动，提高清洗效率，并且能够在清洗完成后及时通气吹除一部分残留清洗液，降低清洗液流失，并有效节约水洗用水，节约成本。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (7)

1.一种金属铜表面氧化皮处理工艺，其特征在于：该工艺采用清除装置，其中清除装置包括抛光模块(1)、物料框(2)、摊铺模块(3)和烘干模块(4)；所述抛光模块(1)上端设有气管，所述气管用于配合连接物料框(2)；所述摊铺模块(3)设在抛光模块(1)一侧，并配合连接着烘干模块(4)；所述抛光模块(1)和摊铺模块(3)之间设有悬臂吊；所述悬臂吊用于将抛光模块(1)内清洗完成的物料框(2)移至摊铺模块(3)；所述抛光模块(1)包括箱体(11)、超声波发生器、加热管、水池和封闭板组件(12)；所述箱体(11)底部设有超声波发生器和控温管；所述箱体(11)设置为方箱；箱体(11)一侧设有水池；所述箱体(11)两侧设有封闭板组件(12)，并在另外两侧设有配合封闭板组件(12)滑动的滑槽；所述封闭板组件(12)一端固定安装永磁块(13)；所述箱体(11)外侧对应滑槽设有导轨；所述导轨上滑动连接牵引磁铁；所述牵引磁铁滑动用于开启或闭合箱体(11)底部；
其具体工艺使用如下：
步骤一：准备工作，抛光模块(1)的箱体(11)内注入清洗液，开启控温管使得清洗液温度升至40-60摄氏度，开启超声波发生器；
步骤二：化学抛光，将需要清洗的零件放入物料框(2)内，并将气管和物料框(2)连接；将物料框(2)内零件全部浸入清洗液内清洗5-20分钟；清洗的同时气管通入气流；
步骤三：水洗，将物料框(2)提升到箱体(11)上方，并离开清洗液，静置5-10分钟，放入水池清洗20-30分钟；
步骤四：摊铺，将物料框(2)提升到水池上方，并离开水面，静置5-10分钟，关闭气管并移入摊铺模块(3)；
步骤五：烘干，零件经过摊铺模块(3)摊铺后进入烘干模块(4)进行烘干作业；
步骤六：清洗液判别，根据零件清洗效果，决定继续使用、维护或更换清洗液；通过牵引磁铁控制封闭板组件(12)封闭箱体(11)底部；单独排空封闭在底部含有沉淀脏物的清洗液后，重新打开封闭板组件(12)，并向清洗液内添加水和化学试剂，即可继续使用。
2.根据权利要求1所述的一种金属铜表面氧化皮处理工艺，其特征在于：所述封闭板组件(12)包括第一封闭板(14)、第二封闭板(15)和第三封闭板(16)；所述第一封闭板(14)固定安装在箱体(11)两侧；所述第一封闭板(14)内部设有配合连接第二封闭板(15)的滑槽；所述第二封闭板(15)内部设有配合连接第三封闭板(16)的滑槽。
3.根据权利要求1所述的一种金属铜表面氧化皮处理工艺，其特征在于：所述箱体(11)内腔底面设置成中间向两侧倾斜的坡面，并在坡底设置排污管(17)。
4.根据权利要求1所述的一种化学抛光法铜制品氧化皮清除装置，其特征在于：所述摊铺模块(3)包括第一支架(31)、摊铺输送带(32)、横梁(33)和均料单元(34)；所述第一支架(31)固定安装在地面上；所述第一支架(31)上端配合连接着一条摊铺输送带(32)；所述摊铺输送带(32)两侧设有固定连接在第一支架(31)上的横梁(33)；所述横梁(33)中部固定安装着均料单元(34)；所述均料单元(34)用于将摊铺输送带(32)堆积的零件均匀摊铺。
5.根据权利要求4所述的一种化学抛光法铜制品氧化皮清除装置，其特征在于：所述均料单元(34)包括均料电机、安装座(343)和均料辊(341)；所述安装座(343)固定安装在横梁(33)上；两个安装座(343)之间转动连接着一组均料辊(341)；所述均料辊(341)通过均料电机驱动旋转。
6.根据权利要求5所述的一种金属铜表面氧化皮处理工艺，其特征在于：所述均料辊(341)表面设有对称设置的螺旋刷毛(342)。
7.根据权利要求1所述的一种金属铜表面氧化皮处理工艺，其特征在于：所述物料框(2)包括框体(21)、连接轴(22)、隔板(23)和接气管；所述框体(21)中部固定安装着连接轴(22)；所述连接轴(22)固定连接着一组隔板(23)；所述隔板(23)将框体(21)分成四个腔室；所述隔板(23)内部中空，并在表面布满圆孔；所述接气管固定安装在连接轴(22)上端。
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