CN108284661B - 偏光片的剥离设备及其剥离方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种偏光片的剥离设备及其剥离方法，所述剥离方法包括步骤：将偏光片划分为多个刻蚀区域；沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行离子束刻蚀；去除显示面板上未被离子束刻蚀的偏光片。本发明提出的偏光片的剥离方法，通过离子束沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行刻蚀，可以避免直接通过外力撕开偏光片而造成偏光片断裂及对其他膜层造成损坏的现象，提升了剥离效率。

Description

偏光片的剥离设备及其剥离方法
技术领域
本发明涉及柔性面板加工技术领域，尤其涉及一种偏光片的剥离设备及其剥离方法。
背景技术
柔性显示器是用柔性材料制成的可弯曲的显示装置，其具有厚度薄、体积小、轻便、易携带、可弯曲、节能环保、个性时尚等优点，因此，柔性显示器将会在显示技术领域得到快速发展。柔性显示器的工艺复杂，结构由多层膜层堆叠而成，在完成触摸屏的制作之后，需要在触摸屏的表面贴上偏光片，在贴服过程中，偏光片中会残留异物、气泡、赃污等不良因素，因此，针对这些不良因素，经常需要返工，目前的返工工艺是利用外力将偏光片从触摸屏的表面撕掉，这样很容易造成剥离不良及对其他膜层造成损坏的现象。
发明内容
为了解决现有技术的不足，本发明提供一种偏光片的剥离设备及其剥离方法，能够避免偏光片剥离不良的现象以及对其他膜层造成损坏。
本发明提出的具体技术方案为：提供一种偏光片的剥离方法，所述剥离方法包括步骤：
将偏光片划分为多个刻蚀区域；
沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行离子束刻蚀；
去除显示面板上未被离子束刻蚀的偏光片。
进一步地，所述刻蚀区域的形状为正方形，所述刻蚀区域的边长等于所述离子束的光斑的直径。
进一步地，所述离子束的光斑的大小为0.1～1微米。
进一步地，所述离子束的入射方向与所述偏光片的表面垂直。
进一步地，所述步骤沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行离子束刻蚀具体包括：
对位于所述预定轨迹上的第一个刻蚀区域进行离子束刻蚀；
记录刻蚀至露出显示面板时的刻蚀参数；
利用所述刻蚀参数依次对所述多个刻蚀区域中其他的刻蚀区域进行离子束刻蚀。
进一步地，所述刻蚀参数包括离子束的光斑的大小、强度及刻蚀时间。
进一步地，所述预定轨迹为沿第一方向或沿第二方向延伸的S形曲线，所述第一方向与所述第二方向垂直。
进一步地，所述预定轨迹为螺旋形。
进一步地，在步骤去除显示面板上未被离子束刻蚀的偏光片中通过有机溶液去除显示面板上未被离子刻蚀的偏光片。
本发明还提供了一种偏光片的剥离设备，所述剥离设备包括离子枪、载台及设于所述载台上的柔性面板，所述柔性面板包括显示面板及设于所述显示面板上的偏光片，所述离子枪的发射口与所述偏光片相对设置，所述离子枪和/或所述载台移动对所述偏光片进行离子束刻蚀。
本发明提出的偏光片的剥离方法，通过离子束沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行刻蚀，可以避免直接通过外力撕开偏光片而造成偏光片断裂及对其他膜层造成损坏的现象，提升了剥离效率。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为剥离方法的流程图；
图2为柔性面板的结构示意图；
图3为偏光片的结构示意图；
图4为第一实施方式的预定轨迹示意图；
图5为第二实施方式的预定轨迹示意图；
图6为剥离设备的结构示意图。
具体实施方式
以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。在附图中，相同的标号将始终被用于表示相同的元件。
参照图1、图2及图3，本实施例提供了一种偏光片的剥离方法，用于将显示面板2上贴付的偏光片1去除。显示面板2可以为LCD面板，也可以为OLED，这里，以显示面板2为OLED面板为例来对该剥离方法进行描述。其中，显示面板2包括依次叠层设置的基板21、配向膜层22、阵列基板23、OLED显示层24、封装层25、触摸层26，偏光片1贴付于触摸层26的表面，所述剥离方法包括步骤：
S1、将偏光片划分为多个刻蚀区域；
S2、沿预定轨迹依次对多个刻蚀区域进行离子束刻蚀；
S3、去除显示面板2上未被离子束刻蚀的偏光片。
具体地，在步骤S1中，根据离子束的光斑20的大小将偏光片1划分为多个刻蚀区域10，由于离子束的光斑20形状为圆形，刻蚀区域10的形状为正方形，刻蚀区域10的边长等于离子束的光斑20的直径，离子束的光斑20的中心与刻蚀区域10的中心重合，这样，离子束的光斑20入射至刻蚀区域10上时，刻蚀区域10被离子束的光斑20覆盖的区域最大，即刻蚀面积最大。
离子束的光斑20不能太大，若离子束的光斑20太大，则刻蚀后残留的偏光片1比较多，后续清理的工作量比较大，离子束的光斑20也不能太小，若离子束的光斑20太小，则将会增加刻蚀的工作量，从而降低刻蚀效率，因此，需要根据偏光片1的实际面积来确定离子束的光斑20的大小，较佳地，本实施例中的离子束的光斑20的大小为0.1～1微米，这样，在保证刻蚀效率的同时能够减小后续清理的工作量。
离子束的入射方向与偏光片1的表面垂直，一方面使得离子束的光斑20尽可能的覆盖刻蚀区域10，另一方面离子束的能量更加均匀的分布于刻蚀区域10，使得刻蚀区域刻蚀速率保持一致，增加刻蚀均匀性。
为了能够保证刻蚀效果，即在离子束刚好将偏光片1刻蚀掉的情况下又不会对其他膜层造成损坏。步骤S2具体包括：
S21、对位于预定轨迹上的第一个刻蚀区域10进行离子束刻蚀；
S22、记录刻蚀至露出显示面板时的刻蚀参数；
S23、利用刻蚀参数依次对多个刻蚀区域10中其他的刻蚀区域10进行离子束刻蚀。
在步骤S21中先采用设定的刻蚀参数来对第一个刻蚀区域10进行离子束刻蚀，在步骤S22中通过显微镜观察第一个刻蚀区域10的刻蚀情况，当观察到离子束刚好刻蚀至露出显示面板2时，停止刻蚀，记录此时的刻蚀参数，该刻蚀参数即为能够保证刻蚀效果的刻蚀参数，在步骤S23中利用该刻蚀参数依次对剩下的刻蚀区域10进行刻蚀。较佳地，本实施例中的刻蚀参数包括离子束的光斑的大小、强度及刻蚀时间。
参照图4，在本实施例的第一实施方式中，预定轨迹为沿第一方向或沿第二方向延伸的S形曲线，第一方向与第二方向垂直。其中，第一方向为图4中的x方向，第二方向为图4中的y方向。沿x方向延伸的S形曲线可以是从第一行的刻蚀区域到最后一行的刻蚀区域的方向(如图4中的虚线所示)，也可以是从最后一行的刻蚀区域到第一行的刻蚀区域的方向，沿y方向延伸的S形曲线可以是从第一列的刻蚀区域到最后一列的刻蚀区域的方向，也可以是从最后一列的刻蚀区域到第一列的刻蚀区域的方向。
参照图5，在本实施例的第二实施方式中，预定轨迹为螺旋形，螺旋形可以是顺时针方向，也可以是逆时针方向。
在步骤S3中，刻蚀区域10被离子束刻蚀的部分的面积与离子束的光斑的面积相等，刻蚀区域10剩下的部分通过有机溶液去除，或者可以先用刀去除，然后再用有机溶液去除。
本实施例通过离子束来对偏光片1进行剥离，可以避免直接通过外力撕开偏光片而造成偏光片断裂及对其他膜层造成损坏的现象，提升了剥离效率。
参照图6，本实施例还提供了一种偏光片的剥离设备，所述剥离设备包括离子枪3、载台4及设于载台4上的柔性面板，柔性面板包括显示面板2及设于显示面板2上的偏光片1，显示面板2位OLED。离子枪3的发射口与偏光片1相对设置。离子枪3用于发射离子束，离子枪3发射的离子束与偏光片1的表面垂直。
离子枪3和/或载台4移动对偏光片1进行离子束刻蚀，即可以只移动离子枪3来沿预定轨迹依次对多个刻蚀区域10进行离子束刻蚀，也可以同时移动离子枪3和载台4来沿预定轨迹依次对多个刻蚀区域10进行离子束刻蚀。
以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (8)

1.一种偏光片的剥离方法，其特征在于，包括步骤：
将偏光片划分为多个刻蚀区域；
沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行离子束刻蚀；
去除显示面板上未被离子束刻蚀的偏光片，
其中，所述步骤沿预定轨迹依次对所述多个刻蚀区域进行离子束刻蚀具体包括：
对位于所述预定轨迹上的第一个刻蚀区域进行离子束刻蚀；
记录刻蚀至露出显示面板时的刻蚀参数，所述刻蚀参数包括离子束的光斑的大小、强度及刻蚀时间；
利用所述刻蚀参数依次对所述多个刻蚀区域中其他的刻蚀区域进行离子束刻蚀。
2.根据权利要求1所述的剥离方法，其特征在于，所述刻蚀区域的形状为正方形，所述刻蚀区域的边长等于所述离子束的光斑的直径。
3.根据权利要求2所述的剥离方法，其特征在于，所述离子束的光斑的大小为0.1～1微米。
4.根据权利要求1所述的剥离方法，其特征在于，所述离子束的入射方向与所述偏光片的表面垂直。
5.根据权利要求1-4任一所述的剥离方法，其特征在于，所述预定轨迹为沿第一方向或沿第二方向延伸的S形曲线，所述第一方向与所述第二方向垂直。
6.根据权利要求1-4任一所述的剥离方法，其特征在于，所述预定轨迹为螺旋形。
7.根据权利要求1所述的剥离方法，其特征在于，在步骤去除显示面板上未被离子束刻蚀的偏光片中通过有机溶液去除显示面板上未被离子刻蚀的偏光片。
8.一种偏光片的剥离设备，其特征在于，包括离子枪、载台及设于所述载台上的柔性面板，所述柔性面板包括显示面板及设于所述显示面板上的偏光片，所述离子枪的发射口与所述偏光片相对设置，所述离子枪和/或所述载台移动对所述偏光片进行离子束刻蚀。
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