CN108281549A - 制作柔性显示器的基板及柔性显示器的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种柔性显示器的基板，所述柔性显示器的基板包括依次层叠设置的刚性基材、牺牲层、柔性基材以及显示元件；所述牺牲层为偶氮苯类聚合物，所述牺牲层位于所述刚性基材与所述柔性基材之间，所述柔性基材位于所述牺牲层与所述显示元件之间，所述显示元件位于所述柔性基材相对所述牺牲层的另一表面上，本发明还公开了一种柔性显示器的制作方法，通过上述方式，本发明能够使得显示器柔性基材的剥离简便可控并且可循环使用。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种制作柔性显示器的基板及柔性显示器的制作方法。
背景技术
有机发光二极管(OLED，Organic Light-Emitting Diode)作为目前新兴的显示技术，由于其自发光的特性，具有较高的对比度与可视角，较优的图像质量，因此在显示行业的地位越来越重。其中，柔性有机发光二极管(FOLED，Flexible Organic Light-EmittingDiode)显示器是基于柔性有机材料的显示器，使显示器更加轻薄和耐用，同时其可以被卷曲、折叠、甚至作为可穿戴式设备的一部分，因此越来越多的应用于人们的生活中。
目前柔性OLED技术多是先在玻璃基板等刚性基材上附着PI，PET或金属箔等柔性基材，然后再在柔性基材上进行OLED制备的相关制程，在制备完成后再进行柔性基材与刚性基材的剥离。剥离柔性基材一般使用的技术有激光剥离技术、机械剥离技术以及牺牲层剥离技术。它们各自都存在一些缺陷，激光玻璃技术的虽然效果较好，但是使用成本较高；机械剥离技术剥离效果不佳并且不适用于大尺寸屏幕的生产；而牺牲层剥离技术对于牺牲层的热稳定性和黏住性要求较高。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种制作柔性显示器的基板及柔性显示器的制作方法，以使显示器柔性基材的剥离简便可控并且可循环使用。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：
提供一种制作柔性显示器的基板，包括：
依次层叠设置的刚性基材、牺牲层、柔性基材以及显示元件；
所述牺牲层为偶氮苯类聚合物，所述牺牲层位于所述刚性基材与所述柔性基材之间，所述柔性基材位于所述牺牲层与所述显示元件之间，所述显示元件位于所述柔性基材相对所述牺牲层的另一表面上。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：
提供一种柔性显示器的制作方法，包括：
在刚性基材的表面形成偶氮苯类聚合物牺牲层；
将柔性基材通过所述牺牲层黏附于所述刚性基材上；
在所述柔性基材相对所述牺牲层的另一表面上制作显示元件；
在所述刚性基材相对所述牺牲层的另一表面利用紫外光进行照射及加热；以及
使所述柔性基材与所述刚性基材分离。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过依次层叠设置的刚性基材、牺牲层、柔性基材以及显示元件；所述牺牲层为偶氮苯类聚合物，所述牺牲层位于所述刚性基材与所述柔性基材之间，所述柔性基材位于所述牺牲层与所述显示元件之间，所述显示元件位于所述柔性基材相对所述牺牲层的另一表面上，使得显示器柔性基材的剥离简便可控并且可循环使用。
附图说明
图1是本发明制作柔性显示器的基板的结构示意图；
图2是本发明制作柔性显示器的基板中牺牲层偶氮苯类聚合物分子结构式示意图；
图3是本发明制作柔性显示器的基板中牺牲层包括含磺酸基单体基团的偶氮苯类聚合物分子结构式示意图；
图4是本发明柔性显示器的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明。
请参阅图1，是本发明制作柔性显示器的基板的结构示意图。所述制作柔性显示器的基板包括：
依次层叠设置的刚性基材10、牺牲层20、柔性基材30以及显示元件40；
所述牺牲层20为偶氮苯类聚合物，所述牺牲层20位于所述刚性基材10与所述柔性基材30之间，所述柔性基材30位于所述牺牲层20与所述显示元件40之间，所述显示元件40位于所述柔性基材30相对所述牺牲层20的另一表面上。
其中，所述显示元件40为有机发光二极管。
在本实施例中，所述刚性基材10为玻璃基板，所述柔性基材30为PI(聚酰亚胺)，PET(聚对苯二甲酸乙二酯)或金属箔等之一的柔性基材。
具体的，所述牺牲层20为偶氮苯类聚合物，如图2所示，由于偶氮苯结构对紫外光敏感，在紫外光波长为365纳米及辐射照度为50兆瓦每平方厘米的照射条件下对所述制作柔性显示器的基板照射1～2分钟，所述牺牲层20偶氮苯类聚合物会从反式结构a转变为顺式结构b，从而所述偶氮苯类聚合物的玻璃化转变温度Tg会降低(降低大约60-70℃)，对所述紫外光照射的基板进行加热使所述Tg低于外界环境温度，所述偶氮苯类聚合物从固态转变为液态，自身黏着力降低，导致所述牺牲层20对所述刚性基材10和所述柔性基材30的附着力下降，从而将刚性基材10和所述柔性基材30进行剥离下来。而在可见光波长为530nm，辐射照度为50mW/cm2，照射时间为1-2min的照射条件下，又会从顺式结构b转变为反式结构a，因此玻璃化转变温度Tg又会恢复到原来的值。
其中，所述牺牲层20由于是通过光控所述偶氮苯类聚合物分子顺反异构改变的方式来控制其玻璃化转变温度Tg的改变，并没有使所述偶氮苯类聚合物本身发生反应，因此可逆性较好，实际测量可循环次数达到20次以上。
所述制作柔性显示器的基板牺牲层20偶氮苯类聚合物还包括耐高温基团。
其中，所述耐高温基团为侧链基团、带电基团和含磺酸基单体基团中的一种或者组合。
为了使所述牺牲层20在柔性显示器的整个制程中，不被存在的一些高温制程所影响，需要在含偶氮苯类聚合物分子中引入较大的侧链基团、带电基团和含磺酸基单体基团等改性方法以此提高其耐温能力(通过此类方法可以使聚合物分解温度高于300℃)。
具体的，所述耐高温基团为含磺酸基单体基团，如图3所示，是本发明制作柔性显示器的基板中牺牲层20中包括含磺酸基单体基团的偶氮苯类聚合物分子结构式示意图。
所述偶氮苯类聚合物通过含磺酸基单体基团的修饰使其玻璃化转变温度Tg提高，根据制程需求，达到提高所述偶氮苯类聚合物耐热性的目的，以便于进行后续的柔性显示器制程。
请参阅图4，是本发明柔性显示器的制作方法的流程示意图。所述方法包括步骤：
步骤S1：在刚性基材10的表面形成偶氮苯类聚合物牺牲层20。
具体的，将所述含偶氮苯类聚合物溶于有机溶剂后在所述刚性基材10上进行涂布，使其均匀附着于所述刚性基材10上，再通过VCD(Vacuum Drying，真空干燥)或者预烘烤的方式，去除其中多余的溶剂，使其固化增加附着力，形成所述牺牲层20。
其中，所述偶氮苯类聚合物还包括耐高温基团。
具体的，所述耐高温基团为侧链基团、带电基团和含磺酸基单体基团中的一种或者组合。
为了使所述牺牲层20在柔性显示器的整个制程中，不被存在的一些高温制程所影响，需要在含偶氮苯类聚合物分子中引入较大的侧链基团、带电基团和含磺酸基单体基团等改性方法以此提高其耐温能力(通过此类方法可以使所述偶氮苯类聚合物分解温度高于300℃)。
在本实施例中，所述刚性基材10为玻璃基板，所述耐高温基团为含磺酸基单体基团。
所述偶氮苯类聚合物通过含磺酸基单体基团的修饰使其玻璃化转变温度Tg提高，根据制程需求，达到提高所述偶氮苯类聚合物耐热性的目的。
步骤S2：将柔性基材30通过所述牺牲层20黏附于所述刚性基材10上。
在所述牺牲层20上制备柔性基材30，通过所述牺牲层20将所述柔性基材30黏附于所述刚性基材10上。
在本实施例中，所述柔性基材30为PI(聚酰亚胺)，PET(聚对苯二甲酸乙二酯)或金属箔等之一的柔性基材。
步骤S3：在所述柔性基材30相对所述牺牲层20的另一表面上制作显示元件40。
具体的，所述显示元件40为有机发光二极管。
步骤S4：在所述刚性基材10相对所述牺牲层20的另一表面利用紫外光进行照射及加热。
具体的，在紫外光波长为365纳米及辐射照度为50兆瓦每平方厘米的照射条件下对所述刚性基材10相对所述牺牲层20的另一表面照射1～2分钟，所述牺牲层20偶氮苯类聚合物会从反式结构a转变为顺式结构b，从而所述偶氮苯类聚合物的玻璃化转变温度Tg会降低(降低大约60-70℃)，对所述紫外光照射的所述刚性基材10相对所述牺牲层20的另一表面进行加热使所述玻璃化转变温度Tg低于外界环境温度，所述偶氮苯类聚合物从固态转变为液态，自身黏着力降低，导致所述牺牲层20对所述刚性基材10和所述柔性基材30的附着力下降。
以及，
步骤S5：使所述柔性基材30与所述刚性基材10分离。
将刚性基材10和所述柔性基材30进行剥离下来。
最后使用有机溶剂冲洗所述刚性基材10和所述柔性基材30，回收利用所述牺牲层20材料，在可见光波长为530nm，辐射照度为50mW/cm2，照射时间为1-2min的照射条件下，将所述偶氮苯类聚合物牺牲层20由顺式结构b转变为反式结构a，其玻璃化变温度Tg又会恢复到原来的值，进行下次循环使用。
本发明通过在紫外光波长为365纳米及辐射照度为50兆瓦每平方厘米的照射条件下对经过含磺酸基单体基团修饰的含偶氮苯类聚合物牺牲层进行照射及加热，使所述含偶氮苯类聚合物的玻璃化转变温度Tg低于外界环境温度，所述偶氮苯类聚合物从固态转变为液态，自身黏着力降低，导致所述牺牲层对所述刚性基材和所述柔性基材的附着力下降，实现所述柔性基材与所述刚性基材的分离。
所述制作柔性显示器的基板及柔性显示器的制作方法通过在刚性基板与柔性基板之间设置由偶氮苯类聚合物组成的牺牲层，并在所述偶氮苯类聚合物中添加耐高温基团，之后通过紫外光照射及加热使偶氮苯类聚合物的结构发生变化从而使所述刚性基材与所述柔性基材分离，并且使用后的牺牲层材料可以再次回收利用，以此使得显示器柔性基材的剥离简便可控并且可循环使用。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种制作柔性显示器的基板，其特征在于，包括：
依次层叠设置的刚性基材、牺牲层、柔性基材以及显示元件；
所述牺牲层为偶氮苯类聚合物，所述牺牲层位于所述刚性基材与所述柔性基材之间，所述柔性基材位于所述牺牲层与所述显示元件之间，所述显示元件位于所述柔性基材相对所述牺牲层的另一表面上。
2.根据权利要求1所述制作柔性显示器的基板，其特征在于，在紫外光波长为365纳米及辐射照度为50兆瓦每平方厘米的照射条件下照射1～2分钟，所述偶氮苯类聚合物由反式结构转变为顺式结构。
3.根据权利要求2所述制作柔性显示器的基板，其特征在于，对紫外光照射的基板进行加热，使所述牺牲层转变为液态结构。
4.根据权利要求1所述制作柔性显示器的基板，其特征在于，所述偶氮苯类聚合物包括耐高温基团。
5.根据权利要求4所述制作柔性显示器的基板，其特征在于，所述耐高温基团为侧链基团、带电基团和含磺酸基单体基团中的一种或者组合。
6.根据权利要求1所述基板，其特征在于，所述显示元件为有机发光二极管，所述刚性基材为玻璃基板，所述柔性基材为聚酰亚胺，聚对苯二甲酸乙二酯或金属箔。
7.一种柔性显示器的制作方法，其特征在于，包括：
在刚性基材的表面形成偶氮苯类聚合物牺牲层；
将柔性基材通过所述牺牲层黏附于所述刚性基材上；
在所述柔性基材相对所述牺牲层的另一表面上制作显示元件；
在所述刚性基材相对所述牺牲层的另一表面利用紫外光进行照射及加热；以及
使所述柔性基材与所述刚性基材分离。
8.根据权利要求7所述柔性显示器的制作方法，其特征在于，所述紫外光照射条件为：紫外光波长为365纳米，辐射照度为50兆瓦每平方厘米，照射1～2分钟。
9.根据权利要求7所述柔性显示器的制作方法，其特征在于，所述偶氮苯类聚合物包括耐高温基团。
10.根据权利要求8所述柔性显示器的制作方法，其特征在于，所述耐高温基团为侧链基团、带电基团和含磺酸基单体基团中的一种或者组合。
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