CN108279552A - 基板载台和曝光机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基板载台和曝光机。基板载台包括：本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面用于承载基板，且第一表面设置有至少一个离子通道；至少一个第一静电消除器，每个第一静电消除器对应至少一个离子通道，第一静电消除器与其所对应的离子通道连接，以向离子通道内提供静电消除离子。通过所设置的离子通道以及与离子通道对应的第一静电消除器的作用，可以消除基板与基板载台相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板与基板载台之间的静电吸附力，进而可以使得基板与基板载台容易剥离。因此，在基板与基板载台剥离的过程中，能够有效保护基板，有效避免基板剥离时出现碎片的风险，提高基板的制作良率，降低制作成本。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种基板载台和一种包括该基板载台的曝光机。
背景技术
近年来，随着半导体显示技术的高速发展，半导体制造中的光刻制程也显得越来越重要。而光刻制造中的曝光机也就成为半导体制造不可或缺的设备。然而，现有的曝光机的基板载台常常在基板与基板载台剥离的瞬间，因为基板与基板载台之间存在吸附静电的原因，导致基板与基板载台之间存在一个吸附力，因此常常造成基板碎片，造成生产损失。
为了消除基板与基板载台剥离时产生的静电，如图1所示，在基板载台100的本体110的的一侧的上方位置处，设置有X-Ray静电消除器160。这样，当基板200被顶起时，X-Ray静电消除器160所发出的X射线在基板200的上、下表面电离空气，产生正负离子，从而可以分别中和基板200上的正负电荷，进而消除静电。
但是，如图2所示，在基板200与基板载台100剥离的瞬间，也就是说，此时，基板200仍然与基板载台100贴合，正准备被支撑件140顶起，以实现基板200与基板载台100的剥离。此时的基板200与基板载台100之间存在吸附静电，具有较大的吸附力，而此时的X-Ray静电消除器160位于基板200的上方，其对基板200下方的静电消除作用非常微弱，因此常常导致基板200发生应力碎片，造成生产损失。
因此，如何设计一种能够有效消除基板与基板载台剥离产生的静电的基板载台结构成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种基板载台和一种包括该基板载台的曝光机。
为了实现上述目的，本发明的第一方面，提供了一种基板载台，包括：
本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面用于承载基板，且所述第一表面设置有至少一个离子通道；
至少一个第一静电消除器，每个所述第一静电消除器对应至少一个所述离子通道，所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道连接，以向所述离子通道内提供静电消除离子。
优选地，所述第一静电消除器与所述离子通道一一对应设置。
优选地，所述第一静电消除器安装在与其所对应的所述离子通道中。
优选地，所述离子通道贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一静电消除器位于所述第二表面。
优选地，所述第一表面还设置有至少一个进气通道，所述基板载台还包括：
至少一个进气管，每个所述进气管对应至少一个所述进气通道，且所述进气管与其所对应的所述进气通道连通，以向所述进气通道内提供气体；
至少一个支撑件，可伸缩地设置于所述第一表面，以在气体的带动下顶起基板或放下基板。
优选地，所述离子通道复用为所述进气通道。
优选地，所述离子通道贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一静电消除器位于所述第二表面，且所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道密闭连接。
优选地，还包括：
第二静电消除器，位于所述第一表面的一侧的外部，且与所述第一表面之间具有预定距离。
优选地，所述第一静电消除器包括离子流式静电消除器和/或放射线式静电消除器。
本发明的第二方面，提供了一种曝光机，包括前文记载的所述的基板载台。
本发明的基板载台，通过在承载基板的第一表面设置离子通道以及与离子通道对应的第一静电消除器的作用，可以消除基板与基板载台相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板与基板载台之间的静电吸附力，进而可以使得基板与基板载台容易剥离。因此，本发明的基板载台，在基板与基板载台剥离的过程中，能够有效保护基板，有效避免基板剥离时出现碎片的风险，提高基板的制作良率，降低制作成本。
本发明的曝光机，具有前文记载的基板载台的结构，其通过在承载基板的第一表面设置离子通道以及与离子通道对应的第一静电消除器的作用，可以消除基板与基板载台相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板与基板载台之间的静电吸附力，进而可以使得基板与基板载台容易剥离。因此，本发明的曝光机，在基板与基板载台剥离的过程中，能够有效保护基板，有效避免基板剥离时出现碎片的风险，提高基板的制作良率，降低制作成本。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1为现有技术中基板载台的结构示意图；
图2为图1中所示基板将要被支撑件顶起的结构示意图；
图3为本发明第一实施例中基板载台的结构示意图；
图4为本发明第二实施例中基板载台的结构示意图。
附图标记说明
100：基板载台；
110：本体；
111：第一表面；
112：第二表面；
113：离子通道；
114：进气通道；
120：第一静电消除器；
130：进气管；
140：支撑件；
150：第二静电消除器；
160：X-ray静电消除器；
200：基板。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
参考图3，本发明的第一方面，涉及一种基板载台100，该基板载台100包括本体110和至少一个第一静电消除器120。其中，本体110包括相对设置的第一表面111和第二表面112，其第一表面111用于承载基板200，并且，该第一表面111还设置有至少一个离子通道113。每个第一静电消除器120对应至少一个离子通道113，并且，第一静电消除器120与其所对应的离子通道113连接，以向离子通道113内提供静电消除离子。
也就是说，如图3所示，上述基板载台100可以包括多个第一静电消除器120和多个设置在第一表面111的离子通道113，每个第一静电消除器120可以对应一个离子通道113。当然，根据实际需要，每个第一静电消除器120还可以对应两个或多个离子通道113等等。
这样，当从基板载台100上剥离基板200时，可以控制第一静电消除器120处于打开状态，以便可以向离子通道113内输送静电消除离子，位于离子通道113内的静电消除离子可以移动至基板200与基板载台100相接触的表面处，即图3中基板200的下表面。这样，利用静电消除离子可以中和基板200和基板载台100之间所产生的静电，也就是说，静电消除离子为正离子和负离子，中和基板200和基板载台100上的正负电荷，使得基板200和基板载台100之间不存在静电吸附作用，从而可以方便地从基板载台100上取下基板200。
本实施例结构的基板载台100，通过在承载基板200的第一表面111设置离子通道113以及与离子通道对应的第一静电消除器120的作用，可以消除基板200与基板载台100相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板200与基板载台100之间的静电吸附力，进而可以使得基板200与基板载台100容易剥离。因此，本实施例结构的基板载台100，在基板200与基板载台100剥离的过程中，能够有效保护基板200，有效避免基板200剥离时出现碎片的风险，提高基板200的制作良率，降低制作成本。
需要说明的是，对于第一静电消除器120的具体结构并没有作出限定，其只要满足能够向离子通道113内提供静电消除离子即可。例如，第一静电消除器120可以独立产生并输出静电消除离子，如离子流式静电消除器，其可以输出正离子或负离子，以中和基板200与基板载台100之间产生的静电。再例如，第一静电消除器120还可以发出某一类电激光，其可以电离气体产生正离子或负离子，以中和基板200与基板载台100之间产生的静电。当然，根据消除静电原理的不同，第一静电消除器120还可以是其他种类的静电消除器，在此并不作限定。
优选地，如图3所示，基板载台100包括多个第一静电消除器120，并且第一静电消除器120与离子通道113一一对应设置。也就是说，如图3所示，每个离子通道113处均设置有一个第一静电消除器120。
这样，在从基板载台100上剥离基板200时，可以控制各第一静电消除器120处于打开状态，以便可以向与其所对应的各离子通道113内输送静电消除离子，位于各离子通道113内的静电消除离子可以移动至基板200与基板载台100相接触的表面处，即图1中基板200的下表面。这样，利用静电消除离子可以中和基板200和基板载台100之间所产生的静电，也就是说，静电消除离子为正离子和负离子，中和基板200和基板载台100上的正负电荷，使得基板200和基板载台100之间不存在静电吸附作用，从而可以方便地从基板载台100上取下基板200。
本实施例结构的基板载台100，设置有多个第一静电消除器120，并且各第一静电消除器120对应一个离子通道113，可以提高消除基板200与基板载台100之间的静电的速率，缩短基板200从基板载台100上剥离的时间，提高生产效率，降低制作成本。
优选地，作为上述第一静电消除器120的第一种具体安装方式，如图3所示，第一静电消除器120可以安装在与其所对应的离子通道113中。也就是说，如图3所示，离子通道113可以为自第一表面111向第二表面112凹陷，但是并未贯穿第二表面112的孔结构。也就是说，该离子通道113为一种盲孔结构。这样，可以将第一静电消除器120安装在离子通道113内。
本实施例结构的基板载台100，直接将第一静电消除器120安装在与其所对应的离子通道113内，安装方式简单，例如，可以通过第一静电消除器120与离子通道113之间的过盈配合或过渡配合，实现将第一静电消除器120稳定地固定在离子通道113内。
优选地，作为上述第一静电消除器120的第二种具体安装方式，如图4所示，上述离子通道113可以完全贯穿第一表面111和第二表面112。也就是说，离子通道113为一种通孔结构。这样，第一静电消除器120可以安装在第二表面112，也就是说，第一静电消除器120位于离子通道113的在第二表面112的端部位置处，以便第一静电消除器120在该位置与离子通道113连接。
与第一静电消除器120的第一种具体安装方式不同的是，在第二种具体安装方式中，不必考虑所设置的各离子通道113的尺寸大小，其只要能够传输静电消除离子即可。因此，在第一静电消除器120的第二种安装方式中，可以有效提高基板载台100的结构稳定性，能够提高其承载基板200的可靠性。
优选地，为了能够便于将基板200从基板载台100上剥离，如图3和图4所示，上述第一表面111还设置有至少一个进气通道114。上述基板载台100还包括至少一个进气管130和至少一个支撑件140。每个进气管130对应至少一个进气通道114，并且各进气管130与其所对应的进气通道114连通，以向进行通道114内提供气体。支撑件140均可伸缩地设置于第一表面111，以在气体的带动下顶起基板200或放下基板200。
也就是说，当需要从基板载台100上剥离基板200时，首先利用第一静电消除器120消除基板200与基板载台100之间所产生的静电。之后，利用进气管130向进气通道114内提供气体(例如，空气或氮气等)，由于基板200、支撑件140与第一表面111之间为密封的环境，因此，在气体压力的带动下，支撑件140可以朝向基板200的方向顶出，从而可以将基板200顶起，进而可以实现将基板200从基板载台100上剥离。
应当理解的是，除了上述顶起基板200的方式以外，还可以采用其他的一些升降机构，例如，可以在基板载台100内设置一个升降轴，升降轴的一端与基板200连接，另一端与动力源(例如，直线模组)连接等等。
优选地，如图3和图4所示，上述离子通道113复用为进气通道114。也就是说，如图3和图4所示，离子通道113即充当静电消除离子的通道，又充当气体的通道。因此，可以进一步简化基板载台100的结构，有效提高基板载台100的结构稳定性，能够提高其承载基板200的可靠性。
另外，当离子通道113贯穿第一表面111和第二表面112，且其复用为进气通道114时，第一静电消除器120应当与其所对应的离子通道113密闭连接。这样，可以提高基板200与基板载台100整体之间的密封性能，从而可以缩短基板200与基板载台100的剥离时间，提高生产效率，降低制作成本。
优选地，上述基板载台100还包括第二静电消除器150，该第二静电消除器150位于第一表面111的一侧的外部，且与第一表面111之间具有预定距离。
也就是说，如图4所示，第二静电消除器150可以位于第一表面111的一侧的上方(例如，图4中第一表面111的右侧上方位置处)。这样，利用第二静电消除器150可以对基板200上表面的静电进行消除。因此，本实施例结构的基板载台100，能够达到高效去除基板200上的静电，从而在基板200与基板载台100剥离的过程中，有效保护基板200，有效避免基板200剥离时出现碎片的风险，提高基板200的制作良率，降低制作成本。
此外，除了可以在第一表面111的一侧的外部设置上述的第二静电消除器150之外，还可以在基板200搬出设备的时候由设备出口的离子棒进行消除静电等。
优选地，作为上述第一静电消除器120的一种具体结构，该第一静电消除器120可以包括离子流式静电消除器和/或放射线式静电消除器。
另外，上述的第二静电消除器150也可以为离子流式静电消除器和/或放射线式静电消除器。
离子流式静电消除器可以产生正负离子，从而可以中和基板200与基板载台100之间的正负电荷。
放射线式静电消除器，例如，可以是X-ray静电消除器，利用其所产生的X射线使得空气电离产生正负离子，从而也可以中和基板200与基板载台100之间的正负电荷。
本发明的第二方面，提供了一种曝光机(图中并未示出)。其中，该曝光机包括前文记载的基板载台100。
因此，本实施例结构的曝光机，其具有前文记载的基板载台100的结构，基板载台100通过在承载基板200的第一表面111设置离子通道113以及与离子通道对应的第一静电消除器120的作用，可以消除基板200与基板载台100相接触的表面所产生的静电，从而可以消除基板200与基板载台100之间的静电吸附力，进而可以使得基板200与基板载台100容易剥离。因此，本实施例结构的曝光机，在基板200与基板载台100剥离的过程中，能够有效保护基板200，有效避免基板200剥离时出现碎片的风险，提高基板200的制作良率，降低制作成本。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种基板载台，其特征在于，包括：
本体，包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面用于承载基板，且所述第一表面设置有至少一个离子通道；
至少一个第一静电消除器，每个所述第一静电消除器对应至少一个所述离子通道，所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道连接，以向所述离子通道内提供静电消除离子。
2.根据权利要求1所述的基板载台，其特征在于，所述第一静电消除器与所述离子通道一一对应设置。
3.根据权利要求2所述的基板载台，其特征在于，所述第一静电消除器安装在与其所对应的所述离子通道中。
4.根据权利要求2所述的基板载台，其特征在于，所述离子通道贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一静电消除器位于所述第二表面。
5.根据权利要求1所述的基板载台，其特征在于，所述第一表面还设置有至少一个进气通道，所述基板载台还包括：
至少一个进气管，每个所述进气管对应至少一个所述进气通道，且所述进气管与其所对应的所述进气通道连通，以向所述进气通道内提供气体；
至少一个支撑件，可伸缩地设置于所述第一表面，以在气体的带动下顶起基板或放下基板。
6.根据权利要求5所述的基板载台，其特征在于，所述离子通道复用为所述进气通道。
7.根据权利要求6所述的基板载台，其特征在于，所述离子通道贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一静电消除器位于所述第二表面，且所述第一静电消除器与其所对应的所述离子通道密闭连接。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的基板载台，其特征在于，还包括：
第二静电消除器，位于所述第一表面的一侧的外部，且与所述第一表面之间具有预定距离。
9.根据权利要求1至7中任意一项所述的基板载台，其特征在于，所述第一静电消除器包括离子流式静电消除器和/或放射线式静电消除器。
10.一种曝光机，其特征在于，包括权利要求1至9中任意一项所述的基板载台。
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