CN107219648A - 一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法，在光源发出的特定光线的作用下，使得光感涂层在绝缘状态和导电状态之间发生转变，有利于对待曝光基板的固定和分离；同时，通过静电发生器向光感涂层释放静电荷，实现了通过静电吸附的方式固定待曝光基板，且不会出现凸起的分区挡墙；此外，通过将金属台面接地，使得静电荷可以从光感涂层经过金属台面而导出，实现待曝光基板与光感涂层的分离，便于待曝光基板的移开；总之，该曝光机机台既保证了静电的产生和对待曝光基板的吸附，又实现了对已存静电荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因气体负压吸附的方式带来的stage mura，保护了待曝光基板不受破坏，有效提高了待曝光基板的曝光质量。

Description

一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法。

背景技术

在制作液晶显示面板中的对向基板时，通常将用于制作对向基板的衬底基板固定于曝光机台之上，通过紫外曝光的方式制作对向基板。目前，将衬底基板固定于曝光机台之上的方式一般为气体负压吸附的方式，即利用气体的压力差来固定衬底基板，以防止衬底基板发生偏移，影响曝光的准确性。

然而，在采用气体负压吸附的方式固定衬底基板时，通常需要对衬底基板进行分区吸附，而分区吸附必然会存在凸起的分区挡墙，使得衬底基板在吸附固定后，由于分区挡墙的凸起会使得衬底基板发生弯曲，导致部分区域曝光不均匀，影响局部曝光效果，产生机台纹路不良(stage mura)；具体如图1所示，在曝光机机台1吸附固定衬底基板2之后，因存在分区挡墙(虚线圈内所示)，从而产生了stage mura，如图2所示的曲线和椭圆。而随着液晶产品分辨率的逐步提高，stage mura在实际的液晶产品中不断被检出，严重影响了液晶产品的质量。

目前，通常采用减轻吸附压力的方式来解决stage mura的问题；然而，该方法的作用微乎其微，并没有从根本上解决stage mura的问题；基于此，如何有效避免因固定衬底基板而导致的stage mura，提高液晶产品的质量，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供了一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法，用以解决如何有效避免因固定衬底基板而导致的stage mura，提高液晶产品的质量。

本发明实施例提供了一种曝光机机台，包括：用于承载待曝光基板的具有金属台面的台架、用于向所述金属台面发射特定光线的光源、以及用于向所述金属台面释放静电荷的静电发生器；其中，

所述金属台面的表面具有光感涂层；所述光感涂层在感应到所述特定光线后从绝缘状态变为导电状态；

所述金属台面接地；

所述特定光线与所述曝光机发射的曝光光线具有不同的波长范围。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述光源为红外光源；所述光感涂层为红外半导体涂层。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述红外半导体涂层的材料为硫化铅、碲化铅或硒化铅之一或组合。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述光源位于所述金属台面的正上方。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述金属台面通过至少一条导线接地。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，还包括：贯穿所述金属台面和所述光感涂层的多个规则排列的排气孔。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，各所述排气孔的孔径大小相等。

在一种可能的实施方式中，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，所述排气孔的孔径不大于0.5毫米。

本发明实施例还提供了一种曝光系统，包括：如本发明实施例提供的上述曝光机机台，以及曝光机。

本发明实施例还提供了一种采用如本发明实施例提供的上述曝光系统进行曝光的方法，包括：

利用静电发生器向金属台面上的光感涂层释放静电荷，所述静电荷与待曝光基板表面携带的静电荷电性相反；

将所述待曝光基板放置于附着有所述静电荷的所述光感涂层之上，以使所述待曝光基板固定于台架上；

在采用曝光机对所述待曝光基板曝光完成后，利用光源向所述金属台面发射特定光线，使所述光感涂层从绝缘状态变为导电状态；

在所述静电荷从所述光感涂层经过所述金属台面导出后，将曝光后的基板脱离所述台架。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法，包括：用于承载待曝光基板的具有金属台面的台架、用于向金属台面发射特定光线的光源、以及用于向金属台面释放静电荷的静电发生器；其中，金属台面的表面具有光感涂层；光感涂层在感应到特定光线后从绝缘状态变为导电状态；金属台面接地；特定光线与曝光机发射的曝光光线具有不同的波长范围。因此，在光源发出的特定光线的作用下，使得光感涂层在绝缘状态和导电状态之间发生转变，有利于对待曝光基板的固定和分离；同时，通过静电发生器向光感涂层释放静电荷，实现了通过静电吸附的方式固定待曝光基板，且不会出现凸起的分区挡墙；此外，通过将金属台面接地，使得静电荷可以从光感涂层经过金属台面而导出，实现待曝光基板与光感涂层的分离，便于待曝光基板的移开；总之，该曝光机机台既保证了静电的产生和对待曝光基板的吸附，又实现了对已存静电荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因气体负压吸附的方式带来的stage mura，保护了待曝光基板不受破坏，有效提高了待曝光基板的曝光质量。

附图说明

图1为现有技术中的曝光机机台的结构示意图；

图2为采用现有技术中的曝光机机台制作的基板的结构示意图；

图3为本发明实施例中提供的曝光机机台的结构示意图；

图4为本发明实施例中提供的曝光机机台的俯视图；

图5为本发明实施例中提供的曝光系统的结构示意图；

图6为本发明实施例中提供的采用曝光系统进行曝光的方法。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明实施例提供的一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法的具体实施方式进行详细地说明。需要说明的是，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

曝光机可以分为电子束曝光机和紫外曝光机，电子束曝光机的曝光精度可以达到纳米级，可以得到非常精细的图案；而紫外曝光机的曝光精度最小可以达到1微米，但在实际的工艺中却很难得到精度为1微米的图案，但液晶显示面板中的图案通常都在微米级，因此，紫外曝光机通常被用于制作液晶显示面板。同时，由于在紫外曝光的过程中，曝光机机台所带静电对曝光影响较小，所以，根据这一现象，采用静电吸附的方式来固定待曝光基板，以避免因气体负压吸附引起的凸起分区挡墙而导致stage mura问题的出现，较大地提高了待曝光基板的曝光质量。

因此，本发明实施例提供了一种曝光机机台，如图3所示，可以包括：用于承载待曝光基板的具有金属台面的台架01、用于向金属台面发射特定光线的光源02、以及用于向金属台面释放静电荷的静电发生器03；其中，

金属台面的表面具有光感涂层04；光感涂层04在感应到特定光线后从绝缘状态变为导电状态；

金属台面接地；

特定光线与曝光机发射的曝光光线具有不同的波长范围。

本发明实施例提供的上述曝光机机台，在光源发出的特定光线的作用下，使得光感涂层在绝缘状态和导电状态之间发生转变，有利于对待曝光基板的固定和分离；同时，通过静电发生器向光感涂层释放静电荷，实现了通过静电吸附的方式固定待曝光基板，且不会出现凸起的分区挡墙；此外，通过将金属台面接地，使得静电荷可以从光感涂层经过金属台面而导出，实现待曝光基板与光感涂层的分离，便于待曝光基板的移开；总之，该曝光机机台既保证了静电的产生和对待曝光基板的吸附，又实现了对已存静电荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因气体负压吸附的方式带来的stage mura，保护了待曝光基板不受破坏，有效提高了待曝光基板的曝光质量。

在具体实施时，因金属台面是由高导电性的金属制作而成，所以为了实现金属台面接地，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，金属台面通过至少一条导线接地；具体地，设置的导线可以为一条，也可以为多条，可以根据金属台面的大小而定；当金属台面较大时，可以通过设置多条导线接地，以便于静电荷快速导出至大地，如图3所示，金属台面通过两条导线05接地；当金属台面较小时，只设置一条导线接地即可，在此不作限定。

在具体实施时，在紫外曝光的过程中，需要在待曝光基板表面涂覆光刻胶，而涂覆的光刻胶只是对特定波长的紫外光敏感，对红外光则不敏感，即光刻胶在紫外光的照射下，部分区域会发生交联，再通过显影液的作用从而形成特定图案；而光刻胶在红外光的照射下，则表面较为迟钝，不会发生交联等反应，因此，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，在光源设置为红外光源时，光感涂层可以为红外半导体涂层；该红外半导体涂层可以在红外光源的照射下时呈现出导电状态，而不在红外光源的照射下时呈现出绝缘状态，以便于实现对待曝光基板的固定和分离。

具体地，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，红外半导体涂层可以为硫化铅、碲化铅或硒化铅之一或组合；当然，还可以是其他对红外光源敏感，且能够在红外光源的照射下性质能够发生变化的物质，在此不作限定。

进一步地，为了使位于金属台面之上的光感涂层能够均匀且充分的发生性质变化，光源所发出的特定光线需要能够照射到整个金属台面，因此，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，如图3所示，光源02位于金属台面的正上方，通过光源02发出的特定光线(如图3中所示的带有箭头的虚线)，使光感涂层04从绝缘状态转变为导体状态。

当然，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，光源与光感涂层是相匹配的，在光源为红外光源时，光感涂层为红外半导体涂层；若光源为其他光源时，光感涂层则为匹配的半导体涂层；因此，光源和光感涂层并不限于红外光范畴，还可以是其他特定波长的光，在此不作限定。

在具体实施时，在保持光源关闭时，首先将静电发生器靠近金属台面，并向金属台面喷洒负离子，以使金属台面表面的光感涂层具有负的静电荷，而待曝光基板通常为玻璃，且玻璃容易带正电，根据异性电荷相吸的原理，很容易将玻璃材质的待曝光基板通过静电荷吸附在光感涂层表面；而为了在吸附的过程中，使得待曝光基板平整地吸附在光感涂层表面，需要将二者之间的空气排出金属台面；因此，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，如图3和图4所示，还可以包括：贯穿金属台面和光感涂层04的多个规则排列的排气孔06；在图3中，虚线框内的黑色填充区域即为排气孔；在图4所示的俯视图中，因光感涂层整面覆盖在金属台面之上，使得在俯视图中金属台面是与光感涂层完全重叠的；并且，在排气孔06的内部也需要涂覆光感涂层，有利于待曝光基板的固定。

具体地，通过排气孔06可以充分且及时的将待曝光基板与光感涂层表面之间的空气排出，以便于将待曝光基板固定于金属台面之上；而当需要移开待曝光基板时，还可以通过排气孔向待曝光基板面向光感涂层的一侧鼓入空气，有助于将待曝光基板与光感涂层的迅速分离，方便移开待曝光基板。

具体地，为了均匀控制排出和鼓入的空气，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，各排气孔的孔径大小可以相等。

具体地，为了不影响金属台面的平整性，在本发明实施例提供的上述曝光机机台中，排气孔的孔径一般不大于0.5毫米。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种曝光系统，如图5所示，包括：如本发明实施例提供的上述曝光机机台501，以及曝光机502；其中，用于向金属台面发射特定光线的光源02可以设置于曝光机502内部(图5所示)；当然，还可以将光源02设置于曝光机502外部，在此不作限定。

具体地，本发明实施例提供的上述曝光系统，可以是紫外曝光系统，曝光机则为紫外曝光机；当然，还可以是其他曝光系统，在此不作限定。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种采用如本发明实施例提供的上述曝光系统进行曝光的方法，如图6所示，可以包括：

S601、利用静电发生器向金属台面上的光感涂层释放静电荷，静电荷与待曝光基板表面携带的静电荷电性相反；

S602、将待曝光基板放置于附着有静电荷的光感涂层之上，以使待曝光基板固定于台架上；

S603、在采用曝光机对待曝光基板曝光完成后，利用光源向金属台面发射特定光线，使光感涂层从绝缘状态变为导电状态；

S604、在静电荷从光感涂层经过金属台面导出后，将曝光后的基板脱离台架。

本发明实施例提供了一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法，包括：用于承载待曝光基板的具有金属台面的台架、用于向金属台面发射特定光线的光源、以及用于向金属台面释放静电荷的静电发生器；其中，金属台面的表面具有光感涂层；光感涂层在感应到特定光线后从绝缘状态变为导电状态；金属台面接地；特定光线与曝光机发射的曝光光线具有不同的波长范围。因此，在光源发出的特定光线的作用下，使得光感涂层在绝缘状态和导电状态之间发生转变，有利于对待曝光基板的固定和分离；同时，通过静电发生器向光感涂层释放静电荷，实现了通过静电吸附的方式固定待曝光基板，且不会出现凸起的分区挡墙；此外，通过将金属台面接地，使得静电荷可以从光感涂层经过金属台面而导出，实现待曝光基板与光感涂层的分离，便于待曝光基板的移开；总之，该曝光机机台既保证了静电的产生和对待曝光基板的吸附，又实现了对已存静电荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因气体负压吸附的方式带来的stage mura，保护了待曝光基板不受破坏，有效提高了待曝光基板的曝光质量。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种曝光机机台，其特征在于，包括：用于承载待曝光基板的具有金属台面的台架、用于向所述金属台面发射特定光线的光源、以及用于向所述金属台面释放静电荷的静电发生器；其中，

所述金属台面的表面具有光感涂层；所述光感涂层在感应到所述特定光线后从绝缘状态变为导电状态；

所述金属台面接地；

所述特定光线与所述曝光机发射的曝光光线具有不同的波长范围。

2.如权利要求1所述的曝光机机台，其特征在于，所述光源为红外光源；所述光感涂层为红外半导体涂层。

3.如权利要求2所述的曝光机机台，其特征在于，所述红外半导体涂层的材料为硫化铅、碲化铅或硒化铅之一或组合。

4.如权利要求1所述的曝光机机台，其特征在于，所述光源位于所述金属台面的正上方。

5.如权利要求1所述的曝光机机台，其特征在于，所述金属台面通过至少一条导线接地。

6.如权利要求1-5任一项所述的曝光机机台，其特征在于，还包括：贯穿所述金属台面和所述光感涂层的多个规则排列的排气孔。

7.如权利要求6所述的曝光机机台，其特征在于，各所述排气孔的孔径大小相等。

8.如权利要求7所述的曝光机机台，其特征在于，所述排气孔的孔径不大于0.5毫米。

9.一种曝光系统，其特征在于，包括：如权利要求1-8任一项所述的曝光机机台，以及曝光机。

10.一种采用如权利要求9所述的曝光系统进行曝光的方法，其特征在于，包括：

利用静电发生器向金属台面上的光感涂层释放静电荷，所述静电荷与待曝光基板表面携带的静电荷电性相反；

将所述待曝光基板放置于附着有所述静电荷的所述光感涂层之上，以使所述待曝光基板固定于台架上；

在采用曝光机对所述待曝光基板曝光完成后，利用光源向所述金属台面发射特定光线，使所述光感涂层从绝缘状态变为导电状态；

在所述静电荷从所述光感涂层经过所述金属台面导出后，将曝光后的基板脱离所述台架。