CN105974655A - 一种彩膜基板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种彩膜基板的制造方法，包括如下步骤：在玻璃基板上制作黑色矩阵；在所述玻璃基板及所述黑色矩阵上涂布光刻胶，形成光刻胶层；在曝光载台上放置透气隔垫；将所述玻璃基板放置于所述透气隔垫上，并将所述玻璃基板吸附在所述曝光载台上；在曝光载台上，对所述光刻胶层进行曝光显影，形成色阻。本发明在彩膜基板的曝光显影过程中，在曝光载台与玻璃基板之间放置透气隔垫，使得玻璃基板及其上的光刻胶层各处保持平整，避免了曝光显影完成后，在光刻胶层上形成条状波纹不良，从而提升彩膜基板的制造良率，提高液晶显示器的成像效果。

Description

一种彩膜基板的制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板的制作方法。
背景技术
在平板显示装置中，液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。
LCD的主要结构通常包括：通过封框胶固定对盒在一起的阵列基板和彩膜基板。在彩膜基板的制造过程中，需要将彩膜基板吸附在彩膜曝光机曝光载台上，对彩膜基板上的光刻胶层进行曝光。请参阅图1，现有技术中，彩膜曝光机的曝光载台10通常会设置一些凹槽20，以防止静电产生。随着彩膜基板30越做越薄，吸附在曝光载台上的彩膜基板由于凹槽的存在，彩膜基板30表面并不平整。在曝光完成后，彩膜基板30在凹槽20对应位置处会产生条状波纹(ChuckMura)，严重影响了液晶显示器的成像品质。
发明内容
本发明的目的在于提供一种彩膜基板的制造方法，可以避免曝光完成后条状波纹的产生，提高液晶显示器的成像效果。
为了实现上述目的，本发明实施方式提供如下技术方案：
本发明提供一种彩膜基板的制造方法，包括如下步骤：
在玻璃基板上制作黑色矩阵；
在所述玻璃基板及所述黑色矩阵上涂布光刻胶，形成光刻胶层；
在曝光载台上放置透气隔垫；
将所述玻璃基板放置于所述透气隔垫上，并将所述玻璃基板吸附在所述曝光载台上；
在曝光载台上，对所述光刻胶层进行曝光显影，形成色阻。
其中，所述玻璃基板在所述透气隔垫上的投影包含于所述透气隔垫。
其中，若曝光显影过程中产生破片，则更换所述透气隔垫。
其中，所述透气隔垫为尼龙材料。
其中，采用UV光源对所述光刻胶层进行曝光显影。
其中，在所述光刻胶层曝光显影完成后，对所述光刻胶层进行烘烤固化所述色阻。
其中，对所述光刻胶层进行曝光显影时，通过喷淋的方式向所述光刻胶层上喷淋显影液。
其中，所述光刻胶为红色光刻胶、蓝色光刻胶或绿色光刻胶。
其中，对所述光刻胶层进行曝光显影，形成色阻步骤中，包括提供一光罩遮盖在所述光刻胶层上方，以完成对所述光刻胶的曝光显影。
其中，所述光罩的形成过程包括：形成掩膜材料层并对所述掩膜材料层进行构图，以将待形成色阻的位置对应的掩膜材料去除，形成所述镂空部，其余部分保留形成所述不透光部。
本发明实施例具有如下优点或有益效果：
本发明在彩膜基板的曝光显影过程中，在曝光载台与玻璃基板之间放置透气隔垫，使得玻璃基板及其上的光刻胶层各处保持平整，避免了曝光显影完成后，在光刻胶层上形成条状波纹不良，从而提升彩膜基板的制造良率，提高液晶显示器的成像效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术彩膜基板曝光过程示意图。
图2是本发明彩膜基板曝光过程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
此外，以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本发明，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸地连接，或者一体地连接；可以是机械连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。若本说明书中出现“工序”的用语，其不仅是指独立的工序，在与其它工序无法明确区别时，只要能实现该工序所预期的作用则也包括在本用语中。另外，本说明书中用“～”表示的数值范围是指将“～”前后记载的数值分别作为最小值及最大值包括在内的范围。在附图中，结构相似或相同的用相同的标号表示。
请结合参阅图1和图2，本发明的彩膜基板的制造方法，主要包括如下步骤：
S001：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上制作黑色矩阵。
具体的，在玻璃基板60上涂布黑色矩阵材料；通过黑矩阵光罩对黑色矩阵材料进行曝光，以在玻璃基板60上形成黑色矩阵层31。
S003：在玻璃基板及黑色矩阵上涂布一层光刻胶，形成光刻胶层。
形成光刻胶的目的在于，可以通过后续步骤，形成色阻50。可以理解的是，所述光刻胶可以为红色光刻胶、蓝色光刻胶或绿色光刻胶。以便通过后续步骤相应形成红色阻51、绿色阻52或蓝色阻53。
S005：在曝光载台上放置透气隔垫。
可以理解的是，所述曝光载台10上包括多个凹槽20和多个真空吸附孔(图未示出)。所述凹槽20用于减小曝光载台10与玻璃基板60的接触面积，减小静电的产生。所述真空吸附孔用于吸附放置于曝光载台10上的玻璃基板60。
优选的，所述透气隔垫40可以为尼龙(Nylon)材料，俗称聚酰胺纤维，简称PA，具有力学性能、耐热性、耐磨性、耐化学性和自润滑性，且摩擦系数低。当然，还可以是其他透气性较好的材料制成。采用透气隔垫40使得真空吸附孔产生的吸附气流可以穿过所述透气隔垫40将玻璃基板60吸附于曝光载台10上。优选的，所述透气隔垫40的面积大于所述玻璃基板60的面积。
S007：将所述玻璃基板60放置于所述透气隔垫40上，并将所述玻璃基板60吸附在所述曝光载台10上。
优选的，所述玻璃基板60在所述透气隔垫40上的投影包含于所述透气隔垫40。这样设置的好处是可以将玻璃基板60与曝光载台10表面完全分离，并且使玻璃基板60表面光刻胶层各处保持平整，以免由于光刻胶层表面不平整，导致曝光后会有条状波纹产生，影响液晶显示器的显示效果。此外，这样设置还有一个好处在于，若在曝光过程中，玻璃基板60产生破片，破片可以留着透气隔垫40上方，避免破片划伤曝光载台10表面。而且，对于破片的清理可以直接将透气隔垫40连同其上的玻璃基板60一起清理掉。并更换一块透气隔垫40即可，整个清理过程更加方便快捷。
S009：在曝光载台上，对所述光刻胶层进行曝光显影，形成色阻。
具体的，所述光罩由掩膜材料制成，光罩的形成过程包括：形成掩膜材料层并对所述掩膜材料层进行构图工艺，以将待形成色阻的位置对应的掩膜材料去除，形成所述镂空部(即掩模图案)，其余部分保留形成所述不透光部。
优选的，本发明曝光的光源可以采用UV光源。具体的，可以通过高压汞灯发出所述UV光源。
本发明一个具体的实施例中，曝光机台可以采用NSK曝光机进行曝光处理。
在曝光完成后，还需要通过喷淋的方式向所述光刻胶层上喷淋显影液。以完成显影过程，形成色阻50。并在显影过程结束后，对光刻胶层进行烘烤，使得光刻胶层上色阻50固化。可以理解的是，所述色阻50与所述光罩上的镂空部一一对应。
曝光工艺的原理是：光刻胶(以负性光刻胶为例)中的光起始剂吸收光子的能量，并依据所吸收的光子的能量与单体结合，以及使多个单体结合在一起(光子的数量与结合在一起的单体的数量成正比)，形成聚合物而变性，从而在显影之后，使光刻胶形成与光罩图案相对应的图形。
请继续参阅图2，本发明一个具体的实施例中，在所述玻璃基板60上形成黑色矩阵层31后，可以在所述玻璃基板60及黑色矩阵上先涂布一层红色光刻胶，然后将玻璃基板60放置在所述透气隔垫40上，对红色光刻胶进行曝光、显影和烘烤，以形成红色阻51；然后，再在玻璃基板60、红色阻51及黑色矩阵层31上涂布绿色光刻胶，将玻璃基板60放置在所述透气隔垫40上，对绿色光刻胶进行曝光、显影和烘烤，以形成绿色阻52；最后，在玻璃基板60、绿色阻52及黑色矩阵层31上涂布蓝色光刻胶，将玻璃基板60放置在所述透气隔垫40上，对蓝色光刻胶进行曝光、显影和烘烤，以形成蓝色阻53。
可以理解的是，本发明并不对红色光刻胶、绿色光刻胶、蓝色光刻胶的涂布顺序做限定，涂布一种颜色的光刻胶后，就对这种颜色光刻胶进行曝光、显影和烘烤，以形成相应的色阻，再在色阻的表面涂布另一中颜色的光刻胶，并对其进行曝光、显影和烘烤。
本发明在彩膜基板的曝光过程中，在曝光载台与玻璃基板之间放置透气隔垫，使得玻璃基板及其上的光刻胶层各处保持平整，避免了曝光完成后，在光刻胶层上形成条状波纹不良，从而提升彩膜基板的制造良率，提高液晶显示器的成像效果。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述的实施方式，并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在该技术方案的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
在玻璃基板上制作黑色矩阵；
在所述玻璃基板及所述黑色矩阵上涂布光刻胶，形成光刻胶层；
在曝光载台上放置透气隔垫；
将所述玻璃基板放置于所述透气隔垫上，并将所述玻璃基板吸附在所述曝光载台上；
在曝光载台上，对所述光刻胶层进行曝光显影，形成色阻。
2.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板在所述透气隔垫上的投影包含于所述透气隔垫。
3.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，若曝光显影过程中产生破片，则更换所述透气隔垫。
4.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述透气隔垫为尼龙材料。
5.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，采用UV光源对所述光刻胶层进行曝光显影。
6.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，在所述光刻胶层曝光显影完成后，对所述光刻胶层进行烘烤固化所述色阻。
7.如权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，对所述光刻胶层进行曝光显影时，通过喷淋的方式向所述光刻胶层上喷淋显影液。
8.如权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述光刻胶为红色光刻胶、蓝色光刻胶或绿色光刻胶。
9.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，对所述光刻胶层进行曝光显影，形成色阻步骤中，包括提供一光罩遮盖在所述光刻胶层上方，以完成对所述光刻胶的曝光显影。
10.如权利要求9所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述光罩的形成过程包括：形成掩膜材料层并对所述掩膜材料层进行构图，以将待形成色阻的位置对应的掩膜材料去除，形成所述镂空部，其余部分保留形成所述不透光部。
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