CN106226926A - 一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法 - Google Patents

一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106226926A
CN106226926A CN201610645245.9A CN201610645245A CN106226926A CN 106226926 A CN106226926 A CN 106226926A CN 201610645245 A CN201610645245 A CN 201610645245A CN 106226926 A CN106226926 A CN 106226926A
Authority
CN
China
Prior art keywords
spin coating
pattern
nurse
phenomenon
product
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610645245.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106226926B (zh
Inventor
谢庆丰
石孟阳
庄奎乾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KELEAD PHOTOELECTRIC MATERIALS CO Ltd SHENZHEN
Original Assignee
KELEAD PHOTOELECTRIC MATERIALS CO Ltd SHENZHEN
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KELEAD PHOTOELECTRIC MATERIALS CO Ltd SHENZHEN filed Critical KELEAD PHOTOELECTRIC MATERIALS CO Ltd SHENZHEN
Priority to CN201610645245.9A priority Critical patent/CN106226926B/zh
Publication of CN106226926A publication Critical patent/CN106226926A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106226926B publication Critical patent/CN106226926B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306—Details
    • G02F1/1309—Repairing; Testing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

一种改善姆拉现象的方法，包括：S1、制备匀胶版，且所选择的匀胶版面积应大于产品图案的面积；S2、将图案和匀胶版平放，图案位于匀胶版上方，且图案边界位于匀胶版边界内；S3、旋转并调整图案角度，使图案相互垂直的两边分别与匀胶版的X轴和Y轴之间具有一定的交错角；S4、将产品放于曝光平台上，经过多次曝光；S5、显影，先配置碱性显影液，然后将碱性显影液注入到显影机中，放入待显影的mask，按照规定的时间取出；S6、蚀刻；S7、测量，通过显微镜测量；S8、检验，通过自动光学检查机和光学投影机对姆拉现象进行检验；S9、修补，通过激光修补机对产品进行修补。本申请通过旋转并调整图案的角度，可以干扰到姆拉现象的产生，利于消除姆拉现象。

Description

一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法
技术领域
本申请涉及光刻技术领域，尤其涉及一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法。
背景技术
信息化社会越来越需要轻薄便携式的显示设备，目前比较成熟的产品是液晶显示器。为了满足大面积显示的需求，TFT液晶显示器面板的尺寸越来越大，且图形经过曝光后，会存在一些差异，这些差异有可能会导致液晶显示屏制作完成后显示画面上的差异，进而产生姆拉现象。
同时，在光罩制作过程中，遇到条纹状的图案极易出现姆拉现象，而姆拉是一种光罩线宽极小区域的不均匀现象，起伏在纳米级，无法通过仪器检查，只能通过人眼进行分辨。现在虽然有多种方式来消除或减轻mura现象，但技术的实现难度较大。
在申请号为：201310496423.2的专利中，虽然也提及了减弱姆拉现象的办法，但是其主要是通过投射区与阵列基板上的图形区域对应，部分投射区域与所述阵列基板上的拼接区域相对应，所述部分投射区域的宽度大于所述拼接区域的宽度，从而减轻设置消除曝光线宽问题引起的姆拉现象。
发明内容
鉴于此，有必要提供一种实施过程简单，效果明显的液晶显示器及改善姆拉现象的方法。
为解决上述技术问题，本申请提供了一种改善姆拉现象的方法，包括以下步骤：
S1、制备匀胶版，且所选择的匀胶版面积应大于产品图案的面积；
S2、将图案和所述匀胶版平放，所述图案位于所述匀胶版上方，且图案边界位于所述匀胶版边界内；
S3、旋转并调整图案角度，使图案相互垂直的两边分别与匀胶版的X轴和Y轴之间具有一定的交错角；
S4、将产品放于曝光平台上，经过多次曝光；
S5、显影，先配置碱性显影液，然后将所述碱性显影液注入到显影机中，放入待显影的mask，按照规定的时间取出；
S6、蚀刻；
S7、测量，通过显微镜测量；
S8、检验，通过自动光学检查机和光学投影机对姆拉现象进行检验；以及
S9、修补，通过激光修补机对产品进行修补。
具体地，在步骤S1中，包括如下步骤：
S11、抛光，提供所要生产的匀胶版提供相应尺寸的玻璃基板并进行抛光处理；
S12、清洗，清洗时在清洗机的水箱内增加支撑架支撑抛光后的玻璃基板，并将风刀设置于第二段对玻璃基板进行吹干；
S13、镀膜，在清洗后的玻璃基板上先镀一层氮化金属膜，然后再镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜；
S14、涂胶，在玻璃基板上涂一层光刻胶；以及
S15、坚膜，玻璃基板在涂胶后先水平静置，再竖立烘焙坚膜。
具体地，在步骤S3中，所述图案相互垂直的两边分别与匀胶版的X轴和Y轴之间的交错角在0.8°～0.9°。
具体地，在步骤S4中，产品经过两次曝光，且在第一次曝光后产品产生位移，使两次曝光存在误差，需要将产品再次对准。
具体地，在步骤S7中，所述显微镜为Olympus显微镜。
具体地，在步骤S9中，修补主要分为两类，一是白区有多余的金属膜，通过激光烧灼去除；二是黑区有针孔，通过树脂填上，然后加热固化。
另外，一种液晶显示器，包括用上述的改善姆拉现象的方法制成的液晶显示屏。
本申请通过旋转并调整图案的角度，可以干扰到姆拉现象的产生，即在曝光之前，由于角度的调整，曝光的方向会随着角度的变化，产生一定的变化，这样可以打乱和控制设备的曝光方向，利于消除姆拉现象。
同时，本申请所使用的匀胶版通过对工艺环节的改进，大幅度缩减了生产成本。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：
图1为本申请旋转角度前的平面图；
图2为本申请旋转角度后的平面图；
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请具体实施例及相应的附图对本申请技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
请参阅图1-2所示，本申请的一种改善姆拉现象的方法，包括以下步骤：
步骤1：制备匀胶版1，且所选择的匀胶版1面积应大于产品图案2的面积。
在本具体实施例的步骤1中，利用现有常规尺寸的匀胶版1生产设备，最大程度上缩减生产成本。匀胶版1的生产工艺包括以下步骤：抛光、清晰、镀膜、涂胶以及坚膜。其中，抛光，提供所要生产的匀胶版1提供相应尺寸的玻璃基板并进行抛光处理，具体地，需要经过两次抛光，第一次粗抛按正反两面抛光30分钟，第二次精抛时间为正面小于1分钟，反面1-3分钟；在抛光完成就，需要对玻璃基板进行清洗，去除玻璃基板表面的碎屑、灰尘以及残留的抛光粉等。清洗时在清洗机的水箱内增加支撑架支撑抛光后的玻璃基板，并将风刀设置于第二段对玻璃基板进行吹干；镀膜，在清洗后的玻璃基板上先镀一层氮化金属膜，然后再镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜；涂胶，在玻璃基板上涂一层光刻胶；以及坚膜，玻璃基板在涂胶后先水平静置，再竖立烘焙坚膜。
步骤2：将图案2和匀胶版1平放，使图案2位于匀胶版1上方并贴附于匀胶版1上表面，且图案2边界位于匀胶版1边界内，如此一来，匀胶版1的面积大于产品图案2，产品图案2即使在旋转时，也不会超出匀胶版1的边界。
步骤3：旋转并调整图案2角度，使图案2相互垂直的两边分别与匀胶版1的X轴和Y轴之间具有一定的交错角，交错角在0.8°～0.9°之间，角度的选择是为了配合曝光设备内部的算法。在本具体实施例中，优选角度为0.895°。通过旋转并调整图案的角度，可以干扰到姆拉现象的产生，即在曝光之前，由于角度的调整，曝光的方向会随着角度的变化，产生一定的变化，这样可以打乱和控制设备的曝光方向，利于消除姆拉现象。
步骤4：将产品放于曝光平台上，经过多次曝光。在本具体实施例中，产品经过两次曝光，且在第一次曝光后产品产生位移，使两次曝光存在误差，需要将产品再次对准。同时，曝光平台为厚大理石，大理石刚性好，硬度高，耐磨性强，温度变形小，不易粘微尘，使用寿命长，不会出现划痕，测量时能平滑移动，平面称定好。
步骤5：显影，先配置碱性显影液，然后将所述碱性显影液注入到显影机中，放入待显影的mask，按照规定的时间取出；
步骤6：蚀刻；
步骤7：测量，通过Olympus显微镜测量；
步骤8：检验，通过自动光学检查机和光学投影机对姆拉现象进行检验；以及
步骤9：修补，通过激光修补机对产品进行修补。修补主要分为两类，一是白区有多余的金属膜，通过激光烧灼去除；二是黑区有针孔，通过树脂填上，然后加热固化。
步骤10：切割，由于最初选择的匀胶版的尺寸大于产品图案，因此，产品制作出来以后，将超出产品图案的部分切掉，使其具有一定的美观性。
另外，本发明还提供了一种液晶显示器，包括薄膜基板、彩色滤光片基板及液晶层，将其按照上述改善姆拉现象的方法制作，包括如下步骤：
S1、制备匀胶版1，且所选择的匀胶版1面积应大于薄膜基板的面积；
S2、将薄膜基板和匀胶版1平放，薄膜基板位于匀胶版上方，且薄膜晶体管基板边界位于匀胶版1边界内；
S3、旋转并调整图案角度，使薄膜基板相互垂直的两边分别与匀胶版1的X轴和Y轴之间具有一定的交错角；
S4、将薄膜基板放于曝光平台上，经过多次曝光；
S5、显影，先配置碱性显影液，然后将所述碱性显影液注入到显影机中，放入待显影的mask，按照规定的时间取出；
S6、蚀刻；
S7、测量，通过显微镜测量薄膜基板；
S8、检验，通过自动光学检查机和光学投影机对姆拉现象进行检验；以及
S9、修补，通过激光修补机对产品进行修补。
S10：切割，由于最初选择的匀胶版的尺寸大于薄膜基板，因此，薄膜基板制作出来以后，将超出薄膜基板的部分切掉，使其具有一定的美观性。
以上所述仅为本申请的实施例而已，并不用于限制本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的权利要求范围之内。

Claims (7)

1.一种改善姆拉现象的方法，包括以下步骤：
S1、制备匀胶版，且所选择的匀胶版面积应大于产品图案的面积；
S2、将图案和所述匀胶版平放，所述图案位于所述匀胶版上方，且图案边界位于所述匀胶版边界内；
S3、旋转并调整图案角度，使图案相互垂直的两边分别与匀胶版的X轴和Y轴之间具有一定的交错角；
S4、将产品放于曝光平台上，经过多次曝光；
S5、显影，先配置碱性显影液，然后将所述碱性显影液注入到显影机中，放入待显影的mask，按照规定的时间取出；
S6、蚀刻；
S7、测量，通过显微镜测量；
S8、检验，通过自动光学检查机和光学投影机对姆拉现象进行检验；以及S9、修补，通过激光修补机对产品进行修补。
2.如权利要求1所述的改善姆拉现象的方法，在步骤S1中，包括如下步骤：
S11、抛光，提供所要生产的匀胶版提供相应尺寸的玻璃基板并进行抛光处理；
S12、清洗，清洗时在清洗机的水箱内增加支撑架支撑抛光后的玻璃基板，并将风刀设置于第二段对玻璃基板进行吹干；
S13、镀膜，在清洗后的玻璃基板上先镀一层氮化金属膜，然后再镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜；
S14、涂胶，在玻璃基板上涂一层光刻胶；以及
S15、坚膜，玻璃基板在涂胶后先水平静置，再竖立烘焙坚膜。
3.如权利要求1所述的改善姆拉现象的方法，在步骤S3中，所述图案相互垂直的两边分别与匀胶版的X轴和Y轴之间的交错角在0.8°～0.9°。
4.如权利要求1所述的改善姆拉现象的方法，在步骤S4中，产品经过两次曝光，且在第一次曝光后产品产生位移，使两次曝光存在误差，需要将产品再次对准。
5.如权利要求1所述的改善姆拉现象的方法，在步骤S7中，所述显微镜为Olympus显微镜。
6.如权利要求1所述的改善姆拉现象的方法，在步骤S9中，修补主要分为两类，一是白区有多余的金属膜，通过激光烧灼去除；二是黑区有针孔，通过树脂填上，然后加热固化。
7.一种液晶显示器，包括如权利要求1-6任一项所述的改善姆拉现象的方法。
CN201610645245.9A 2016-08-08 2016-08-08 一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法 Active CN106226926B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610645245.9A CN106226926B (zh) 2016-08-08 2016-08-08 一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610645245.9A CN106226926B (zh) 2016-08-08 2016-08-08 一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106226926A true CN106226926A (zh) 2016-12-14
CN106226926B CN106226926B (zh) 2019-08-23

Family

ID=57547795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610645245.9A Active CN106226926B (zh) 2016-08-08 2016-08-08 一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106226926B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107219720A (zh) * 2017-05-27 2017-09-29 厦门天马微电子有限公司 一种掩膜板、曝光装置以及膜层图案化的制作方法
CN108279524A (zh) * 2018-03-28 2018-07-13 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置和掩模

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1188248A (zh) * 1996-10-23 1998-07-22 夏普公司 反射板,反射式液晶显示装置及其制造方法
CN1497316A (zh) * 2002-10-11 2004-05-19 ������������ʽ���� 电光装置的制造方法、电光装置和电子设备
CN1573556A (zh) * 2003-04-04 2005-02-02 Asml荷兰有限公司 Z偏移和不垂直照射产生的掩膜物体的y移位中的位置校正
CN101311824A (zh) * 2007-05-22 2008-11-26 联华电子股份有限公司 光掩模图案的校正方法
CN101452214A (zh) * 2007-12-07 2009-06-10 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 曝光方法、光刻方法及通孔的制作方法
CN101893823A (zh) * 2009-05-21 2010-11-24 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 避免光刻胶层图形损伤的方法
CN102169285A (zh) * 2011-04-21 2011-08-31 深圳市科利德光电材料股份有限公司 铬版多余铬点的修补方法
CN103823330A (zh) * 2014-02-14 2014-05-28 深圳市科利德光电材料股份有限公司 匀胶版制造工艺
CN104281014A (zh) * 2014-10-24 2015-01-14 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、曝光设备及紫外掩模基板的制备方法
CN104536258A (zh) * 2014-12-23 2015-04-22 厦门天马微电子有限公司 一种掩膜板、曝光装置、制作光敏树脂图案的方法及基板
CN104570626A (zh) * 2013-10-28 2015-04-29 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种改善光掩膜关键尺寸均匀性和针孔缺陷率的方法
CN105093813A (zh) * 2015-09-11 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 光掩模板和曝光系统

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1188248A (zh) * 1996-10-23 1998-07-22 夏普公司 反射板,反射式液晶显示装置及其制造方法
CN1497316A (zh) * 2002-10-11 2004-05-19 ������������ʽ���� 电光装置的制造方法、电光装置和电子设备
CN1573556A (zh) * 2003-04-04 2005-02-02 Asml荷兰有限公司 Z偏移和不垂直照射产生的掩膜物体的y移位中的位置校正
CN101311824A (zh) * 2007-05-22 2008-11-26 联华电子股份有限公司 光掩模图案的校正方法
CN101452214A (zh) * 2007-12-07 2009-06-10 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 曝光方法、光刻方法及通孔的制作方法
CN101893823A (zh) * 2009-05-21 2010-11-24 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 避免光刻胶层图形损伤的方法
CN102169285A (zh) * 2011-04-21 2011-08-31 深圳市科利德光电材料股份有限公司 铬版多余铬点的修补方法
CN104570626A (zh) * 2013-10-28 2015-04-29 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种改善光掩膜关键尺寸均匀性和针孔缺陷率的方法
CN103823330A (zh) * 2014-02-14 2014-05-28 深圳市科利德光电材料股份有限公司 匀胶版制造工艺
CN104281014A (zh) * 2014-10-24 2015-01-14 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、曝光设备及紫外掩模基板的制备方法
CN104536258A (zh) * 2014-12-23 2015-04-22 厦门天马微电子有限公司 一种掩膜板、曝光装置、制作光敏树脂图案的方法及基板
CN105093813A (zh) * 2015-09-11 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 光掩模板和曝光系统

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107219720A (zh) * 2017-05-27 2017-09-29 厦门天马微电子有限公司 一种掩膜板、曝光装置以及膜层图案化的制作方法
CN108279524A (zh) * 2018-03-28 2018-07-13 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置和掩模
CN108279524B (zh) * 2018-03-28 2021-02-02 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置和掩模
US10921635B2 (en) 2018-03-28 2021-02-16 Ordos Yuansheng Optoelectronics Co., Ltd. Display substrate, manufacturing method thereof, display device and mask

Also Published As

Publication number Publication date
CN106226926B (zh) 2019-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104656306B (zh) 设置有黑矩阵的基板及其制造方法、显示装置
WO2017139999A1 (zh) 垂直光配向方法及液晶显示面板的制作方法
US11275275B2 (en) Photoalignment method and photoalignment device
CN102854756B (zh) 曝光方法及曝光装置
CN105700224A (zh) 显示面板及其制作方法、以及显示装置
US9459524B2 (en) Mask plate and method of patterning using the mask plate
CN106226926A (zh) 一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法
CN106019721A (zh) 光配向膜制作过程中偏光板的调节方法及装置
EP3355116B1 (en) Exposure method
US9568843B2 (en) Exposure method and exposure device
KR102179033B1 (ko) 광 배향용 광마스크 및 광 배향 방법
US9122162B2 (en) Exposure apparatus, method of forming patterned layer, method of forming patterned photoresist layer, active device array substrate and patterned layer
CN105549338A (zh) 曝光量测装置及其量测平台
WO2017049705A1 (zh) 光配向装置及其空间分光棱镜片
CN106154633A (zh) 显示面板、显示装置及显示面板的制造方法
CN103309172A (zh) 曝光设备和曝光方法
JP2010286817A (ja) 液晶パネルおよび液晶パネルの欠陥修正方法
CN105856815A (zh) 印刷网版、导光板、显示设备及导光板的制作方法
TWI221539B (en) Method for forming bumps utilized for manufacturing LCD
CN105739184A (zh) 配向装置、配向系统及配向方法
CN112904622B (zh) 一种液晶显示三畴配向层的光配向方法
TW201932977A (zh) 圖案描繪方法、光罩之製造方法及顯示裝置用元件之製造方法
CN108169997A (zh) 光学补偿膜、掩膜版以及曝光机
JP5617256B2 (ja) 液晶表示素子の製造方法及び露光装置
KR20080068170A (ko) 노광용 기준 마크를 형성하는 장치와 방법, 및 표시패널용 기판의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant