CN108220904A - 接触板及蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种接触板及蒸镀设备，属于显示技术领域。其中，接触板，应用于蒸镀设备中，用于对待蒸镀基板进行支撑，所述接触板包括底板和设置在所述底板上的多个高度相同的支撑部。本发明的技术方案能够保证在蒸镀源加热过程中待蒸镀基板良好散热的前提下实现对白点显示不良的改善。

Description

接触板及蒸镀设备

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种接触板及蒸镀设备。

背景技术

现有的蒸镀机主要包括蒸镀源、精细金属掩膜板、磁板和接触板。其中，在对待蒸镀基板进行蒸镀时，接触板位于磁板和待蒸镀基板之间，与待蒸镀基板相接触，主要作用是散热和保证待蒸镀基板的接触平整度；精细金属掩膜板位于待蒸镀基板背向接触板的一侧，主要作用是提供沉积有机材料和金属材料的掩膜；蒸镀源位于精细金属掩膜板背向待蒸镀基板的一侧，主要作用是蒸发有机材料和金属材料；磁板的主要作用是吸附待蒸镀基板下方的精细金属掩膜板。

在接触板上开设有多个用于散热的小孔，当蒸镀机处于工作状态时，接触板与待蒸镀基板水平贴合，由于热量主要是经由小孔处散逸，因此小孔位置处待蒸镀基板的温度比其它区域的温度高。在进行金属电极蒸镀时，金属原子在扩散沉积过程中会向温度较高的区域汇聚，因此造成小孔位置处待蒸镀基板沉积的金属材料密度较其它位置大，使得该位置处金属电极的电阻偏低，在基板处于通电工作状态下时，该位置处电流较大，因此亮度更高，在视觉上会形成白点显示不良。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种接触板及蒸镀设备，能够保证在蒸镀源加热过程中待蒸镀基板良好散热的前提下实现对白点显示不良的改善。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种接触板，应用于蒸镀设备中，用于对待蒸镀基板进行支撑，所述接触板包括底板和设置在所述底板上的多个高度相同的支撑部。

进一步地，所述多个支撑部阵列排布。

进一步地，所述支撑部的高度为2-3mm。

进一步地，所述支撑部为针状凸起、半球状凸起、柱状凸起、或梯形状凸起。

进一步地，所述支撑部与所述底板为一体结构；或

所述支撑部通过胶粘附在所述底板上。

进一步地，在行方向上，相邻支撑部之间的间距大于所述待蒸镀基板的像素区域的宽度。

进一步地，相邻支撑部之间的间距为所述待蒸镀基板的像素区域的宽度的3-5倍。

进一步地，还包括：

支撑所述底板的支撑基板。

进一步地，所述底板通过胶粘附在所述支撑基板上；或

所述底板焊接在所述支撑基板上。

本发明实施例还提供了一种蒸镀设备，包括如上所述的接触板。

本发明的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，接触板包括底板和设置在底板上的多个高度相同的支撑部，在对待蒸镀基板进行蒸镀时，接触板的支撑部对待蒸镀基板进行支撑，接触板的底板与待蒸镀基板保持一定距离，待蒸镀基板未与支撑部接触的区域均可进行散热，这样在蒸镀源加热过程中，能够保证待蒸镀基板的快速散热，并且由于待蒸镀基板的热量并不是经由小部分区域散逸，而是在大面积区域进行散逸，因此，能够提高待蒸镀基板表面温度的均一性，有利于避免蒸镀材料的区域性沉积不均匀问题，从而改善显示产品的白点显示不良，并且能够增加蒸镀材料的寿命进而增加显示产品的寿命。同时根据制备的显示产品尺寸的不同，可以灵活调整支撑部的间距，使得本发明的接触板能够适用于不同尺寸的显示产品，对不同尺寸的显示产品均有改善效果。

附图说明

图1为现有蒸镀机的结构示意图；

图2为本发明实施例蒸镀设备的结构示意图；

图3和图4为本发明实施例接触板的结构示意图；

图5为本发明实施例接触板支撑待蒸镀基板时的平面示意图。

附图标记

1 磁板

2 现有技术中的接触板

3 待蒸镀基板

4 精细金属掩膜板

5 蒸镀源

6 本发明的接触板

7 支撑部

8 底板

9 支撑基板

10 小孔

具体实施方式

为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

如图1所示，现有的蒸镀机主要包括蒸镀源5、精细金属掩膜板4、磁板1和接触板2。其中，在对待蒸镀基板3进行蒸镀时，接触板2位于磁板1和待蒸镀基板3之间，与待蒸镀基板3相接触，主要作用是散热和保证待蒸镀基板3的接触平整度；精细金属掩膜板4位于待蒸镀基板3背向接触板2的一侧，主要作用是提供沉积有机材料和金属材料的掩膜；蒸镀源5位于精细金属掩膜板4背向待蒸镀基板3的一侧，主要作用是蒸发有机材料和金属材料；磁板1的主要作用是吸附待蒸镀基板3下方的精细金属掩膜板4。

由图1可以看出，在接触板2上开设有多个用于散热的小孔10，当蒸镀机处于工作状态时，接触板2与待蒸镀基板3水平贴合，待蒸镀基板3的热量主要是经由小孔10处散逸，因此小孔10位置处待蒸镀基板3的温度比其它区域的温度高。在进行金属电极蒸镀，即蒸镀源5中的蒸镀材料为金属材料时，金属原子在扩散沉积过程中会向温度较高的区域汇聚，因此造成小孔10位置处待蒸镀基板3沉积的金属材料密度较其它位置大，使得该位置处金属电极的电阻偏低，在基板处于通电工作状态下时，该位置处电流较大，因此亮度更高，在视觉上会形成白点显示不良。

为了解决上述问题，本发明实施例提供一种接触板及蒸镀设备，能够保证在蒸镀源5加热过程中待蒸镀基板3良好散热的前提下实现对白点显示不良的改善。

本发明实施例提供一种接触板6，应用于蒸镀设备中，用于对待蒸镀基板3进行支撑，如图2-图4所示，所述接触板6包括底板8和设置在所述底板8上的多个高度相同的支撑部7。

本实施例中，接触板6包括底板8和设置在底板8上的多个高度相同的支撑部7，在对待蒸镀基板3进行蒸镀时，接触板6的支撑部7对待蒸镀基板3进行支撑，接触板6的底板8与待蒸镀基板3保持一定距离，待蒸镀基板3未与支撑部7接触的区域均可进行散热，这样在蒸镀源5加热过程中，能够保证待蒸镀基板3的快速散热，并且由于待蒸镀基板3的热量并不是经由小部分区域散逸，而是在大面积区域进行散逸，因此，能够提高待蒸镀基板3表面温度的均一性，有利于避免蒸镀材料的区域性沉积不均匀问题，从而改善显示产品的白点显示不良，并且能够增加蒸镀材料的寿命进而增加显示产品的寿命。同时根据制备的显示产品尺寸的不同，可以灵活调整支撑部7的间距，使得本发明的接触板6能够适用于不同尺寸的显示产品，对不同尺寸的显示产品均有改善效果。

图2为本发明实施例蒸镀设备的结构示意图，如图2所示，在对待蒸镀基板3进行蒸镀时，接触板6上的支撑部7与待蒸镀基板3接触，对待蒸镀基板3进行支撑，可以看出，接触板6的大部分区域未与待蒸镀基板3接触，这样在蒸镀源5加热过程中，待蒸镀基板3未与支撑部7接触的区域均可进行散热，能够大大增加待蒸镀基板3的散热面积，保证待蒸镀基板3的快速散热，并且由于待蒸镀基板3的热量并不是经由小部分区域散逸，而是在大面积区域进行散逸，因此，待蒸镀基板3表面的温度均一，这样在蒸发源进行蒸发时，蒸镀材料能够均匀地沉积在待蒸镀基板3上，从而改善显示产品的白点显示不良。

接触板6位于磁板1和待蒸镀基板3之间，与待蒸镀基板3相接触，主要作用是散热和保证待蒸镀基板3的接触平整度；精细金属掩膜板4位于待蒸镀基板3背向接触板6的一侧，主要作用是提供沉积有机材料和金属材料的掩膜；蒸镀源5位于精细金属掩膜板4背向待蒸镀基板3的一侧，主要作用是蒸发有机材料和金属材料；磁板1的主要作用是吸附待蒸镀基板3下方的精细金属掩膜板4。

进一步地，为了保证支撑部7对待蒸镀基板3的各个区域提供均匀的支撑力，所述多个支撑部7阵列排布，均匀地分布在接触板6的底板8上。

如图3和图4所示，支撑部7位于底板8上，相邻支撑部7之间的间距为a，支撑部7的高度为b，为了保证待蒸镀基板3的水平高度一致，需要保证每一个支撑部7的高度b一致。如果支撑部7的高度b过大会造成工艺制程更复杂从而增加接触板6的成本，同时也会影响磁板1对于精细金属掩膜板4的吸附效果；如果支撑部7的高度b过小又会影响待蒸镀基板3的散热效果，因此，将支撑部7的高度b设置为2-3mm为宜，在支撑部7的高度b为2-3mm时，既能保证待蒸镀基板3的散热效果，又不会影响磁板1对于精细金属掩膜板4的吸附效果。

具体地，所述支撑部7可以为针状凸起，当然支撑部7并不局限为针状凸起，还可以为半球状凸起、柱状凸起、梯形状凸起等其他形状的凸起，只要支撑部7能够有效支撑待蒸镀基板3即可。

其中，支撑部7与底板8可以为一体结构，这样支撑部7与底板8可以通过电化学沉积等方法一次成型；支撑部7与底板8也可以为分体结构，这样在分别制作完支撑部7和底板8之后，可以通过胶将支撑部7粘附在底板8上，当然在支撑部7和底板8采用金属制作时，还可以通过焊接的方法将支撑部7固定在底板8上。

进一步地，为了保证接触板6的强度，如图4所示，接触板6还包括：

支撑所述底板8的支撑基板9。

其中，支撑基板9优选采用耐高温材料制成，比如支撑基板9可以采用硬质的石英基板或玻璃基板；支撑基板9还可以采用金属基板，当支撑基板9采用金属基板制成时，为了保证支撑基板9的强度，金属基板的厚度应比较厚，以保证金属基板在水平放置时不会发生形变。

具体地，底板8可以通过胶粘附在所述支撑基板9上；当然在底板8和支撑基板9均采用金属制作时，还可以通过焊接的方法将底板8焊接在所述支撑基板9上。

其中，支撑部7之间的距离a不宜太小，因为支撑部7之间的距离a太小会增加接触板6的制作成本，同时影响待蒸镀基板3的散热效果；支撑部7之间的距离a也不宜太大，如果支撑部7之间的距离a太大，支撑部7将不能有效地对待蒸镀基板3进行支撑，在进行蒸镀时，会造成待蒸镀基板3朝向磁板1方向凸起。

具体地，可以根据待蒸镀基板3上的像素区域的大小调整支撑部7之间的距离a，如图5所示，在行方向上，要保证支撑部7之间的距离a大于待蒸镀基板3上的像素区域的大小，这样在对待蒸镀基板3进行蒸镀时，可以保证支撑部7与待蒸镀基板3接触的位置位于像素区域之间的间隙处，支撑部7与待蒸镀基板3接触位置处蒸镀材料的沉积不会影响待蒸镀基板3的显示，避免由于支撑部7与待蒸镀基板3接触位置处温度不均以及沉积不均匀所导致的显示异常。

具体地，相邻支撑部7之间的间距可以为所述待蒸镀基板3的像素区域的宽度的3-5倍。在实际应用中，可以根据待蒸镀基板3的尺寸以及待蒸镀基板3的像素区域的大小调整a的大小，保证接触板6上的支撑部7既能有效地对待蒸镀基板3进行支撑，又不会影响待蒸镀基板3上材料的沉积。

由于本发明的技术方案能够灵活调整支撑部7之间的距离a以及支撑部7的高度b，因此，可以使得本发明的接触板6适用于不同尺寸的显示产品的蒸镀，对于不同尺寸的显示产品都具有实用性。

本发明实施例还提供了一种蒸镀设备，包括如上所述的接触板6。

图2为本发明实施例蒸镀设备的结构示意图，如图2所示，蒸镀设备包括蒸镀源5、精细金属掩膜板4、磁板1和接触板6。其中，在对待蒸镀基板3进行蒸镀时，接触板6位于磁板1和待蒸镀基板3之间，与待蒸镀基板3相接触，接触板6的支撑部7对待蒸镀基板3进行支撑；精细金属掩膜板4位于待蒸镀基板3背向接触板6的一侧，主要作用是提供沉积有机材料和金属材料的掩膜；蒸镀源5位于精细金属掩膜板4背向待蒸镀基板3的一侧，主要作用是蒸发有机材料和金属材料；磁板1的主要作用是吸附待蒸镀基板3下方的精细金属掩膜板4。

由于本实施例接触板6的支撑部7是设置在底板8上的凸起，因此，在进行蒸镀时，接触板6的大部分区域未与待蒸镀基板3接触，这样在蒸镀源5加热过程中，待蒸镀基板3未与支撑部7接触的区域均可进行散热，能够大大增加待蒸镀基板3的散热面积，保证待蒸镀基板3的快速散热，并且由于待蒸镀基板3的热量并不是经由小部分区域散逸，而是在大面积区域进行散逸，因此，待蒸镀基板3表面的温度均一，这样在蒸发源进行蒸发时，蒸镀材料能够均匀地沉积在待蒸镀基板3上，从而改善显示产品的白点显示不良，并且能够增加蒸镀材料的寿命进而增加显示产品的寿命。

同时本实施例可以根据制备的显示产品尺寸的不同，灵活调整支撑部7的间距，使得本发明的接触板6能够适用于不同尺寸的显示产品，对不同尺寸的显示产品均能够进行蒸镀，且能够改善显示产品的显示效果。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种接触板，应用于蒸镀设备中，用于对待蒸镀基板进行支撑，其特征在于，所述接触板包括底板和设置在所述底板上的多个高度相同的支撑部。

2.根据权利要求1所述的接触板，其特征在于，所述多个支撑部阵列排布。

3.根据权利要求1所述的接触板，其特征在于，所述支撑部的高度为2-3mm。

4.根据权利要求1所述的接触板，其特征在于，所述支撑部为针状凸起、半球状凸起、柱状凸起、或梯形状凸起。

5.根据权利要求1所述的接触板，其特征在于，

所述支撑部与所述底板为一体结构；或

所述支撑部通过胶粘附在所述底板上。

6.根据权利要求1所述的接触板，其特征在于，在行方向上，相邻支撑部之间的间距大于所述待蒸镀基板的像素区域的宽度。

7.根据权利要求6所述的接触板，其特征在于，相邻支撑部之间的间距为所述待蒸镀基板的像素区域的宽度的3-5倍。

8.根据权利要求1所述的接触板，其特征在于，还包括：

支撑所述底板的支撑基板。

9.根据权利要求8所述的接触板，其特征在于，

所述底板通过胶粘附在所述支撑基板上；或

所述底板焊接在所述支撑基板上。

10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的接触板。