CN108212717B - 一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，包括以下步骤：（1）喷涂陶瓷底漆；（2）喷涂UV面漆；（3）进行NCVM镀膜；（4）喷涂保护涂层；（5）进行激光雕刻；（6）喷涂高光UV面漆；（7）镀光学膜层。本发明的优点是：在产品外观上实现了高光陶瓷效果，使塑胶具有了陶瓷效果。丰富了喷涂塑胶表面的制备方法，同时该工艺可施工性强、良品率高、测试稳定，外观效果耳目一新，附加值高。
Description
技术领域
本发明涉及一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺。
背景技术
现目前大众产品表面效果单一,塑胶表面喷涂只有哑光仿金属阳极的质感,手感差，不能体现塑胶表面的镜面效果。
发明内容
为克服现有技术的缺陷，本发明提供一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，本发明的技术方案是：
一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，包括以下步骤：
（1）喷涂陶瓷底漆；
（2）喷涂UV面漆；
（3）进行NCVM镀膜；
（4）喷涂保护涂层；
（5）进行激光雕刻；
（6）喷涂高光UV面漆；
（7）镀光学膜层。
所述的步骤（1）具体为：按照原油:固化剂:开油水的重量比为10:1:20的配比配制陶瓷涂料，然后加热，红外温度设定为70℃±5℃/10min，直至形成陶瓷的颜色时停止加热；用喷枪喷涂陶瓷涂料形成陶瓷底漆，陶瓷底漆形成后，开油水挥发完全，喷涂施工时的喷枪口径和膜厚直接影响到陶瓷效果亮度，喷枪口径1.2mm，陶瓷底漆的厚度为8±2μm。
所述的步骤（2）具体为：UV面漆要达到镜面的效果，完全取决于UV的丰满度的表面的流平效果，UV面漆的粘度控制在9.3±0.2Pa.s，喷涂过程自动线需8把喷枪，喷枪口径1.0mm，UV面漆的厚要在25-28μm，UV固化炉的曝光能量设定在700±100mj/cm²，保证UV表面的收缩力和电镀层匹配。
所述的步骤（3）具体为：NCVM镀膜的所需的镀膜材料为铟，膜厚在50nm以内,铟在镀膜设备里面的蒸发条件为：预热电压设定在1.8±1V，预热电流设定在750±200A，预热时间为50±5S，蒸发电压设定在3.668V±0.5V，蒸发电流设定在1000A±400A，蒸发时间为30±5S，真空度要达到2.0*10-²-3.2*10-²pa，才可达到色泽光亮，表面镀层均匀。
所述的步骤（4）具体为：保护涂层使用的高流平的性能UV，该保护涂层厚度在2-3μm，喷枪的口径为0.8mm，流平温度控制在60℃±5℃，时间5min，曝光能量800±100mj/cn²。
所述的步骤（5）具体为：紫光3D镭雕机在镭雕过程中Q脉冲宽度设定在27微米，频率设定在22赫兹，运行速度在1200毫米/秒，保证LOGO位置无锯齿状和牙边。
所述的步骤（6）具体为：为了使镭雕LOGO表面的光滑和测试稳定，增加高流平的UV来承接表面的光学膜层，进行喷涂高光UV面漆，UV粘度控制在10.3±0.2s，喷涂过程自动线要用10把UV喷涂用喷枪，喷枪口径1.0mm，喷涂膜厚要在20-22μm，UV固化炉的曝光能量设定在1000±100mj/cm²，表面流平保证镜面的效果，来保证UV表面的收缩力和光学膜层匹配，达到整个测试要求和外观要求。
所述的步骤（7）具体为：将光学膜层镀在高光UV面漆表面，该光学膜层的具体镀膜方法为：首先镀过渡层氧化硅SiO2，过渡层厚达到100±10nm，再依次镀TiO2层和氧化锆层，TiO2层厚度控制在60±10nm，氧化锆层厚度控制在50±10nm，增加表面的的通透和颜色的反射效果，重复镀TiO2层和氧化锆层，重复镀TiO2层和氧化锆层的厚度与第一次TiO2层和氧化锆层的厚度相等，使表面的反光折射率达到4.5%，再在氧化锆层的表面增加AF层，该AF层的膜厚40±10nm，AF层水滴角控制在110-120度。
本发明的优点是：在产品外观上实现了高光陶瓷效果，使塑胶具有了陶瓷效果。丰富了喷涂塑胶表面的制备方法，同时该工艺可施工性强、良品率高、测试稳定，外观效果耳目一新，附加值高。
具体实施方式
下面结合具体实施例来进一步描述本发明，本发明的优点和特点将会随着描述而更为清楚。但这些实施例仅是范例性的，并不对本发明的范围构成任何限制。本领域技术人员应该理解的是，在不偏离本发明的精神和范围下可以对本发明技术方案的细节和形式进行修改或替换，但这些修改和替换均落入本发明的保护范围内。
实施例1：一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，包括以下步骤：
（1）喷涂陶瓷底漆；
（2）喷涂UV面漆；
（3）进行NCVM镀膜；
（4）喷涂保护涂层；
（5）进行激光雕刻；
（6）喷涂高光UV面漆；
（7）镀光学膜层。
所述的步骤（1）具体为：按照原油:固化剂:开油水的重量比为10:1:20的配比配制陶瓷涂料，然后加热，红外温度设定为65℃/10min，直至形成陶瓷的颜色时停止加热；用喷枪喷涂陶瓷涂料形成陶瓷底漆，陶瓷底漆形成后，开油水挥发完全，喷涂施工时的喷枪口径和膜厚直接影响到陶瓷效果亮度，喷枪口径1.2mm，陶瓷底漆的厚度为6μm。
所述的步骤（2）具体为：UV面漆要达到镜面的效果，完全取决于UV的丰满度的表面的流平效果，UV面漆的粘度控制在9.1Pa.s，喷涂过程自动线需8把喷枪，喷枪口径1.0mm，UV面漆的厚要在25μm，UV固化炉的曝光能量设定在600mj/cm²，保证UV表面的收缩力和电镀层匹配。
所述的步骤（3）具体为：NCVM镀膜的所需的镀膜材料为铟，膜厚在50nm以内,铟在镀膜设备里面的蒸发条件为：预热电压设定在0.8V，预热电流设定在550A，预热时间为45S，蒸发电压设定在3.168V，蒸发电流设定在600A，蒸发时间为25S，真空度要达到2.0*10-²，才可达到色泽光亮，表面镀层均匀。
所述的步骤（4）具体为：保护涂层使用的高流平的性能UV，该保护涂层厚度在2μm，喷枪的口径为0.8mm，流平温度控制在55℃，时间5min，曝光能量700mj/cn²。
所述的步骤（5）具体为：紫光3D镭雕机在镭雕过程中Q脉冲宽度设定在27微米，频率设定在22赫兹，运行速度在1200毫米/秒，保证LOGO位置无锯齿状和牙边。
所述的步骤（6）具体为：为了使镭雕LOGO表面的光滑和测试稳定，增加高流平的UV来承接表面的光学膜层，进行喷涂高光UV面漆，UV粘度控制在10.1s，喷涂过程自动线要用10把UV喷涂用喷枪，喷枪口径1.0mm，喷涂膜厚要在20μm，UV固化炉的曝光能量设定在900mj/cm²，表面流平保证镜面的效果，来保证UV表面的收缩力和光学膜层匹配，达到整个测试要求和外观要求。
所述的步骤（7）具体为：将光学膜层镀在高光UV面漆表面，该光学膜层的具体镀膜方法为：首先镀过渡层氧化硅SiO2，过渡层厚达到90nm，再依次镀TiO2层和氧化锆层，TiO2层厚度控制在50nm，氧化锆层厚度控制在40nm，增加表面的的通透和颜色的反射效果，重复镀TiO2层和氧化锆层，重复镀TiO2层和氧化锆层的厚度与第一次TiO2层和氧化锆层的厚度相等，使表面的反光折射率达到4.5%，再在氧化锆层的表面增加AF层，该AF层的膜厚30nm，AF层水滴角控制在110度。
实施例2：一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，包括以下步骤：
（1）喷涂陶瓷底漆；
（2）喷涂UV面漆；
（3）进行NCVM镀膜；
（4）喷涂保护涂层；
（5）进行激光雕刻；
（6）喷涂高光UV面漆；
（7）镀光学膜层。
所述的步骤（1）具体为：按照原油:固化剂:开油水的重量比为10:1:20的配比配制陶瓷涂料，然后加热，红外温度设定为70℃/10min，直至形成陶瓷的颜色时停止加热；用喷枪喷涂陶瓷涂料形成陶瓷底漆，陶瓷底漆形成后，开油水挥发完全，喷涂施工时的喷枪口径和膜厚直接影响到陶瓷效果亮度，喷枪口径1.2mm，陶瓷底漆的厚度为8μm。
所述的步骤（2）具体为：UV面漆要达到镜面的效果，完全取决于UV的丰满度的表面的流平效果，UV面漆的粘度控制在9.3Pa.s，喷涂过程自动线需8把喷枪，喷枪口径1.0mm，UV面漆的厚要在25μm，UV固化炉的曝光能量设定在700mj/cm²，保证UV表面的收缩力和电镀层匹配。
所述的步骤（3）具体为：NCVM镀膜的所需的镀膜材料为铟，膜厚在50nm以内,铟在镀膜设备里面的蒸发条件为：预热电压设定在1.8V，预热电流设定在750A，预热时间为50S，蒸发电压设定在3.668V，蒸发电流设定在1000A，蒸发时间为30S，真空度要达到2.5*10-²pa，才可达到色泽光亮，表面镀层均匀。
所述的步骤（4）具体为：保护涂层使用的高流平的性能UV，该保护涂层厚度在2.5μm，喷枪的口径为0.8mm，流平温度控制在60℃，时间5min，曝光能量800mj/cn²。
所述的步骤（5）具体为：紫光3D镭雕机在镭雕过程中Q脉冲宽度设定在27微米，频率设定在22赫兹，运行速度在1200毫米/秒，保证LOGO位置无锯齿状和牙边。
所述的步骤（6）具体为：为了使镭雕LOGO表面的光滑和测试稳定，增加高流平的UV来承接表面的光学膜层，进行喷涂高光UV面漆，UV粘度控制在10.3s，喷涂过程自动线要用10把UV喷涂用喷枪，喷枪口径1.0mm，喷涂膜厚要在21μm，UV固化炉的曝光能量设定在1000mj/cm²，表面流平保证镜面的效果，来保证UV表面的收缩力和光学膜层匹配，达到整个测试要求和外观要求。
所述的步骤（7）具体为：将光学膜层镀在高光UV面漆表面，该光学膜层的具体镀膜方法为：首先镀过渡层氧化硅SiO2，过渡层厚达到100nm，再依次镀TiO2层和氧化锆层，TiO2层厚度控制在60nm，氧化锆层厚度控制在50nm，增加表面的的通透和颜色的反射效果，重复镀TiO2层和氧化锆层，重复镀TiO2层和氧化锆层的厚度与第一次TiO2层和氧化锆层的厚度相等，使表面的反光折射率达到4.5%，再在氧化锆层的表面增加AF层，该AF层的膜厚40nm，AF层水滴角控制在115度。
实施例3：一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，包括以下步骤：
（1）喷涂陶瓷底漆；
（2）喷涂UV面漆；
（3）进行NCVM镀膜；
（4）喷涂保护涂层；
（5）进行激光雕刻；
（6）喷涂高光UV面漆；
（7）镀光学膜层。
所述的步骤（1）具体为：按照原油:固化剂:开油水的重量比为10:1:20的配比配制陶瓷涂料，然后加热，红外温度设定为75℃/10min，直至形成陶瓷的颜色时停止加热；用喷枪喷涂陶瓷涂料形成陶瓷底漆，陶瓷底漆形成后，开油水挥发完全，喷涂施工时的喷枪口径和膜厚直接影响到陶瓷效果亮度，喷枪口径1.2mm，陶瓷底漆的厚度为10μm。
所述的步骤（2）具体为：UV面漆要达到镜面的效果，完全取决于UV的丰满度的表面的流平效果，UV面漆的粘度控制在9.5Pa.s，喷涂过程自动线需8把喷枪，喷枪口径1.0mm，UV面漆的厚要在28μm，UV固化炉的曝光能量设定在800mj/cm²，保证UV表面的收缩力和电镀层匹配。
所述的步骤（3）具体为：NCVM镀膜的所需的镀膜材料为铟，膜厚在50nm以内,铟在镀膜设备里面的蒸发条件为：预热电压设定在2.8V，预热电流设定在950A，预热时间为55S，蒸发电压设定在3.673V，蒸发电流设定在1400A，蒸发时间为35S，真空度要达到3.2*10-²pa，才可达到色泽光亮，表面镀层均匀。
所述的步骤（4）具体为：保护涂层使用的高流平的性能UV，该保护涂层厚度在2-3μm，喷枪的口径为0.8mm，流平温度控制在60℃±5℃，时间5min，曝光能量800±100mj/cn²。
所述的步骤（5）具体为：紫光3D镭雕机在镭雕过程中Q脉冲宽度设定在27微米，频率设定在22赫兹，运行速度在1200毫米/秒，保证LOGO位置无锯齿状和牙边。
所述的步骤（6）具体为：为了使镭雕LOGO表面的光滑和测试稳定，增加高流平的UV来承接表面的光学膜层，进行喷涂高光UV面漆，UV粘度控制在10.5s，喷涂过程自动线要用10把UV喷涂用喷枪，喷枪口径1.0mm，喷涂膜厚要在22μm，UV固化炉的曝光能量设定在1100mj/cm²，表面流平保证镜面的效果，来保证UV表面的收缩力和光学膜层匹配，达到整个测试要求和外观要求。
所述的步骤（7）具体为：将光学膜层镀在高光UV面漆表面，该光学膜层的具体镀膜方法为：首先镀过渡层氧化硅SiO2，过渡层厚达到110nm，再依次镀TiO2层和氧化锆层，TiO2层厚度控制在70nm，氧化锆层厚度控制在60nm，增加表面的的通透和颜色的反射效果，重复镀TiO2层和氧化锆层，重复镀TiO2层和氧化锆层的厚度与第一次TiO2层和氧化锆层的厚度相等，使表面的反光折射率达到4.5%，再在氧化锆层的表面增加AF层，该AF层的膜厚50nm，AF层水滴角控制在120度。
以下表格为本发明陶瓷喷涂后的塑胶电池盖测试数据：
Claims (4)
1.一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，其特征在于，包括以下步骤：
（1）喷涂陶瓷底漆；
（2）喷涂UV面漆；
（3）进行NCVM镀膜；
（4）喷涂保护涂层；
（5）进行激光雕刻；
（6）喷涂高光UV面漆；
（7）镀光学膜层；
所述的步骤（2）具体为：UV面漆要达到镜面的效果，完全取决于UV面漆表面的丰满度和流平效果，UV面漆的粘度控制在9.3±0.2Pa.s，喷涂过程自动线需8把喷枪，喷枪口径1.0mm，UV面漆的厚要在25-28μm，UV固化炉的曝光能量设定在700±100mj/cm²，保证UV面漆表面的收缩力和电镀层匹配；
所述的步骤（3）具体为：NCVM镀膜的所需的镀膜材料为铟，膜厚在50nm以内,铟在镀膜设备里面的蒸发条件为：预热电压设定在1.8±1V，预热电流设定在750±200A，预热时间为50±5S，蒸发电压设定在3.668V±0.5V，蒸发电流设定在1000A±400A，蒸发时间为30±5S，真空度要达到2.0*10-²-3.2*10-²pa，才可达到色泽光亮，表面镀层均匀；
所述的步骤（6）具体为：为了使镭雕LOGO表面光滑和测试稳定，增加高流平的UV面漆来承接表面的光学膜层，进行喷涂高光UV面漆，高光UV面漆粘度控制在10.3±0.2s，喷涂过程自动线要用10把UV喷涂用喷枪，喷枪口径1.0mm，喷涂膜厚要在20-22μm，UV固化炉的曝光能量设定在1000±100mj/cm²，表面流平保证镜面的效果，来保证UV面漆表面的收缩力和光学膜层匹配，达到整个测试要求和外观要求；
所述的步骤（7）具体为：将光学膜层镀在高光UV面漆表面，该光学膜层的具体镀膜方法为：首先镀过渡层氧化硅SiO2，过渡层厚达到100±10nm，再依次镀TiO2层和氧化锆层，TiO2层厚度控制在60±10nm，氧化锆层厚度控制在50±10nm，增加表面的通透和颜色的反射效果，重复镀TiO2层和氧化锆层，重复镀TiO2层和氧化锆层的厚度与第一次TiO2层和氧化锆层的厚度相等，使表面的反光折射率达到4.5%，再在氧化锆层的表面增加AF层，该AF层的膜厚40±10nm，AF层水滴角控制在110-120度。
2.根据权利要求1所述的一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，其特征在于，所述的步骤（1）具体为：按照原油:固化剂:开油水的重量比为10:1:20的配比配制陶瓷涂料，然后加热，红外温度设定为70℃±5℃/10min，直至形成陶瓷的颜色时停止加热；用喷枪喷涂陶瓷涂料形成陶瓷底漆，陶瓷底漆形成后，开油水挥发完全，喷涂施工时的喷枪口径和膜厚直接影响到陶瓷效果亮度，喷枪口径1.2mm，陶瓷底漆的厚度为8±2μm。
3.根据权利要求1所述的一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，其特征在于，所述的步骤（4）具体为：保护涂层使用高流平性能的UV漆，该保护涂层厚度在2-3μm，喷枪的口径为0.8mm，流平温度控制在60℃±5℃，时间5min，曝光能量800±100mj/cm²。
4.根据权利要求1所述的一种塑胶电池盖的陶瓷喷涂工艺，其特征在于，所述的步骤（5）具体为：紫光3D镭雕机在镭雕过程中Q脉冲宽度设定在27微米，频率设定在22赫兹，运行速度在1200毫米/秒，保证LOGO位置无锯齿状和牙边。
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| CP03 | Change of name, title or address | ||
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Address after: Shangjiao village, Chang'an Town, Dongguan City, Guangdong Province Patentee after: Guangdong Chuangshi Intelligent Equipment Group Co.,Ltd. Address before: 523000 corner village, Changan Town, Dongguan, Guangdong Patentee before: GUANGDONG JANUS INTELLIGENT GROUP Corp.,Ltd. |