CN108178523A - 高隐私低光污染高性能镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本发明属于玻璃技术领域，尤其涉及一种高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，包括玻璃基片和低辐射膜，所述低辐射膜包括依序叠层设置的第一氮化物层、第一氧化物层、第一银层、金属吸收层、第一金属阻挡层，第二氧化物层、第二银层、第二金属阻挡层、第三氧化物层和第二氮化物层，所述第一氮化物层覆盖于所述玻璃基片的表面。本发明的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，由于在第一银层与第一金属阻挡层之间设置有一金属吸收层，那么通过该金属吸收层可以增加吸收减低第一银层的反射，如此实现将光谱曲线形态保持高红外线反射，及可见光相对较高透光的状态，从而实现降低玻璃的反射，进而使得玻璃的光污染进一步降低，大大提高玻璃的光学性能。
Description
技术领域
本发明属于玻璃技术领域，尤其涉及一种高隐私低光污染高性能镀膜玻璃。
背景技术
Low-E玻璃也称低辐射玻璃，通过真空磁控溅射的方法在玻璃表面上镀上含一层或两层甚至三层银层的膜系，以达到降低能量吸收控制室内外能量的交换，达到节能降耗的要求。从20世纪90年代开始，欧美等发达国家已经开始广泛应用，在中国也开始快速推广。为达到节能效果需最大限度的提高红外线的反射率，不可避免的提高玻璃的反射。这时出现了“光污染”这个词，这里指的光污染是指在日常生活中，镜面建筑反光导致行人和司机的眩晕感和不适。然而，现有技术中的低辐射玻璃一般只能够做到玻璃内外反射19％左右，光污染无法进一步降低，导致低辐射玻璃的产品性能也无法进一步提升。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，旨在解决现有技术中的低辐射玻璃的光污染无法进一步降低的技术问题。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，包括玻璃基片和低辐射膜，所述低辐射膜包括依序叠层设置的第一氮化物层、第一氧化物层、第一银层、金属吸收层、第一金属阻挡层，第二氧化物层、第二银层、第二金属阻挡层、第三氧化物层和第二氮化物层，所述第一氮化物层覆盖于所述玻璃基片的表面。
优选地，所述金属吸收层为铜金属吸收层。
优选地，所述金属吸收层的厚度为4nm～8nm。
优选地，所述第一氮化物层的厚度为40nm～45nm，所述第二氮化物层的厚度为20nm～30nm。
优选地，所述第一氧化物层的厚度为6nm～10nm，所述第二氧化物层的厚度为80nm～90nm，所述第三氧化物层的厚度为5nm～10nm。
优选地，所述第一银层的厚度为4nm～6nm，所述第二银层的厚度为9nm～11nm。
优选地，所述第一金属阻挡层为第一镍铬合金层，所述第二金属阻挡层为第二镍铬合金层。
优选地，所述第一金属阻挡层的厚度为8nm～10nm，所述第二金属阻挡层的厚度为1nm～2nm。
优选地，所述玻璃基片的厚度为10mm～12mm。
优选地，所述玻璃基片为白玻或者色玻。
本发明的有益效果：本发明的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，由于在第一银层与第一金属阻挡层之间设置有一金属吸收层，那么通过该金属吸收层可以增加吸收减低第一银层的反射，如此实现将光谱曲线形态保持高红外线反射，及可见光相对较高透光的状态，从而实现降低玻璃的反射，进而使得玻璃的光污染进一步降低，大大提高玻璃的光学性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的结构示意图。
其中，图中各附图标记：
10—第一氮化物层 11—第一氧化物层 12—第一银层
13—金属吸收层 14—第一金属阻挡层 15—第二氧化物层
16—第二银层 17—第二金属阻挡层 18—第三氧化物层
19—第二氮化物层 100—低辐射膜 200—玻璃基片。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
如图1所示，本发明实施例提供的一种高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，包括玻璃基片200和低辐射膜100，所述低辐射膜100包括依序叠层设置的第一氮化物层10、第一氧化物层11、第一银层12、金属吸收层13、第一金属阻挡层14，第二氧化物层15、第二银层16、第二金属阻挡层17、第三氧化物层18和第二氮化物层19，所述第一氮化物层10覆盖于所述玻璃基片200的表面。具体地，本发明实施例的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，由于在第一银层12与第一金属阻挡层14之间设置有一金属吸收层13，那么通过该金属吸收层13可以增加吸收减低第一银层12的反射，如此实现将光谱曲线形态保持高红外线反射，及可见光相对较高透光的状态，从而实现降低玻璃的反射，进而使得玻璃的光污染进一步降低，大大提高玻璃的光学性能。
本实施例中的低辐射膜100的各层结构优选采用中频电源和旋转靶通过溅射气体氩气，反应气体氮气和氧气，采用磁控溅射的方式完成。如此方式实现低辐射膜100的制作，不但高效，且形成的低辐射膜100结构质量好。
经过试验得出，本实施例提供的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的透过率为35.59，外反射率为17.36，内反射率为12.48，K值(传热系数)为1.6，遮阳系数SC值为0.25，特别是内外反射均为低于19％，从而实现降低玻璃的反射，进而使得玻璃的光污染进一步降低，大大提高玻璃的光学性能。
本实施例中，优选地，所述金属吸收层13为铜金属吸收层。铜材质的金属吸收层13易于制作，并且成本较低。
当然，还可以采用其他金属作为金属吸收层13，在此不做限制。
本实施例中，优选地，所述金属吸收层13的厚度为4nm～8nm。即金属吸收层13的厚度可以为4nm、5nm、6nm、7nm或者8nm。该厚度范围值金属吸收层13可以有效实现其降低玻璃反射的功能，进而实现提高玻璃的光学性能。上述金属吸收层13的厚度的设置范围值可以进一步确保本实施例提供的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的内外反射均为低于19％。
本实施例中，优选地，所述第一氮化物层10的厚度为40nm～45nm，所述第二氮化物层19的厚度为20nm～30nm。即第一氮化物层10的厚度可以为40nm、41nm、42nm、43nm、44nm或者45nm，所述第二氮化物层19的厚度可以为20nm、21nm、22nm、23nm、24nm、25nm、26nm、27nm、28nm、29nm或者30nm。第一氮化物层10和第二氮化物层19均可以采用旋转靶通过离线磁控溅射镀膜形成。上述氮化物层的厚度的设置范围值可以进一步确保本实施例提供的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的内外反射均为低于19％。
进一步地，第一氮化物层10和第二氮化物层19均可以Si3N4。
本实施例中，优选地，所述第一氧化物层11的厚度为6nm～10nm，所述第二氧化物层15的厚度为80nm～90nm，所述第三氧化物层18的厚度为5nm～10nm。具体地，第一氧化物层11的厚度可以为6nm、7nm、8nm、9nm或者10nm，所述第二氧化物层15的厚度可以为80nm、81nm、82nm、83nm、84nm、85nm、86nm、87nm、88nm、89nm或者90nm，所述第三氧化物层18的厚度可以为5nm、6nm、7nm、8nm、9nm或者10nm。氧化物层的作用主要是其相邻的氮化物层组合形成组合膜。上述氧化物层的厚度的设置范围值可以进一步确保本实施例提供的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的内外反射均为低于19％。
其中，第一氧化物层11、第二氧化物层15和第三氧化物层18可以是SnO2、Zn2SnO4或者ZnAlO2。第一氧化物层11、第二氧化物层15和第三氧化物层18还起到作为介质层的作用。
本实施例中，优选地，所述第一银层12的厚度为4nm～6nm，所述第二银层16的厚度为9nm～11nm。具体地，第一银层12的厚度可以为4nm、5nm或者6nm，所述第二银层16的厚度为9nm、10nm或者11nm。在该厚度范围值的银层的设置可以正常实现其应有的透过，不会因为过厚而影响玻璃的性能。并且，上述银层的厚度的设置范围值可以进一步确保本实施例提供的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的内外反射均为低于19％。
本实施例中，优选地，所述第一金属阻挡层14为第一镍铬合金层，所述第二金属阻挡层17为第二镍铬合金层。
本实施例中，优选地，所述第一金属阻挡层14的厚度为8nm～10nm，即第一镍铬合金层的厚度可以为8nm、9nm或者10nm。所述第二金属阻挡层17的厚度为1nm～2nm，即第二镍铬合金层的厚度为1nm、1.5nm或者2nm。上述金属阻挡层的厚度的设置范围值可以进一步确保本实施例提供的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的内外反射均为低于19％。
本实施例中，优选地，所述玻璃基片200的厚度为10mm～12mm。即玻璃基片200的厚度可以为10mm、11nm或者12mm。
本实施例中，优选地，所述玻璃基片200为白玻或者色玻。采用白玻或者色玻作为玻璃基片200形成的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃可以作为建筑玻璃、汽车玻璃等使用。
综上所述，本实施例中的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的低辐射膜100通过上述第一氮化物层10、第一氧化物层11、第一银层12、金属吸收层13、第一金属阻挡层14，第二氧化物层15、第二银层16、第二金属阻挡层17、第三氧化物层18和第二氮化物层19的厚度范围的适合比例设计，确保了高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的透过率能够达到为35.59，外反射率能够降低为17.36，内反射率能够降低为12.48，K值(传热系数)能够达到为1.6，遮阳系数SC值能够达到为0.25，特别是内外反射均为能够达到低于19％，从而实现降低玻璃的反射，进而使得玻璃的光污染进一步降低，大大提高玻璃的光学性能。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，包括玻璃基片和低辐射膜，其特征在于：所述低辐射膜包括依序叠层设置的第一氮化物层、第一氧化物层、第一银层、金属吸收层、第一金属阻挡层，第二氧化物层、第二银层、第二金属阻挡层、第三氧化物层和第二氮化物层，所述第一氮化物层覆盖于所述玻璃基片的表面。
2.根据权利要求1所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述金属吸收层为铜金属吸收层。
3.根据权利要求1所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述金属吸收层的厚度为4nm～8nm。
4.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氮化物层的厚度为40nm～45nm，所述第二氮化物层的厚度为20nm～30nm。
5.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氧化物层的厚度为6nm～10nm，所述第二氧化物层的厚度为80nm～90nm，所述第三氧化物层的厚度为5nm～10nm。
6.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一银层的厚度为4nm～6nm，所述第二银层的厚度为9nm～11nm。
7.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一金属阻挡层为第一镍铬合金层，所述第二金属阻挡层为第二镍铬合金层。
8.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一金属阻挡层的厚度为8nm～10nm，所述第二金属阻挡层的厚度为1nm～2nm。
9.根据权利要求1～3任一项所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为10mm～12mm。
10.根据权利要求1～3任一项所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述玻璃基片为白玻或者色玻。
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