CN208071585U - 高透高选择性三银玻璃基板及中空玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于玻璃技术领域，尤其涉及一种高透高选择性三银玻璃基板及中空玻璃。高透高选择性三银玻璃基板包括第一玻璃基片和低辐射膜，低辐射膜包括叠层设置的第一氮化物层、第一氧化物层、第一银层、第一镍铬合金层、第二氧化物层、第二银层、第二镍铬合金层、第三氧化物层、第三银层、欠氧化物层和第二氮化物层，第一氮化物层覆盖于第一玻璃基片的表面。本实用新型的高透高选择性三银玻璃基板，其第三银层通过设置的欠氧化物层对其进行保护，欠氧化物层相比现有的氧化物层可以降低对透过的影响，并且也依然可以实现对第三银层起到保护的作用，即起到保护第三银层避免氧化的作用，从而使得形成的高透高选择性三银玻璃基板的透过率更高。

Description

高透高选择性三银玻璃基板及中空玻璃

技术领域

本实用新型属于玻璃技术领域，尤其涉及一种高透高选择性三银玻璃基板及中空玻璃。

背景技术

随着对建筑节能认识的提高，世界各国对建筑能耗出台了一系列政策，促使低辐射镀膜玻璃快速发展，Low-E玻璃(低辐射玻璃)的应用越来越普及。 Low-E玻璃有单银、双银和三银之分，从目前材料的发展来看，Low-E玻璃中节能最强悍的产品无疑是三银Low-E玻璃。三银Low-E具有光谱选择特性，其特有的镀膜结构能将不受欢迎的红外线，紫外线同人们需要的可见光加以区分，结果导致太阳辐射热量和褪色防护的终极性能。它一方面将人眼可见的光线最大限度的放进来，另一方面又最大限度的将携带能量最多的近中红外热能阻隔出去。由于其具有极低的表面辐射率E值，对远红外的热能反射也非常高，保温隔热能力都是节能玻璃中最好的。现有技术的三银Low-E玻璃中的三层银都用金属层做保护层，然而，金属层降低透过率，若去掉任何一层金属层，则会导致银层被快速氧化，进而导致玻璃的性能下降。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高透高选择性三银玻璃基板及中空玻璃，旨在解决现有技术中的三银Low-E玻璃透过率低的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种高透高选择性三银玻璃基板，包括第一玻璃基片和低辐射膜，所述低辐射膜包括叠层设置的第一氮化物层、第一氧化物层、第一银层、第一镍铬合金层、第二氧化物层、第二银层、第二镍铬合金层、第三氧化物层、第三银层、欠氧化物层和第二氮化物层，所述第一氮化物层覆盖于所述第一玻璃基片的表面。

优选地，所述第一氮化物层的厚度为40nm～45nm，所述第二氮化物层的厚度为20nm～30nm。

优选地，所述第一氧化物层的厚度为5nm～15nm，所述第二氧化物层的厚度为85nm～90nm，所述第三氧化物层的厚度为10nm～15nm。

优选地，所述第一银层的厚度为5nm～7nm，所述第二银层的厚度为 16nm～18nm，所述第三银层的厚度为5nm～18nm。

优选地，所述第一镍铬合金层的厚度为8nm～10nm，所述第二镍铬合金层的厚度为4nm～5nm。

优选地，所述第一玻璃基片的厚度为10mm～12mm。

优选地，所述第一玻璃基片为白玻或者色玻。

优选地，所述欠氧化物层由金属物质在氧气流量为350sccm～400sccm的环境下氧化形成。

本实用新型的有益效果：本实用新型的高透高选择性三银玻璃基板，其第三银层通过设置的欠氧化物层对其进行保护，欠氧化物层相比现有的氧化物层可以降低对透过的影响，并且也依然可以实现对第三银层起到保护的作用，即起到保护第三银层避免氧化的作用；其中，欠氧化物层相比传统的氧化物层在氧化过程中将氧气的流量降低至小于700sccm，确保欠氧化物层相比传统的氧化物层具有更佳的透过性能，更低的辐射率，进而使得形成的高透高选择性三银玻璃基板的透过率更高。

本实用新型采用的另一技术方案是：一种中空玻璃，包括中空层、第二玻璃基片和上述的高透高选择性三银玻璃基板，所述中空层和所述第二玻璃基片依序粘接固定于所述第二氮化物层的表面上。

优选地，所述中空玻璃的遮阳系数为0.35～0.37，透过率为60％～64％。

本实用新型的中空玻璃，由于使用有上述的高透高选择性三银玻璃基板，通过高透高选择性三银玻璃基板具有的高透过率，使得整个中空玻璃具有极致的高可见光透射比，隔热、挡紫外线、低辐射等卓越光热性能，并可广泛的推广应用到车用玻璃、建筑玻璃等。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的高透高选择性三银玻璃基板的结构分解示意图。

图2为本实用新型实施例提供的中空玻璃的结构分解示意图。

其中，图中各附图标记：

100-第一玻璃基片 200-第二玻璃基片 300-低辐射膜

301-第一氮化物层 302-第一氧化物层 303-第一银层

304-第一镍铬合金层 305-第二氧化物层 306-第二银层

307-第二镍铬合金层 308-第三氧化物层 309-第三银层

310-欠氧化物层 311-第二氮化物层 400-中空层。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图1～2描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1～2所示，本实用新型实施例的一种高透高选择性三银玻璃基板，包括第一玻璃基片100和低辐射膜300，所述低辐射膜300包括叠层设置的第一氮化物层301、第一氧化物层302、第一银层303、第一镍铬合金层304、第二氧化物层305、第二银层306、第二镍铬合金层307、第三氧化物层308、第三银层309、欠氧化物层310和第二氮化物层311，所述第一氮化物层301覆盖于所述第一玻璃基片100的表面。具体地，本实用新型实施例的高透高选择性三银玻璃基板，其第三银层309通过设置的欠氧化物层310对其进行保护，欠氧化物层310相比现有的氧化物层可以降低对透过的影响，并且也依然可以实现对第三银层309起到保护的作用，即起到保护第三银层309避免氧化的作用。其中，欠氧化物层310相比传统的氧化物层在氧化过程中将氧气的流量降低至小于700sccm，确保欠氧化物层310相比传统的氧化物层具有更佳的透过性能，更低的辐射率，进而使得形成的高透高选择性三银玻璃基板的透过率更高。

其中，低辐射膜300优选采用镀膜机进行磁控溅射的加工方式镀设形成。

进一步地，本实施例中的氧化物层可以是银、铜、铝、铬、镍和铁等金属形成的氧化物。

本实施例中，所述第一氮化物层301的厚度为40nm～45nm，所述第二氮化物层311的厚度为20nm～30nm。具体地，第一氮化物层301的厚度可以为40nm、 41nm、42nm、43nm、44nm或者45nm，所述第二氮化物层311的厚度可以为 20nm、21nm、22nm、23nm、24nm、25nm、26nm、27nm、28nm、29nm或者 30nm。在该厚度参数范围值的第一氮化物层301和第二氮化物层311可以确保其具有足够的厚度作为整个低辐射膜300的内外层保护，并且也不会因为第一氮化物层301和第二氮化物层311厚度不够而影响整个低辐射膜300的性能。本实施例中，所述第一氧化物层302的厚度为5nm～15nm，所述第二氧化物层 305的厚度为85nm～90nm，所述第三氧化物层308的厚度为10nm～15nm。具体地，第一氧化物层302的厚度可以为5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、 12nm、13nm、14nm或者15nm。第一氧化物层302的厚度可以为85nm、86nm、 87nm、88nm、89nm或者90nm。第三氧化物层308的厚度可以为10nm、11nm、 12nm、13nm、14nm或者15nm。上述厚度范围的氧化物层具有足够的厚度对银层起到保护作用，并且也不会因为厚度过大而影响透过率。

本实施例中，所述第一银层303的厚度为5nm～7nm，所述第二银层306的厚度为16nm～18nm，所述第三银层309的厚度为5nm～18nm。具体地，所述第一银层303的厚度可以为5nm、6nm或者7nm，所述第二银层306的厚度为16nm、 17nm或者18nm，所述第三银层309的厚度可以为5nm、7nm、9nm、11nm、13nm、 14nm、16nm或者18nm。上述厚度范围的银层可以正常实现其应有的透过，不会因为过厚而影响整个高透高选择性三银玻璃基板的透过率。

本实施例中，所述第一镍铬合金层304的厚度为8nm～10nm，所述第二镍铬合金层307的厚度为4nm～5nm。具体地，所述第一镍铬合金层304的厚度可以为8nm、9nm或者10nm，所述第二镍铬合金层307的厚度可以为4nm或者5nm。

本实施例中，所述第一玻璃基片100的厚度为10mm～12mm。具体地，第一玻璃基片100的厚度可以为10mm、11mm或者12mm。

本实施例中，所述第一玻璃基片100为白玻或者色玻。

本实施例中，所述欠氧化物层310由金属物质在氧气流量为 350sccm～400sccm的环境下氧化形成。具体地，金属物质在氧气流量为 350sccm～400sccm的环境下氧化可以形成欠氧化物层310，这样通过该欠氧化物层310既然可以实现对银层保护又可以提高整个高透高选择性三银玻璃基板的透过率，结构设计巧妙，实用性强。

本实用新型实施例还提供一种中空玻璃，包括中空层400、第二玻璃基片 200和上述的高透高选择性三银玻璃基板，所述中空层400和所述第二玻璃基片 200依序粘接固定于所述第二氮化物层311的表面上。

本实用新型实施例的中空玻璃，由于使用有上述的高透高选择性三银玻璃基板，通过高透高选择性三银玻璃基板具有的高透过率，使得整个中空玻璃具有极致的高可见光透射比，隔热、挡紫外线、低辐射等卓越光热性能，并可广泛的推广应用到车用玻璃、建筑玻璃等。

优选地，所述中空玻璃的遮阳系数为0.35～0.37，透过率为60％～64％。即本实施例的中空玻璃的遮阳系数可以为0.35、0.36或者0.37，透过率为60％、61％、 62％、63％或者64％。

进一步地，所述中空玻璃的K值为1.64，得热因子为0.31。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种高透高选择性三银玻璃基板，包括第一玻璃基片和低辐射膜，其特征在于：所述低辐射膜包括叠层设置的第一氮化物层、第一氧化物层、第一银层、第一镍铬合金层、第二氧化物层、第二银层、第二镍铬合金层、第三氧化物层、第三银层、欠氧化物层和第二氮化物层，所述第一氮化物层覆盖于所述第一玻璃基片的表面。

2.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一氮化物层的厚度为40nm～45nm，所述第二氮化物层的厚度为20nm～30nm。

3.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一氧化物层的厚度为5nm～15nm，所述第二氧化物层的厚度为85nm～90nm，所述第三氧化物层的厚度为10nm～15nm。

4.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一银层的厚度为5nm～7nm，所述第二银层的厚度为16nm～18nm，所述第三银层的厚度为5nm～18nm。

5.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一镍铬合金层的厚度为8nm～10nm，所述第二镍铬合金层的厚度为4nm～5nm。

6.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一玻璃基片的厚度为10mm～12mm。

7.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一玻璃基片为白玻或者色玻。

8.根据权利要求1～7任一项所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述欠氧化物层由金属物质在氧气流量为350sccm～400sccm的环境下氧化形成。

9.一种中空玻璃，其特征在于：包括中空层、第二玻璃基片和权利要求1～7任一项所述的高透高选择性三银玻璃基板，所述中空层和所述第二玻璃基片依序粘接固定于所述第二氮化物层的表面上。

10.根据权利要求9所述的中空玻璃，其特征在于：所述中空玻璃的遮阳系数为0.35～0.37，透过率为60％～64％。