CN106746733A - 一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其中通过在玻璃基体上镀设新型结构的复合膜层而获得新型的玻璃产品，该玻璃产品的反射率基本上能够达到8%以下，而透过率在45%以下的超低反低透效果。这相比现有技术而言，其在进一步降低反射率的同时，还大幅地降低了透过率，使得玻璃产品的综合性能得到了整体提升，以满足幕墙玻璃的使用性能需求。

Description

一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃
技术领域
本发明涉及一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃。
背景技术
低辐射玻璃又称Low-E玻璃，是通过磁控真空溅射的方法，在优质浮法玻璃表面均匀地镀上特殊的金属膜系。低辐射玻璃从性能上主要分为单银Low-E、双银Low-E和三银Low-E，分别是在优质浮法玻璃表面镀上氮化硅、氧化锌、氧化锡等介质薄膜和银等功能薄膜，从而达到所需要的光学性能和视觉颜色效果。
双银Low-E玻璃主要在玻璃表面上利用磁控溅射法沉积多层膜材,在多层膜层材料中沉积两层以上的纯银基材而成的高性能玻璃制品。双银Low-E具有高可见光透射率、极高的远红外线反射率，该种覆盖双银层的双银Low-E低辐射镀膜玻璃可将98％以上的远红外热辐射反射回去，可使玻璃的辐射率E值由0.84以上降低到0.15以下，其遮阳系数SC可根据工程需要在0.2～0.7之间变动。根据试验模拟对比，在冬季在线低辐射镀膜玻璃要比双银Low-E玻璃增加约40％的热量损失；相对夏天在线低辐射镀膜玻璃比双银Low-E镀膜玻璃增加20％的热量透过。
现有双银低辐射玻璃产品，其玻璃基体上的镀设的膜层结构通常为氮化硅(氧化锡)/氧化锌/银/镍铬/氮化硅(氧化锡)/氧化锌/银/镍铬/氮化硅。为降低城市光污染，降低玻璃产品的反射率，通常会选择减少银或者镍铬厚度，但是在降低反射率的同时，透过率增高、遮阳系数增大，选择系数降低，无法满足部分幕墙对玻璃产品的性能要求。
发明内容
本发明的目的是提供一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，从而使得玻璃产品兼具低反射率与低透过率性能。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，包括玻璃基体和镀设在所述玻璃基体上的复合膜层，所述复合膜层由第一介质层、第一吸收阻挡层、第二介质层、第一功能层、第二功能层、第二吸收阻挡层、第三介质层、第三功能层、第三吸收阻挡层、第四介质层自所述玻璃基体的表面向外依次层叠而成，其中，所述的第一功能层、第三功能层分别为Ag层，所述第二功能层为Cu层，所述第一介质层的厚度为0～30nm；第一吸收阻挡层的厚度为1～5nm；第二介质层的厚度为10～50nm；第一功能层的厚度为1～10nm；第二功能层的厚度为1～10nm；第二吸收阻挡层的厚度为1～10nm；第三介质层的厚度为40～100nm；第三功能层的厚度为5～15nm；第三吸收阻挡层的厚度为1～10nm；第四介质层的厚度为20～100nm。
优选地，所述第二功能层的厚度为5～8nm。
进一步地，所述第一功能层的厚度为3～6nm，第三功能层的厚度为11～13nm。
优选地，所述第一介质层、第二介质层、第三介质层、第四介质层为氧化锌层或氮化硅层。
进一步地，所述第一介质层、第二介质层、第三介质层均为氧化锌层，所述第四介质层为氮化硅层。
进一步地，所述第四介质层为氮化硅层，且其厚度为35～45nm。
优选地，所述第一吸收阻挡层、第二吸收阻挡层及第三吸收阻挡层均为镍铬层。
进一步地，所述第二吸收阻挡层与第三吸收阻挡层均为1～2nm。
作为一种优选的实施方式，所述复合膜层由自所述玻璃基体的表面向外依次层叠的氧化锌层/镍铬层/氧化锌层/银层/铜层/镍铬层/氧化锌层/银层/镍铬层/氮化硅层组成，该复合膜层中各膜层的厚度分别为15.5nm/3.3nm/38.5nm/3.1nm/5.1nm/1.8nm/78.9nm/11.2nm/1.2nm/42.2nm。
作为另一种优选的实施方式，所述复合膜层由自所述玻璃基体的表面向外依次层叠的镍铬层/氧化锌层/银层/铜层/镍铬层/氧化锌层/银层/镍铬层/氮化硅层组成，该复合膜层中各膜层的厚度分别为2.6nm/41.7nm/5.1nm/7.1nm/1.0nm/80.6nm/12.2nm/1.8nm/39.2nm。
由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：本发明的一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其中通过在玻璃基体上镀设新型结构的复合膜层而获得新型的玻璃产品，该玻璃产品的反射率基本上能够达到8％以下，而透过率在45％以下的超低反低透效果。这相比现有技术而言，其在进一步降低反射率的同时，还大幅地降低了透过率，使得玻璃产品的综合性能得到了整体提升，以满足幕墙玻璃的使用性能需求。
附图说明
附图1为本发明的双银低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体的实施例来对本发明的技术方案作进一步的阐述。
参见图1所示，本发明的双银低辐射玻璃，其包括玻璃基体100和镀设在玻璃基体100上的复合膜层200，该复合膜层200由第一介质层1、第一吸收阻挡层2、第二介质层3、第一功能层4、第二功能层5、第二吸收阻挡层6、第三介质层7、第三功能层8、第三吸收阻挡层9、第四介质层10自所述玻璃基体100的表面向外依次层叠而成。加工时，复合膜层200上的各膜层则是按照先后顺序依次通过磁控溅射的方式镀设在玻璃基体100上的。
该复合膜层200中，第一功能层4与第三功能层8采用的均为Ag层，而第二功能层5采用的为Cu层。第一功能层4的厚度为1～10nm，优选厚度范围为3～6nm；第二功能层5的厚度为1～10nm，优选厚度范围为5～8nm；第三功能层5的厚度为5～15nm；优选厚度范围为11～13nm。
该复合膜层200中，第一介质层1、第二介质层3、第三介质层7、第四介质层10可以为氧化锌层，也可以为氮化硅层。优选地，第一介质层1、第二介质层3、第三介质层7均采用氧化锌层，而第四介质层10采用具有保护作用的氮化硅层。第一介质层1的厚度范围选用0～30nm；第二介质层3的厚度范围选用10～50nm；第三介质层7的厚度范围选用40～100nm；第四介质层10的厚度范围选用20～100nm，该第四介质层10的厚度范围优选35～45nm。
该复合膜层200中，第一吸收阻挡层2、第二吸收阻挡层6及第三吸收阻挡层9均为镍铬层。第一吸收阻挡层2的厚度范围选用1～5nm；第二吸收阻挡层6的厚度范围选用1～10nm；第三吸收阻挡层9的厚度范围选用1～10nm；其中，第二吸收阻挡层6与第三吸收阻挡层9的优选厚度范围均为1～2nm。
以下给出本发明优选的实施例予以说明：
实施例1
参见表1所示为该实施例的双银低辐射玻璃上复合膜层200的具体结构及各膜层的厚度值：
表1
注：表1中的x为正数。
将上述的膜层按照相应厚度依次镀设至玻璃基体100上，得到双银低辐射玻璃产品，经测量，该玻璃产品的反射率为7.27，透过率为41。
实施例2
参见表1所示为该实施例的双银低辐射玻璃上复合膜层200的具体结构及各膜层的厚度值：
表2
注：表1中的x为正数。
将上述的膜层按照相应厚度依次镀设至玻璃基体100上，得到双银低辐射玻璃产品，经测量，该玻璃产品的反射率为7.89，透过率为40.5。
而现有技术中的玻璃产品，为实现低反射率的效果，透过率无法做低，其最好的也只能达到反射率11、透过率71的结果。
无疑，采用本发明技术方案获得的玻璃产品，相比现有技术在进一步降低反射率的同时，还大幅地降低了透过率。该玻璃产品的反射率基本上能够达到8％以下，而透过率在45％以下的超低反低透效果。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，包括玻璃基体（100）和镀设在所述玻璃基体（100）上的复合膜层（200），其特征在于：所述复合膜层（200）由第一介质层（1）、第一吸收阻挡层（2）、第二介质层（3）、第一功能层（4）、第二功能层（5）、第二吸收阻挡层（6）、第三介质层（7）、第三功能层（8）、第三吸收阻挡层（9）、第四介质层（10）自所述玻璃基体（100）的表面向外依次层叠而成，
其中，所述的第一功能层（4）、第三功能层（8）分别为Ag层，所述第二功能层（5）为Cu层，所述第一介质层（1）的厚度为0～30nm；第一吸收阻挡层（2）的厚度为1～5nm；第二介质层（3）的厚度为10～50nm；第一功能层（4）的厚度为1～10nm；第二功能层（5）的厚度为1～10nm；第二吸收阻挡层（6）的厚度为1～10nm；第三介质层（7）的厚度为40～100nm；第三功能层（8）的厚度为5～15nm；第三吸收阻挡层（9）的厚度为1～10nm；第四介质层（10）的厚度为20～100nm。
2.根据权利要求1所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第二功能层（5）的厚度为5～8nm。
3.根据权利要求2所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一功能层（4）的厚度为3～6nm，第三功能层（8）的厚度为11～13nm。
4.根据权利要求1所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一介质层（1）、第二介质层（3）、第三介质层（7）、第四介质层（10）为氧化锌层或氮化硅层。
5.根据权利要求4所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一介质层（1）、第二介质层（3）、第三介质层（7）均为氧化锌层，所述第四介质层（10）为氮化硅层。
6.根据权利要求4所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第四介质层（10）为氮化硅层，且其厚度为35～45nm。
7.根据权利要求1所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一吸收阻挡层（2）、第二吸收阻挡层（6）及第三吸收阻挡层（9）均为镍铬层。
8.根据权利要求7所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第二吸收阻挡层（6）与第三吸收阻挡层（9）均为1～2nm。
9.根据权利要求1至8任一所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述复合膜层（200）由自所述玻璃基体（100）的表面向外依次层叠的氧化锌层/镍铬层/氧化锌层/银层/铜层/镍铬层/氧化锌层/银层/镍铬层/氮化硅层组成，该复合膜层（200）中各膜层的厚度分别为15.5 nm /3.3 nm /38.5 nm /3.1 nm /5.1 nm /1.8 nm /78.9 nm /11.2 nm /1.2 nm /42.2nm。
10.根据权利要求1至8任一所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述复合膜层（200）由自所述玻璃基体（100）的表面向外依次层叠的镍铬层/氧化锌层/银层/铜层/镍铬层/氧化锌层/银层/镍铬层/氮化硅层组成，该复合膜层（200）中各膜层的厚度分别为2.6 nm /41.7 nm /5.1 nm /7.1 nm /1.0 nm /80.6 nm /12.2 nm /1.8 nm /39.2nm。
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