CN108129033A - 一种盖板玻璃及其制作方法 - Google Patents

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    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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Abstract

本发明实施例提供了一种盖板玻璃及其制作方法，所述盖板玻璃应用于移动终端，包括盖板玻璃基材；和涂覆于所述盖板玻璃基材表面的隔离层和光催化剂层；所述光催化剂层附着于所述隔离层表面。当本实施例中的盖板玻璃被应用于手机等移动终端的表面时，光催化剂在光照射下产生的超氧自由基能够有效地清除手机表面及四周装饰圈凹槽内的细菌等有害物质，解决了目前手机在长时间使用后容易积累细菌，不易清洁的问题。

Description

一种盖板玻璃及其制作方法
技术领域
本发明实施例涉及通信技术领域，尤其涉及一种盖板玻璃及其制作方法。
背景技术
移动通信技术的发展改变了人们工作、生活的方式。手机等移动终端已经成为了人们日常生活中必不可少的一部分。
通常，在用户长时间的使用后，手机极其容易积累细菌等物质，这些积累的细菌对用户的身体健康存在一定的影响。因此，为了保持手机的清洁，用户必须使用酒精等擦拭手机，才能有效清除手机上面的细菌。但是，对于普通用户而言，很少有专用的酒精去定期清洁手机。而且，由于手机结构的特殊性，要想有效地清洁手机盖板四周积累的脏污或细菌，操作起来也是十分不便。
发明内容
本发明实施例提供了一种盖板玻璃及其制作方法，以解决手机在长时间使用后容易积累细菌，不易清洁的问题。
为了解决上述技术问题，第一方面，本发明实施例提供了一种盖板玻璃，应用于移动终端，包括：
盖板玻璃基材；和，
涂覆于所述盖板玻璃基材表面的隔离层和光催化剂层；所述光催化剂层附着于所述隔离层表面。
第二方面，本发明实施例还提供了一种制作盖板玻璃的方法，包括：
确定盖板玻璃基材的镀膜区和非镀膜区；
通过电镀工艺在所述盖板玻璃基材的镀膜区涂覆隔离层；
在所述隔离层表面涂覆光催化剂层，以形成盖板玻璃。
这样，在本发明实施例中，通过在盖板玻璃基材表面涂覆形成一层隔离层，然后在隔离层上再次涂覆形成一层光催化剂层，光催化剂层在光照射下能够产生超氧自由基。当上述盖板玻璃被应用于手机等移动终端的表面时，光催化剂在光照射下产生的超氧自由基能够有效地清除手机表面及四周装饰圈凹槽内的细菌等有害物质，解决了目前手机在长时间使用后容易积累细菌，不易清洁的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明一个实施例的一种盖板玻璃的截面图；
图2是本发明一个实施例的一种盖板玻璃截面图的边缘区域局部放大图；
图3是本发明一个实施例的一种R角的示意图；
图4A-图4B是本发明一个实施例的一种移动终端的正面示意图；
图5A-图5B是本发明一个实施例的一种移动终端的背面示意图；
图6是本发明一个实施例的一种制作盖板玻璃的方法的步骤流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参照图1，示出了本发明一个实施例的一种盖板玻璃的截面图，具体可以包括：
盖板玻璃基材101；和，
涂覆于盖板玻璃基材101表面的隔离层102和光催化剂层103；其中，光催化剂层103附着于隔离层102表面。
在本发明实施例中，盖板玻璃基材101可以2D、2.5D或3D结构的玻璃基材。
2D结构也就是指一个纯平面。此种结构的玻璃基本都平的，玻璃上的所有的点都处在同一个平面上。2.5D玻璃屏幕指的是尽管和一般的2D玻璃屏幕一样中间区域也是一个平面，但是2.5D玻璃在边缘采用了弧面过度，也就是在平面玻璃的基础上对边缘进行了弧度处理。而3D结构玻璃则是指屏幕弧度更大的玻璃，采用3D玻璃的手机等移动终端不仅表面的玻璃使用弧面设计，并且在电子显示屏组件面板也是带有弧度的3D屏幕。本实施例对盖板玻璃基材的结构不作限定。
如图2所示，是本发明一个实施例的一种盖板玻璃截面图的边缘区域局部放大图。在图2中，盖板玻璃基材101包括盖板玻璃基材上表面101a与盖板玻璃基材下表面101b，可以通过电镀工艺首先在盖板玻璃基材上表面101a上形成一层隔离层102，然后再次通过电镀工艺在隔离层102上形成一层光催化剂层103。
在本发明实施例中，隔离层102可以是二氧化硅SiO2膜层。通过在盖板玻璃基材上表面101a电镀一层SiO2膜层，能够使得盖板玻璃基材上表面101a更平整更光滑，有助于提供后续电镀的光催化剂层103的附着力。通过电镀形成的隔离层102的厚度可以为1-20纳米。优选地，隔离层102的厚度可以为5纳米。
在本发明实施例中，光催化剂层103可以是二氧化钛TiO2膜层，或者，也可以是混合TiO2以及五氧化二铌Nb2O5等其他光催化剂的膜层。本实施例对光催化剂层103所包含的具体材质不作限定。
在具体实现中，通过电镀形成的光催化剂层103的厚度可以为1-50纳米。优选地，光催化剂层103的厚度可以为10纳米。
在本发明实施例中，盖板玻璃基材还包括多条直升边和R角。因此，还可以通过电镀工艺，在上述盖板玻璃基材的多条直升边和R角处，形成隔离层和光催化剂层。
如图3所示，是本发明一个实施例的一种R角的示意图。可以首先在盖板玻璃基材101的R角104位置处，通过电镀工艺形成一层隔离层102，然后，再次通过电镀工艺在隔离层102外形成一层光催化剂层103。从而使得盖板玻璃基材的R角处也能够被电镀上隔离层和光催化剂层。
对于盖板玻璃基材的多条直升边的处理方式，与对R角及盖板玻璃基材表面的处理方式类似，可以相互参阅，本实施例对此不再赘述。
当光催化剂层103在紫外线、UV光等光照射下时，可以产生超氧自由基，超氧自由基可以对盖板玻璃进行清洁。
例如，若上述盖板玻璃是用作手机等移动终端的盖板玻璃，则在光照射到手机玻璃上的光催化剂层，产生的超氧自由基可以将手机表面及四周装饰圈凹槽内的细菌等有害物质清除，从而起到清洁手机的效果。
需要说明的是，本实施例中的电镀工艺可以是NCVM(Non conductive vacuummetalization，非导电真空镀膜)工艺。
NCVM是一种起缘普通真空电镀的高新技术。它是指金属材料在真空条件下，运用化学、物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜的一种技术。
NCVM的主要特征是结合了传统真空镀膜技术的特性，采用新的镀膜技术、新的材料，做出普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果，起到美化工件表面之功用。采用NCVM技术制出的成品可以通过高压电表几万伏特的高压测试，不导通或不被击穿。正是因为它的不导电性，当采用NCVM工艺的手机或蓝牙耳机收讯或是发射讯号时，产生的电磁场不被导电的镀层所屯积，从而不影响手机的RF(射频)性能以及ESD(静电放电)性能，使得无线产品具有更好的收讯效果，无杂音，也不会对人体产生任何影响。从电性能角度出发，它能够通过导电测试和电子干扰测试。从真空镀膜本身，它能同时保证正常的物理和耐候测试，如附着力、耐磨耗、耐人工汗液、高温高湿储存等。
在本发明实施例中，通过电镀工艺在盖板玻璃基材表面形成一层隔离层，然后在隔离层上再次通过电镀工艺形成一层光催化剂层，从而当光催化剂层在光照射下时，能够产生超氧自由基，以清洁盖板玻璃。当上述盖板玻璃被应用于手机等移动终端的表面时，光催化剂在光照射下产生的超氧自由基能够有效地清除手机表面及四周装饰圈凹槽内的细菌等有害物质，解决了目前手机在长时间使用后容易积累细菌，不易清洁的问题。
参照图4A，示出了本发明一个实施例的一种移动终端的正面示意图之一，移动终端400包括一盖板玻璃410，该盖板玻璃410由盖板玻璃基材及通过电镀工艺形成于上述盖板玻璃基材表面的隔离层和光催化剂层组成。其中，光催化剂层附着于隔离层表面。
在本发明实施例中，盖板玻璃基材可以包括镀膜区和非镀膜区。在盖板玻璃基材表面形成隔离层和光催化剂层时，可以只在盖板玻璃基材表面的镀膜区上形成隔离层和光催化剂层。
在盖板玻璃基材的镀膜区形成隔离层和光催化剂层的过程与上述实施例中的过程类似，可以相互参阅，本实施例对此不再赘述。
在本发明实施例中，当盖板玻璃应用于手机等移动终端时，非镀膜区可以包括盖板玻璃的摄像孔区411、盖板可视区412，和/或，盖板听孔区413。
在对盖板玻璃基材表面进行电镀并形成隔离层和光催化剂层时，可以仅仅对镀膜区电镀，以保证上述摄像孔区411、盖板可视区412，和/或，盖板听孔区413不会被电镀上隔离层和光催化剂层。
在图4A的基础上，参照图4B，示出了本发明一个实施例的一种移动终端的正面示意图之二，移动终端400的盖板玻璃410可以是前盖板玻璃，即设置于移动终端400正面的盖板玻璃。
此时，盖板玻璃基材的非镀膜区可以包括前摄像孔区411a、盖板可视区412和盖板听孔区413。
如图5A所示，是本发明一个实施例的一种移动终端的背面示意图之一。移动终端400还可以包括后盖板玻璃420。后盖板玻璃420包括镀膜区421和非镀膜区422，非镀膜区422可以是移动终端的后摄像孔区。可以通过电镀工艺在镀膜区421上形成隔离层和光催化剂层。
如图5B所示，在对移动终端的后盖板玻璃基材电镀后，可以在镀膜区421上形成隔离层和光催化剂层，并使后摄像孔区422a不被电镀。
需要说明的是，本实施例中前盖板玻璃和后盖板玻璃的多条直升边和R角处，也可以按照上述电镀工艺分别电镀上隔离层和光催化剂层。从而当光催化剂层在光照射下产生超氧自由基时，能够保证所产生的超氧自由基可以清除移动终端整个外表面上的细菌等有害物质。
在本发明实施例中，通过电镀工艺在盖板玻璃基材表面形成一层隔离层，然后在隔离层上再次通过电镀工艺形成一层光催化剂层，并可以将该盖板玻璃应用于手机等移动终端，从而当光催化剂层在光照射下时，能够产生超氧自由基，使得超氧自由基能够有效地清除移动终端表面及四周装饰圈凹槽内的细菌等有害物质，解决了目前手机等移动终端在长时间使用后容易积累细菌，不易清洁的问题。
参照图6，示出了本发明一个实施例的一种制作盖板玻璃的方法，具体可以包括如下步骤：
步骤601，确定盖板玻璃基材的镀膜区和非镀膜区；
需要说明的是，本实施例中的盖板玻璃可以应用于各类终端设备中。例如，智能手机、平板电脑等等。本实施例对移动终端的具体类型不作限定。
在本发明实施例中，根据盖板玻璃所应用的终端设备的不同，其相应的镀膜区和非镀膜区也不同。
例如，当盖板玻璃应用于手机正面时，其基材中非镀膜区可以包括手机正面的摄像孔区、可视区，和/或，听孔区等区域；而对于上述区域之外的其他区域则可以是镀膜区。并且，各个区域的大小也可以根据实际需要确定。本实施例对镀膜区和非镀膜区的位置以及大小不作限定。
步骤602，通过电镀工艺在所述盖板玻璃基材的镀膜区涂覆隔离层；
在本发明实施例中，隔离层可以是二氧化硅SiO2膜层。通过在盖板玻璃基材上涂覆一层SiO2膜层，能够使得盖板玻璃基材上表面更平整更光滑，有助于提供后续涂覆的光催化剂层的附着力。
在本发明实施例中，涂覆的隔离层的厚度可以介于1-20纳米之间。优选地，隔离层的厚度可以为5纳米。
因此，在具体实现中，可以通过电镀工艺在盖板玻璃基材的镀膜区涂覆厚度为1-20纳米的二氧化硅膜层。上述电镀工艺可以为非导电真空镀膜工艺。
步骤603，在所述隔离层表面涂覆光催化剂层，以形成盖板玻璃。
在本发明实施例中，光催化剂层可以为二氧化钛TiO2膜层。因此，在具体实现中，可以通过电镀工艺在上述隔离层表面涂覆厚度为1-50纳米的二氧化钛膜层。上述电镀工艺也可以为非导电真空镀膜工艺。
由于本实施例中步骤601-步骤603中与前述两个实施例中介绍的制作盖板玻璃的方法比较相似，可以相互参阅，本实施例对此不再进行详细介绍。
在本发明实施例中，在确定盖板玻璃基材的镀膜区和非镀膜区后，可以通过电镀工艺在盖板玻璃基材的镀膜区涂覆隔离层，然后在上述隔离层表面涂覆光催化剂层，从而可以形成盖板玻璃。当上述盖板玻璃被应用于手机等移动终端的表面时，光催化剂在光照射下产生的超氧自由基能够有效地清除手机表面及四周装饰圈凹槽内的细菌等有害物质，解决了目前手机在长时间使用后容易积累细菌，不易清洁的问题。
需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。
上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本发明的保护之内。

Claims (10)

1.一种盖板玻璃，应用于移动终端，其特征在于，包括：
盖板玻璃基材；和，
涂覆于所述盖板玻璃基材表面的隔离层和光催化剂层；所述光催化剂层附着于所述隔离层表面。
2.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述盖板玻璃基材包括镀膜区和非镀膜区，所述非镀膜区包括所述盖板玻璃的摄像孔区、盖板可视区，和/或，盖板听孔区。
3.根据权利要求2所述的盖板玻璃，其特征在于，所述盖板玻璃基材包括前盖板玻璃基材和后盖板玻璃基材，当所述盖板玻璃基材为前盖板玻璃基材时，所述非镀膜区包括所述前盖板玻璃的前摄像孔区、盖板可视区和盖板听孔区；当所述盖板玻璃基材为后盖板玻璃基材时，所述非镀膜区包括所述后盖板玻璃的后摄像孔区。
4.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述盖板玻璃基材包括多条直升边和R角，所述多条直升边和R角处涂覆有所述隔离层和光催化剂层。
5.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述隔离层为厚度为1-20纳米的二氧化硅膜层，所述光催化剂层为厚度为1-50纳米的二氧化钛膜层。
6.根据权利要求5所述的盖板玻璃，其特征在于，所述二氧化硅膜层的厚度为5纳米；所述二氧化钛膜层的厚度为10纳米。
7.一种制作盖板玻璃的方法，其特征在于，包括：
确定盖板玻璃基材的镀膜区和非镀膜区；
通过电镀工艺在所述盖板玻璃基材的镀膜区涂覆隔离层；
在所述隔离层表面涂覆光催化剂层，以形成盖板玻璃。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述通过电镀工艺在所述盖板玻璃基材的镀膜区涂覆隔离层，包括：
通过电镀工艺在所述盖板玻璃基材的镀膜区涂覆厚度为1-20纳米的二氧化硅膜层。
9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在所述隔离层表面涂覆光催化剂层，以形成盖板玻璃，包括：
通过电镀工艺在所述隔离层表面涂覆厚度为1-50纳米的二氧化钛膜层。
10.根据权利要求7-9任一所述的方法，其特征在于，所述电镀工艺为非导电真空镀膜工艺。
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