CN113277743A - 盖板及盖板镀膜方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种盖板及盖板镀膜方法，涉及镀膜技术领域，盖板包括透明基材和非导电真空膜；所述透明基材包括相对设置的外表面和内表面；所述非导电真空膜设置在所述外表面上，且所述非导电真空膜的底层为单晶硅层。非导电真空膜设置在透明基材的外表面上，使用者从盖板外侧观看时，非导电真空膜的颜色效果直接反射至人眼内，而不需要透过透明基材，能够降低透明基材对非导电真空膜显示效果的影响，并且由于单晶硅层能够吸收部分颜色的光线，能够将通过盖板内表面透过透明基材的部分颜色的光线吸收，以避免影响非导电真空膜的显示效果，使非导电真空膜的显示效果更加透亮，从而提高盖板对非导电真空膜的显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种盖板及盖板镀膜方法。
背景技术
玻璃盖板广泛应用于手机的后盖上，现有技术中，玻璃盖板的内表面上设置带有颜色的镀膜层，使用者可通过玻璃盖板看到镀膜层的颜色效果。
然而，玻璃能够吸收部分颜色的光线，使用者通过玻璃盖板看到的镀膜效果与镀膜实际效果有较大差距，导致玻璃盖板对镀膜的显示效果不佳。
发明内容
本发明的目的在于提供一种盖板，以解决现有技术中的玻璃盖板对镀膜的显示效果不佳的技术问题。
本发明提供的盖板，包括透明基材和非导电真空膜；
所述透明基材包括相对设置的外表面和内表面；
所述非导电真空膜设置在所述外表面上，且所述非导电真空膜的底层为单晶硅层。
进一步地，所述非导电真空膜的厚度为30－40nm。
进一步地，所述盖板还包括类金刚石膜和抗指纹膜；
所述类金刚石膜设置在所述非导电真空膜上，所述抗指纹膜设置在所述类金刚石膜上。
进一步地，所述类金刚石膜与所述非导电真空膜之间设有二氧化硅层；所述抗指纹膜与所述类金刚石膜之间设有二氧化硅层。
进一步地，类金刚石膜与非导电真空膜之间的二氧化硅层厚度为10－12nm，抗指纹膜与类金刚石膜之间的二氧化硅层厚度为3－5nm。类金刚石膜的厚度为0.8－1nm，抗指纹膜的厚度为25－30nm。
进一步地，所述透明基材为玻璃、宝石、陶瓷中的任一种。
更进一步地，所述透明基材为蚀刻玻璃。
进一步地，所述抗指纹膜为AF膜。
进一步地，所述盖板还包括油墨层；所述油墨层设置在所述内表面上。
进一步地，所述非导电真空膜还包括二氧化硅层和五氧化二铌层；
所述单晶硅层、所述二氧化硅层、所述五氧化二铌层、所述二氧化硅层和所述五氧化二铌层依次设置。
其中，单晶硅层、二氧化硅层、五氧化二铌层、二氧化硅层和五氧化二铌的厚度分别为15－20nm、25－30nm、25－27nm、25－28nm和8－10nm。
本发明的目的还在于提供一种盖板镀膜方法，包括以下步骤：
向透明基材的外表面镀非导电真空膜，并将导电真空膜的底层镀为单晶硅层。
进一步地，还包括以下步骤：
向非导电真空膜上依次镀二氧化硅层和类金刚石膜；向类金刚石膜上依次镀二氧化硅层和抗指纹膜。
进一步地，向透明基材的内表面喷涂油墨层。
本发明提供的盖板，包括透明基材和非导电真空膜；所述透明基材包括相对设置的外表面和内表面；所述非导电真空膜设置在所述外表面上，且所述非导电真空膜的底层为单晶硅层。非导电真空膜设置在透明基材的外表面上，使用者从盖板外侧观看时，非导电真空膜的颜色效果直接反射至人眼内，而不需要透过透明基材，能够降低透明基材对非导电真空膜显示效果的影响，并且非导电真空膜的底层为单晶硅层，由于单晶硅层能够吸收部分颜色的光线，能够将通过盖板内表面透过透明基材的部分颜色的光线吸收，以避免影响非导电真空膜的显示效果，使非导电真空膜的显示效果更加透亮，从而提高盖板对非导电真空膜的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的盖板的结构示意图。
图标：1－抗指纹膜；2－类金刚石膜；3－非导电真空膜；4－透明基材；5－油墨层。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供了一种盖板及盖板镀膜方法，下面给出多个实施例对本发明提供的盖板及盖板镀膜方法进行详细描述。
实施例1
本实施例提供的盖板，如图1所示，包括透明基材4和非导电真空膜3；透明基材4包括相对设置的外表面和内表面；非导电真空膜3设置在外表面上，且非导电真空膜3的底层为单晶硅层。
其中，透明基材4可以为玻璃、宝石或陶瓷等任意适合的形式。
盖板用于设置在安装基件上，其中盖板的内表面用于朝向安装基件设置，盖板的外表面用于背离安装基件设置。
本实施例中的盖板可用于设置在手机的后盖板上，其中盖板的内表面为凹面，盖板的外表面为凸面。
非导电真空膜3可利用磁控溅射镀膜工艺设置在盖板的外表面上。
非导电真空膜3设置在透明基材4的外表面上，使用者从盖板外侧观看时，非导电真空膜3的颜色效果直接反射至人眼内，而不需要透过透明基材4，能够降低透明基材4对非导电真空膜3显示效果的影响，并且非导电真空膜3的底层为单晶硅层，由于单晶硅层能够吸收部分颜色的光线(波长为400nm－1000nm的光线)，能够将通过盖板内表面透过透明基材4的部分颜色的光线吸收，以避免影响非导电真空膜3的显示效果，使非导电真空膜3的显示效果更加透亮，从而提高盖板对非导电真空膜3的显示效果。
本实施例中的盖板用于设置在手机的后盖板上时，非导电真空膜3为金属质感状时，盖板能够更好地显示金属质感。并且在盖板的摄像孔位置处，由于能够更好的显示金属质感，盖板的摄像孔位置处的立体感较强。
非导电真空膜3的英文缩写为NCVM，英文全称为NCVMelectroless plating。
进一步地，盖板还包括类金刚石膜2和抗指纹膜1；类金刚石膜2设置在非导电真空膜3上，抗指纹膜1设置在类金刚石膜2上。
类金刚石涂膜的英文全称为Diamond like Carbon，简称DLC，是含有金刚石结构和石墨结构的亚稳非晶态物质。
类金刚石膜2能够对非导电真空膜3进行保护，防止非导电真空膜3磨损，从而提高使用寿命。
进一步地，类金刚石膜2与非导电真空膜3之间设有二氧化硅层；抗指纹膜1与类金刚石膜2之间设有二氧化硅层。
由于类金刚石膜2的厚度相对较薄，对比基材的洁净度要求较高，因此在非导电真空膜3上镀二氧化硅层为类金刚石膜2充当打底，在保证洁净度的同时又可以增加膜层附着力。
同理，由于抗指纹膜1的厚度相对较薄，对比基材的洁净度要求较高，因此在类金刚石膜2上镀二氧化硅层为类金刚石膜2充当打底，在保证洁净度的同时又可以增加膜层附着力。
本实施例中，类金刚石膜2与非导电真空膜3之间的二氧化硅层厚度为10nm－12nm，抗指纹膜1与类金刚石膜2之间的二氧化硅层厚度为3nm－5nm。类金刚石膜2的厚度为0.8nm－1nm，抗指纹膜1的厚度为25nm－30nm。
透明基材4可以为玻璃、宝石、陶瓷中的任一种。
透明基材4为光面玻璃时，抗指纹膜1可以为AF膜。AF是Anti－Fingerprint的缩写，字面意思是抗指纹膜，表示的是一种能力，具备抗指纹效果，抗污能力强，且易清洁。
进一步地，透明基材4为蚀刻玻璃。
蚀刻玻璃即AG玻璃，AG是Anti－glare glass的缩写，也称为防眩光玻璃。
进一步地，抗指纹膜1包括隐形抗指纹膜1。
隐形抗指纹膜1即IF膜，全称为invisible Fingerprint，主要成分为全氟醚。光照射在有指纹的IF膜表面，可有效穿越，因指纹而形成的反射光较少，故而看不见指纹。
AG玻璃的粗糙面存在光的漫反射(肉眼看到玻璃表面清晰度差)结和IF膜隐形指纹膜，指纹和汗渍油污不易被看见。
进一步地，盖板还包括油墨层5；油墨层5设置在内表面上。
其中，油墨本身不透光，油墨反射光颜色透过透明基材4再结合非导电真空膜3后，可以提高非导电真空膜3颜色的质感，给非导电真空膜3增加了亮度和金属质感。
本实施例中，非导电真空膜3的厚度为30nm－40nm。
进一步地，非导电真空膜3还包括二氧化硅层和五氧化二铌层；单晶硅层、二氧化硅层、五氧化二铌层、二氧化硅层和五氧化二铌层依次设置。
其中，单晶硅层、二氧化硅层、五氧化二铌层、二氧化硅层和五氧化二铌的厚度可以为15nm－20nm、25nm－30nm、25nm－27nm、25nm－28nm和8nm－10nm。
本实施例提供的盖板，非导电真空膜3设置在透明基材4的外表面上，使用者从盖板外侧观看时，非导电真空膜3的颜色效果直接反射至人眼内，而不需要透过透明基材4，能够降低透明基材4对非导电真空膜3显示效果的影响，并且非导电真空膜3的底层为单晶硅层，由于单晶硅层能够吸收部分颜色的光线，能够将通过盖板内表面透过透明基材4的部分颜色的光线吸收，以避免影响非导电真空膜3的显示效果，使非导电真空膜3的显示效果更加透亮，从而提高盖板对非导电真空膜3的显示效果。
实施例2
本实施例提供的盖板镀膜方法，包括以下步骤：
向透明基材4的外表面镀非导电真空膜3，并将导电真空膜的底层镀为单晶硅层。
非导电真空膜3设置在透明基材4的外表面上，使用者从盖板外侧观看时，非导电真空膜3的颜色效果直接反射至人眼内，而不需要透过透明基材4，能够降低透明基材4对非导电真空膜3显示效果的影响，并且非导电真空膜3的底层为单晶硅层，由于单晶硅层能够吸收部分颜色的光线，能够将通过盖板内表面透过透明基材4的部分颜色的光线吸收，以避免影响非导电真空膜3的显示效果，使非导电真空膜3的显示效果更加透亮，从而提高盖板对非导电真空膜3的显示效果。
进一步地，还包括以下步骤：
向非导电真空膜3上依次镀二氧化硅层和类金刚石膜2；向类金刚石膜2上依次镀二氧化硅层和抗指纹膜1。
类金刚石涂膜的英文全称为Diamond like Carbon，简称DLC，是含有金刚石结构和石墨结构的亚稳非晶态物质。
类金刚石膜2能够对非导电真空膜3进行保护，防止非导电真空膜3磨损，从而提高使用寿命。
由于类金刚石膜2的厚度相对较薄，对比基材的洁净度要求较高，因此在非导电真空膜3上镀二氧化硅层为类金刚石膜2充当打底，在保证洁净度的同时又可以增加膜层附着力。
同理，由于抗指纹膜1的厚度相对较薄，对比基材的洁净度要求较高，因此在类金刚石膜2上镀二氧化硅层为类金刚石膜2充当打底，在保证洁净度的同时又可以增加膜层附着力。
进一步地，向透明基材4的内表面设置油墨层5。
油墨本身不透光，油墨反射光颜色透过透明基材4再结合非导电真空膜3后，可以提高非导电真空膜3颜色的质感，给非导电真空膜3增加了亮度和金属质感。
本实施例提供的盖板镀膜方法，可按以下步骤进行：
准备蚀刻玻璃基材，粗糙程度在1000－1500，采用超声波清洗机清洗后，使用保护膜粘附固定透明基材4的内表面；
将蚀刻玻璃基材使用双面高温胶粘附玻璃于挂板上，内表面朝下，外表面朝上为待镀膜区域，机械手壁搬运挂板至成膜腔，真空度达到1.0＊10－3Pa后，选择工艺膜系开始成膜；
将镀膜NCVM层后的产品从溅射机取出后，再次使用超声波清洗机清洗，后镀膜DLC层以及IF层；
将完成的镀膜的样品进行喷涂油墨处理，并使用超声波清洗机清洗。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种盖板，其特征在于，包括透明基材和非导电真空膜；
所述透明基材包括相对设置的外表面和内表面；
所述非导电真空膜设置在所述外表面上，且所述非导电真空膜的底层为单晶硅层。
2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述盖板还包括类金刚石膜和抗指纹膜；
所述类金刚石膜设置在所述非导电真空膜上，所述抗指纹膜设置在所述类金刚石膜上。
3.根据权利要求2所述的盖板，其特征在于，所述类金刚石膜与所述非导电真空膜之间设有二氧化硅层；所述抗指纹膜与所述类金刚石膜之间设有二氧化硅层。
4.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述透明基材为蚀刻玻璃。
5.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述抗指纹膜为AF膜。
6.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述盖板还包括油墨层；所述油墨层设置在所述内表面上。
7.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述非导电真空膜还包括二氧化硅层和五氧化二铌层；
所述单晶硅层、所述二氧化硅层、所述五氧化二铌层、所述二氧化硅层和所述五氧化二铌层依次设置。
8.一种盖板镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：
向透明基材的外表面镀非导电真空膜，并将导电真空膜的底层镀为单晶硅层。
9.根据权利要求8所述的盖板镀膜方法，其特征在于，还包括以下步骤：
向非导电真空膜上依次镀二氧化硅层和类金刚石膜；向类金刚石膜上依次镀二氧化硅层和抗指纹膜。
10.根据权利要求8所述的盖板镀膜方法，其特征在于，向透明基材的内表面喷涂油墨层。
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