CN108048803A - 一种镜片镀膜方法 - Google Patents
一种镜片镀膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108048803A CN108048803A CN201711353324.3A CN201711353324A CN108048803A CN 108048803 A CN108048803 A CN 108048803A CN 201711353324 A CN201711353324 A CN 201711353324A CN 108048803 A CN108048803 A CN 108048803A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- film layer
- eyeglass
- electron beam
- vacuum chamber
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0694—Halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明公开一种镜片镀膜方法，其包括以下步骤：步骤1：清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内；步骤2：对真空腔室抽真空；步骤3：加硬膜层：步骤4：将加硬处理后的镜片进行退火处理，步骤5：将退火处理后的镜片基片进行离子轰击清洗步骤6：制备变色材料薄膜层，步骤7：制备金属氧化物膜层，步骤8：制备氟化物膜层，步骤9：解除真空取出镜片。本发明的优点在于蒸发材料不受限制，蒸发速率高，而且蒸发速率和电子束聚集调节方便，并且在蒸发材料局部熔化时，蒸发材料不与真空腔室发生方应，保证膜料纯度较高。
Description
技术领域
本发明涉及镜片技术领域，尤其涉及一种镜片镀膜方法。
背景技术
随着光学产品的发展，光学镜片的应用范围越来越广。在镜片表面镀制光学薄膜系光学薄膜技术应用范围之一，镜片经过不同的镀膜处理后，可以形成减少反射光、截止紫外线、阻挡红外线、防水、防雾、防雾、防腐蚀、耐摩擦及彩色装饰、光致变色等多种效果，为人们的工作和生活带来新的价值，这种眼镜片也叫加膜镜片或镀膜眼镜片。近年来，随着人们消费水平的不断提高，各种镀膜眼镜片愈来愈受消费者的青睐，市场行情日益走俏。
镀膜工序为后续处理中的重要步骤之一，镀膜是指以物理或化学方法在光学元件表面镀上单层或多层薄膜，利用入射、反射及透射光线在薄膜界面产生的干涉作用实现聚焦、准直、滤光、反射及折射等效果。现有的镜片基本采用塑料或者树脂镜片进行镀膜，制成的镜片容易磨损，且镀膜完成后镜片的透射率可以达到90%左右，但是很难达到98%以上，清晰度不高。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种镜片镀膜方法。
本发明采用的技术方案是：
一种镜片镀膜方法，其包括以下步骤：
步骤1：清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内；
步骤2：对真空腔室抽真空；使得真空度不高于3×10-7 Pa，
步骤3：加硬膜层：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，保持真空腔室内加硬处理温度为115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟 ，
步骤4：退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
步骤5：二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟，
步骤6：变色材料薄膜层的制备，保持真空腔室的真空度达到2×10-7Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在加硬膜层的表面上蒸镀一层变色材料薄膜，关闭电子束枪；
步骤7：金属氧化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到2×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在减反射膜层的表面上蒸镀金属氧化物膜层，关闭电子束枪；
步骤8：氟化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到3×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7.0Å/S；调节束流，在金属氧化物膜层的表面上蒸镀氟化物膜层，关闭电子束枪；
步骤9：解除真空：关闭分子泵，开启进气阀，通入空气，取出镜片。
进一步地，步骤1中采用酒精溶剂或超声波清洗镜片表面。
进一步地，步骤1具体包括以下步骤：
步骤1-1:为了去除树脂镜片基体表面的有机物，先用双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25min后用去离子水清洗；
步骤1-2:把镜片基体先后放入丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水中超声30min，以提高树脂镜片基体表面活性，从而增加薄膜与树脂镜片基体材料的结合力；
步骤1-3:清洗结束后将树脂镜片基体置于烘箱干燥，干燥后固定在基片台上，然后将基片台旋紧在真空腔室的转盘上。
进一步地，步骤1-1中双氧水和浓硫酸的体积比为3：1。
本发明采用以上技术方案，薄膜厚度一般为几十到几百纳米，薄膜厚度大小与蒸发源的速率和时间，并于源和基片距离有关，由于是大面积镀膜，为保证膜层厚度的均匀性，采用旋转基片的方式镀膜。
此外在镀膜之前需进行离子轰击清洗，其机理主要依靠等离子体中的活性粒子的活化作用达到去除物体表面污溃的目的，等离子清洗具有如下特点：容易采 用数控技术，自动化程度高，具有高精度的控制装置，时间控制精度高。
本发明的优点在于蒸发材料不受限制，蒸发速率高，而且蒸发速率和电子束聚集调节方便，并且在蒸发材料局部熔化时，蒸发材料不与真空腔室发生方应，保证膜料纯度较高。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明；
图1为本发明一种镜片镀膜方法的流程示意图；
图2为本发明一种镜片镀膜方法的镜片清洗流程示意图。
具体实施方式
如图1或2所示，本发明公开了一种镜片镀膜方法，其包括以下步骤：
步骤1：清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内；
步骤2：对真空腔室抽真空；使得真空度不高于3×10-7 Pa，
步骤3：加硬膜层：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，保持真空腔室内加硬处理温度为115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟 ；
步骤4：退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
步骤5：二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；
步骤6：变色材料薄膜层的制备，保持真空腔室的真空度达到2×10-7Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在加硬膜层的表面上蒸镀一层变色材料薄膜，关闭电子束枪；
步骤7：金属氧化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到2×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在减反射膜层的表面上蒸镀金属氧化物膜层，关闭电子束枪；
步骤8：氟化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到3×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7.0Å/S；调节束流，在金属氧化物膜层的表面上蒸镀氟化物膜层，关闭电子束枪；
步骤9：解除真空：关闭分子泵，开启进气阀，通入空气，取出镜片。
进一步地，步骤1中采用酒精溶剂或超声波清洗镜片表面。
进一步地，步骤1具体包括以下步骤：
步骤1-1:为了去除树脂镜片基体表面的有机物，先用双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25min后用去离子水清洗；
步骤1-2:把镜片基体先后放入丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水中超声30min，以提高树脂镜片基体表面活性，从而增加薄膜与树脂镜片基体材料的结合力；
步骤1-3:清洗结束后将树脂镜片基体置于烘箱干燥，干燥后固定在基片台上，然后将基片台旋紧在真空腔室的转盘上。
进一步地，步骤1-1中双氧水和浓硫酸的体积比为3：1。
本发明采用以上技术方案，薄膜厚度一般为几十到几百纳米，薄膜厚度大小与蒸发源的速率和时间，并于源和基片距离有关，由于是大面积镀膜，为保证膜层厚度的均匀性，采用旋转基片的方式镀膜。
此外在镀膜之前需进行离子轰击清洗，其机理主要依靠等离子体中的活性粒子的活化作用达到去除物体表面污溃的目的，等离子清洗具有如下特点：容易采 用数控技术，自动化程度高，具有高精度的控制装置，时间控制精度高。
本发明的优点在于蒸发材料不受限制，蒸发速率高，而且蒸发速率和电子束聚集调节方便，并且在蒸发材料局部熔化时，蒸发材料不与真空腔室发生方应，保证膜料纯度较高。
Claims (4)
1.一种镜片镀膜方法，其特征在于：其包括以下步骤：
步骤1：清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内；
步骤2：对真空腔室抽真空；使得真空度不高于3×10-7 Pa，
步骤3：加硬膜层：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，保持真空腔室内加硬处理温度为115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟 ；
步骤4：退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
步骤5：二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；
步骤6：变色材料薄膜层的制备，保持真空腔室的真空度达到2×10-7Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在加硬膜层的表面上蒸镀一层变色材料薄膜，关闭电子束枪；
步骤7：金属氧化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到2×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在减反射膜层的表面上蒸镀金属氧化物膜层，关闭电子束枪；
步骤8：氟化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到3×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7.0Å/S；调节束流，在金属氧化物膜层的表面上蒸镀氟化物膜层，关闭电子束枪；
步骤9：解除真空：关闭分子泵，开启进气阀，通入空气，取出镜片。
2.根据权利要求1所述的一种镜片镀膜方法，其特征在于：步骤1中采用酒精溶剂或超声波清洗镜片表面。
3.根据权利要求2所述的一种镜片镀膜方法，其特征在于：步骤1具体包括以下步骤：
步骤1-1:为了去除树脂镜片基体表面的有机物，先用双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25min后用去离子水清洗；
步骤1-2:把镜片基体先后放入丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水中超声30min，以提高树脂镜片基体表面活性，从而增加薄膜与树脂镜片基体材料的结合力；
步骤1-3:清洗结束后将树脂镜片基体置于烘箱干燥，干燥后固定在基片台上，然后将基片台旋紧在真空腔室的转盘上。
4.根据权利要求3所述的一种镜片镀膜方法，其特征在于：步骤1-1中双氧水和浓硫酸的体积比为3：1。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711353324.3A CN108048803A (zh) | 2017-12-15 | 2017-12-15 | 一种镜片镀膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711353324.3A CN108048803A (zh) | 2017-12-15 | 2017-12-15 | 一种镜片镀膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108048803A true CN108048803A (zh) | 2018-05-18 |
Family
ID=62132840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201711353324.3A Pending CN108048803A (zh) | 2017-12-15 | 2017-12-15 | 一种镜片镀膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108048803A (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020048015A1 (zh) * | 2018-09-07 | 2020-03-12 | 苏州马谷光学有限公司 | 一种新型镀膜光学镜片 |
| CN111962026A (zh) * | 2020-07-30 | 2020-11-20 | 苏州瑞康真空科技有限公司 | 一种眼镜片的镀膜方法 |
| CN112573185A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-03-30 | 江苏工大金凯高端装备制造有限公司 | 一种树脂镜片加硬镀膜装夹自动化工艺 |
| CN115505879A (zh) * | 2022-09-30 | 2022-12-23 | 广州市博泰光学科技有限公司 | 一种光学镜片镀膜方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2862060Y (zh) * | 2005-12-13 | 2007-01-24 | 上海伟星光学有限公司 | 一种具有防眩目夜视的树脂变色镜片 |
| CN105866975A (zh) * | 2016-05-17 | 2016-08-17 | 江苏淘镜有限公司 | 变色树脂眼镜片及其制备方法 |
| CN106903912A (zh) * | 2017-02-22 | 2017-06-30 | 江苏康耐特光学有限公司 | 一种变色偏光树脂镜片的制备方法 |
-
2017
- 2017-12-15 CN CN201711353324.3A patent/CN108048803A/zh active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2862060Y (zh) * | 2005-12-13 | 2007-01-24 | 上海伟星光学有限公司 | 一种具有防眩目夜视的树脂变色镜片 |
| CN105866975A (zh) * | 2016-05-17 | 2016-08-17 | 江苏淘镜有限公司 | 变色树脂眼镜片及其制备方法 |
| CN106903912A (zh) * | 2017-02-22 | 2017-06-30 | 江苏康耐特光学有限公司 | 一种变色偏光树脂镜片的制备方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020048015A1 (zh) * | 2018-09-07 | 2020-03-12 | 苏州马谷光学有限公司 | 一种新型镀膜光学镜片 |
| CN111962026A (zh) * | 2020-07-30 | 2020-11-20 | 苏州瑞康真空科技有限公司 | 一种眼镜片的镀膜方法 |
| CN112573185A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-03-30 | 江苏工大金凯高端装备制造有限公司 | 一种树脂镜片加硬镀膜装夹自动化工艺 |
| CN115505879A (zh) * | 2022-09-30 | 2022-12-23 | 广州市博泰光学科技有限公司 | 一种光学镜片镀膜方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108048803A (zh) | 一种镜片镀膜方法 | |
| TWI547712B (zh) | A method for manufacturing anti - blue optical lens | |
| CN105866975A (zh) | 变色树脂眼镜片及其制备方法 | |
| CN108342699B (zh) | 综合沉积镀膜设备及综合镀膜方法 | |
| WO2015180457A1 (zh) | 一种防蓝光的手机屏幕盖板及其制造方法 | |
| CN105859153A (zh) | 一种防雾减反射可见光双功能镀膜玻璃及其制备方法 | |
| CN115368031A (zh) | 硫系玻璃8-12um波段高耐久性增透膜的制备方法 | |
| CN105866976A (zh) | 防紫外线镜片结构及其制备方法 | |
| CN107144898A (zh) | 光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法 | |
| CN114114475B (zh) | 一种用于硒化锌基片的高附着力高表面质量的增透膜及其制备方法和应用 | |
| CN108070827A (zh) | 一种镜片分层镀膜方法 | |
| CN103407232A (zh) | 离线减反射镀膜玻璃及其制造方法 | |
| CN104834025B (zh) | 一种基于纳米刻蚀的日盲紫外增透膜 | |
| CN107099779A (zh) | 一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的iad镀制方法 | |
| CN111286700B (zh) | 基于混合物单层膜的光学镀膜元件面形补偿方法 | |
| CN105506554B (zh) | 一种可见光/红外波段纳米光学吸收涂层及其制备方法 | |
| CN215375990U (zh) | 一种凹凸状低uv反射膜层设计的镜片 | |
| JP2003014904A (ja) | 撥水性薄膜を有する光学部材の製造方法 | |
| CN216817106U (zh) | 一种高近红外反射增透膜设计的镜片 | |
| CN104402244B (zh) | 一种真空镀银膜玻璃及其制备工艺 | |
| CN210624437U (zh) | 一种带减反射薄膜的led玻璃灯罩 | |
| CN203287550U (zh) | 一种近红外减反射增透膜 | |
| CN112578481A (zh) | 一种大角度中长波红外增透保护膜及其制备方法 | |
| JPH0214300B2 (zh) | ||
| CN108710163B (zh) | 一种熔石英表面镀聚乙烯醇涂层、制备方法以及应用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20180518 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |