CN108027527A - 显示装置、显示装置的亮度缺陷修正方法以及亮度缺陷修正装置 - Google Patents
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Abstract
目的在于提供一种能够抑制因亮度缺陷引起的显示质量的降低的显示装置及其制造方法和制造装置。该显示装置包括:第一基板(SUB1),其是在第一玻璃基板(GB1)形成栅极线(GL)、数据线(DL)、像素电极(PIT)及公共电极(CIT)而成的;以及第二基板(SUB2),其是在第二玻璃基板(GB2)形成多个光透过部(CF)及遮光部(BM)而成的,其中,在第一玻璃基板(GB1)或第二玻璃基板(GB2)的内部形成有用于使光的透过量减少的包括多个减光区域(20)的减光部(10),通过以在俯视观察时与混入的异物(33)重叠的方式形成的减光部(10)来减少来自亮度缺陷的光的透过量从而抑制显示质量的降低。
Description
技术领域
本发明涉及一种显示装置、显示装置的亮度缺陷修正方法以及亮度缺陷修正装置。
背景技术
在各种显示装置中的例如液晶显示装置中,对由一对基板夹持的液晶层施加在像素电极与公共电极之间产生的电场来驱动液晶,由此对透过像素电极与公共电极之间的区域的光的量进行调整来进行图像显示。
以往,例如在液晶显示装置中已知以下的所谓的亮度缺陷(也称为像素缺陷。)的问题:像素的显示亮度高于期望的亮度。例如,由于在液晶显示装置的制造工序中异物混入到一对基板间,因该异物而液晶的取向发生紊乱或者像素电极与公共电极之间发生短路,因此产生亮度缺陷。
例如在专利文献1中公开了对上述亮度缺陷进行修正的方法。
在专利文献1的方法中,向异物的周缘部分的公共电极照射激光,来使异物所接触的公共电极与其它电路分离。
专利文献1:日本特开2009-080163号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,在专利文献1的方法中,向公共电极照射激光来使公共电极受到破坏,因此可能产生在破坏时电极材料飞散、或者热能对其它电路带来不良影响的问题。因此,特别是在进行了高清晰化的近年来的显示装置中,以往的方法存在由于破坏周边电路因此周边像素的显示精度降低的情况,即使能够使因亮度缺陷所致的显示质量提高,也难以维持显示装置整体的显示质量。
本发明是鉴于上述实际情况而完成的,其目的在于提供一种能够在维持显示装置整体的显示质量的同时抑制因亮度缺陷引起的显示质量的降低的显示装置、显示装置的制造方法以及制造装置。
用于解决问题的方案
为了达到上述目的,本发明所涉及的显示装置包括:第一基板,其是在第一玻璃基板形成多个信号线和显示用电极而成的;以及第二基板,其是在第二玻璃基板形成多个光透过部和遮光部而成的,该显示装置具有亮度缺陷,其中,该显示装置具有减光部,该减光部形成于所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板中的至少一个玻璃基板的内部,所述减光部是将多个减光区域排列而成的,所述多个减光区域的光的透过率低于形成有所述减光部的所述第一玻璃基板或所述第二玻璃基板的光的透过率,所述减光部形成为在俯视观察时与作为所述亮度缺陷的起因物的异物重叠。
在本发明所涉及的显示装置中,其特征在于,各个所述减光区域具备与邻接的所述减光区域叠加的区域。
在本发明所涉及的显示装置中,其特征在于,所述减光部是将作为所述亮度缺陷的起因物的异物的形状放大投影所得到的形状。
在本发明所涉及的显示装置中,其特征在于,所述减光部包括将所述多个减光区域以平面方式排列而成的减光层,沿形成有所述减光部的所述第一玻璃基板或所述第二玻璃基板的厚度方向形成有多个所述减光层。
在本发明所涉及的显示装置中,其特征在于,所述多个减光层包括第一减光层和第二减光层,在靠近作为所述亮度缺陷的起因物的异物的位置形成的所述第一减光层是比在离所述异物远的位置形成的所述第二减光层小的形状。
在本发明所涉及的显示装置中,其特征在于,形成所述第二减光层的所述多个减光区域的各个减光区域的中心与形成所述第一减光层的所述多个减光区域的各个减光区域的中心相分离。
在本发明所涉及的显示装置中,其特征在于,形成所述第一减光层的各个减光区域的体积比形成所述第二减光层的各个减光区域的体积小。
本发明所涉及的亮度缺陷修正方法的特征在于,包括以下工序:检查工序,进行显示面板的点亮检查来检测亮度缺陷;检测工序,检测所述亮度缺陷的位置和形状;运算工序,基于在所述检测工序中检测出的所述亮度缺陷来运算减光部的形成区域的位置和形状;以及形成工序,向玻璃基板上的所述减光部的形成区域的一部分照射能量束,来形成包括多个减光区域的所述减光部,所述多个减光区域的光的透过率低于所述玻璃基板的光的透过率。
在本发明所涉及的亮度缺陷修正方法中,其特征在于,将所述检查工序至所述形成工序重复进行,直到不再检测出所述亮度缺陷为止。
在本发明所涉及的亮度缺陷修正方法中,其特征在于,在所述形成工序中,形成包含多个减光层的所述减光部,所述减光层是将所述多个减光区域以平面方式排列而成的,在所述减光部中包括第一减光层和第二减光层,形成所述第一减光层的减光区域相比于形成所述第二减光层的减光区域而言由低功率的脉冲激光形成,其中,所述第二减光层与所述第一减光层相比离所述亮度缺陷的起因物较远。
在本发明所涉及的亮度缺陷修正方法中,其特征在于,形成所述第一减光层的减光区域相比于形成所述第二减光层的减光区域而言由低峰值强度的脉冲激光形成。
在本发明所涉及的亮度缺陷修正方法中,其特征在于,形成所述第一减光层的减光区域相比于形成所述第二减光层的减光区域而言由波长较长的脉冲激光形成。
本发明所涉及的亮度缺陷修正装置具备:检测装置,其将显示装置点亮来检测所述显示装置的亮度缺陷;运算装置,其基于检测出的所述亮度缺陷的位置、形状来运算形成减光部的形成区域,所述减光部包括多个减光区域;能量束振荡器,其射出用于形成所述减光区域的能量束;狭缝,其将所述能量束在空间上传输到要形成所述减光区域的位置;聚光透镜,其用于对所述能量束进行聚光;以及驱动装置,其使所述能量束的照射区域与所述显示装置相对移动。
本发明所涉及的亮度缺陷修正装置的特征在于,所述能量束振荡器产生1ps以下的脉冲激光。
本发明所涉及的亮度缺陷修正装置的特征在于,所述能量束振荡器能够振荡出多个波长的能量束并选择为了形成所述减光区域而照射的所述能量束的波长。
本发明所涉及的亮度缺陷修正装置的特征在于,还具备束分离器,该束分离器将通过了所述狭缝的所述能量束分支或分割为多个能量束,分支或分割所得到的各个能量束通过所述聚光透镜进行聚光,各个能量束的焦点彼此重合。
由此,能够抑制显示装置中的亮度缺陷的产生。
发明的效果
本发明通过在显示装置内形成包括多个减光区域的减光部,能够抑制由于混入到显示装置内的异物所致的偏光的紊乱而无法进行显示装置的显示光量(来自背光源(backlight)的透过光量)的控制所产生的显示质量(亮度缺陷)的降低。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式所涉及的液晶显示装置的整体结构的图。
图2是显示面板的局部结构的俯视图。
图3是在图2的A1-A2线处截断所得到的截面图。
图4是示意性地表示亮度缺陷的一例的截面图。
图5是表示具有本发明的液晶显示装置中的减光部的像素的结构的截面图。
图6是表示具有本发明的液晶显示装置中的减光部的像素的其它结构的截面图。
图7是本发明的液晶显示装置所涉及的减光区域以存在叠加的方式排列的情况下的放大示意图。
图8是表示具有本发明的液晶显示装置中的减光部的像素的结构的顶视图。
图9是表示本发明的液晶显示装置中的减光部的结构的放大示意图。
图10是表示具有本发明的液晶显示装置中的减光部的像素的结构的顶视图。
图11是表示本发明的液晶显示装置中的减光部的结构的放大示意图。
图12是表示本发明的液晶显示装置中的减光部的结构的放大示意图。
图13是表示本发明的液晶显示装置中的亮度缺陷的修正方法的流程图。
图14是表示本发明的液晶显示装置中的亮度缺陷的修正方法的其它流程图。
图15是表示本发明的液晶显示装置中的制造装置的结构的示意图。
图16是表示本发明的液晶显示装置中的制造装置的其它结构的示意图。
具体实施方式
下面,参照附图来说明本发明的实施方式。
在下面的实施方式中,列举液晶显示装置为例,但是本发明所涉及的显示装置并不限定于液晶显示装置,例如也可以是有机EL显示装置等。
图1是表示本实施方式所涉及的液晶显示装置的整体结构的俯视图。
液晶显示装置LCD包括:显示面板DP,其用于显示图像;驱动电路(数据线驱动电路30、栅极线驱动电路31),其对显示面板DP进行驱动;控制电路(未图示),其对驱动电路进行控制;以及背光源装置37(参照图3),其从显示面板DP的背面侧向显示面板DP照射光。
图2是表示显示面板DP的局部结构的俯视图。图3是在图2的A1-A2线处截断所得到的截面图。此外,在图2和图3中,示出了一个像素P。
显示面板DP包括:薄膜晶体管基板SUB1(以下称为TFT基板SUB1。),其配置于显示面板DP的背面侧;彩色滤光片基板SUB2(以下称为CF基板SUB2。),其配置于显示面板DP的显示面侧,与TFT基板SUB1相向;以及液晶层LC,其被夹持于TFT基板SUB1与CF基板SUB2之间。TFT基板SUB1为第一基板,CF基板SUB2为第二基板。
在TFT基板SUB1中形成有沿列方向延伸的多个数据线DL以及沿行方向延伸的多个栅极线GL,在多个数据线DL与多个栅极线GL的各个交叉部附近形成有薄膜晶体管TFT。另外,由相邻的两条数据线DL与相邻的两条栅极线GL包围的矩形区域被规定为一个像素P。在TFT基板SUB1中,多个像素P被配置为矩阵状。
在像素P中形成有由掺锡氧化铟(ITO)等透光性导电膜构成的像素电极PIT(显示用电极)。如图2所示,像素电极PIT具有开口部32(例如狭缝),像素电极PIT被形成为条状。薄膜晶体管TFT在栅极绝缘膜GSN(参照图3)上形成有由无定形硅(aSi)构成的半导体层SEM,在半导体层SEM上形成有漏极电极DM和源极电极SM(参照图2)。漏极电极DM与数据线DL电连接。源极电极SM与像素电极PIT经由接触孔CONT而彼此电连接。
构成像素P的各部的层叠结构并不限定于图3的结构,能够应用众所周知的结构。例如在图3所示的结构中,在TFT基板SUB1中,在玻璃基板GB1上形成有栅极线GL(参照图2),以覆盖栅极线GL的方式形成有栅极绝缘膜GSN。另外,在栅极绝缘膜GSN上形成有数据线DL,以覆盖数据线DL的方式形成有绝缘膜PAS。另外,在绝缘膜PAS上形成有公共电极CIT(显示用电极),以覆盖公共电极CIT的方式形成有上层绝缘膜UPAS。并且,在上层绝缘膜UPAS上形成有像素电极PIT,以覆盖像素电极PIT的方式形成有取向膜AF。在玻璃基板GB1的背面侧形成有偏光片POL1(第一偏光片)。
另外,在CF基板SUB2中,在玻璃基板GB2上形成有黑色矩阵BM(遮光部)和彩色滤光片CF(例如红色部、绿色部、蓝色部)(光透过部),以覆盖它们的方式形成有保护层OC。在玻璃基板GB2的显示面侧形成有偏光片POL2(第二偏光片)。
根据图3所示的结构,液晶显示装置LCD具有所谓的IPS(In Plane Switching:平面转换)方式的结构,但是本实施方式所涉及的液晶显示装置不限定于此。
接着,简单地说明液晶显示装置LCD的驱动方法。
从栅极线驱动电路输出的扫描用的栅极电压被供给到栅极线GL,从数据线驱动电路输出的影像用的数据电压被供给到数据线DL。当向栅极线GL供给栅极接通电压时,薄膜晶体管TFT的半导体层SEM成为低电阻,供给到数据线DL的数据电压经由源极电极SM被供给到像素电极PIT。另外,从公共电极驱动电路(未图示)输出的公共电压被供给到公共电极CIT。由此,在像素电极PIT与公共电极CIT之间产生电场(驱动用电场),利用该电场驱动液晶层LC,来显示图像。
在此,液晶显示装置LCD有时在其制造工序中产生像素的显示亮度高于期望的亮度的亮度缺陷。在图4中示出了像素P为亮度缺陷的情况的一例。
在图4中例示了在液晶显示装置LCD的制造工序中在TFT基板SUB1与CF基板SUB2之间混入了有机物、金属等异物的情况。在图4所示的像素P中,由于异物(混入物)33而扰乱液晶的取向,由此产生背光34的漏光从而形成为亮度缺陷。
在本实施方式所涉及的液晶显示装置LCD中,具有用于抑制上述亮度缺陷的结构。具体地说,如图5所示,在CF基板SUB2的玻璃基板GB2的内部形成用于使背光34透过的透过量减少的减光部10。减光部10是在玻璃基板GB2的内部的一部分中与异物33的大小相应地将多个减光区域20隔开间隔地以平面方式排列来构成的。
通过使玻璃基板GB2局部着色,将减光区域20加工为通过减光区域20的背光34的透过率低于通过减光区域20周围的玻璃基板GB2的背光34的透过率。
或者,通过使玻璃基板GB2局部相变,将减光区域20加工为通过减光区域2的背光34的透过率低于通过减光区域20周围的玻璃基板GB2的背光34的透过率。
此外,将减光区域20隔开间隔地以平面方式排列,但是也能够将邻接的减光区域20相互接触地以平面方式配置来形成减光部10。
能够通过在显示面板DP的外部从偏光片POL2侧朝向玻璃基板GB2照射能量束来形成减光区域20。
图6表示在本实施方式所涉及的液晶显示装置LCD中用于抑制上述亮度缺陷的其它结构。图7表示在本实施方式所涉及的液晶显示装置中减光区域20以存在叠加的方式排列的情况下的放大示意图。
在减光部10中,以平面方式排列的多个减光区域20也可以设置有邻接的减光区域20彼此叠加而成的叠加部38。一般来说,减光区域20的外周部处的减光性能低于中心部的减光性能,因此在将减光区域20以彼此隔开间隔、或邻接的方式进行排列的情况下,在减光部10的区域内产生减光特性的偏差。因此,如图7所示那样使邻接的减光区域20的一部分彼此叠加,通过使减光区域20的透过率低且减光特性低的外周部叠加,能够使减光部10的减光特性均一。
图8是从液晶显示面侧观察减光部10所得到的顶视示意图。以在俯视观察时与成为亮度缺陷的原因的异物33重叠的方式形成的减光部10既可以是沿着异物33的亮度缺陷形状所得到的形状,也可以是将亮度缺陷形状放大所得到的形状,以使得减光部10覆盖在因异物33而产生的亮度缺陷上。
也就是说,减光部10可以设为在俯视观察时与异物33的亮度缺陷形状相同的形状、大小,并配置为与亮度缺陷形状一致地进行覆盖,或者,也可以设为在俯视观察时将异物33的亮度缺陷形状相对地放大所得到的形状,并配置为超出亮度缺陷形状地进行覆盖。
进一步地说,减光部10只要以在俯视观察时覆盖亮度缺陷形状的方式进行配置即可,无需设为与亮度缺陷形状相同的形状。
在此,俯视观察时与异物33的亮度缺陷形状相同的形状是指将异物33沿与玻璃基板GB2的表面正交的方向投影到玻璃基板GB2的表面上所得到的异物33的亮度缺陷形状。
减光部10使背光34的透过光衰减,例如始终对光进行遮蔽,即使在作为显示装置而想要使光透过的情况下,也对光进行遮蔽。通过如图8所示那样与亮度缺陷的形状相配合地仅在必需且足够的区域形成减光部10,能够使减光部10以外的区域有效地发挥功能,从而能够防止存在亮度缺陷的像素整体变为无效。另外,由于仅在必需且足够的区域形成减光部10,因此能够提高形成减光部10的生产率。
相反地,通过将减光部10形成得比异物33的亮度缺陷形状大,能够更可靠地抑制亮度缺陷部。另外,在使减光部10相对地大于亮度缺陷形状的情况下,只要是成为在从斜方向观察显示面板DP时能够防止光的泄漏的大小的放大倍率即可。
因此,更优选的是,与亮度缺陷的状况相应地决定减光部10的形状和大小。
图9表示在本实施方式所涉及的液晶显示装置LCD中用于抑制上述亮度缺陷的其它结构,是表示减光部的结构的放大示意图。
该减光部10是沿显示面板DP的厚度方向叠加第一减光层11、第二减光层12而形成的,该第一减光层11、第二减光层12是将多个减光区域20在玻璃基板GB2的内部以平面方式排列而成的。层数不限定于两层。
通过像这样形成多层减光部,能够利用减光部的层数来控制减光的程度。由于亮度缺陷的状态根据混入的异物33的大小、形状而变化,因此所需要的减光部10的减光特性改变。通过与亮度缺陷的程度相配合地设定必需且足够的减光部的层数,能够提高形成减光部的生产率。
图10表示在本实施方式所涉及的液晶显示装置LCD中用于抑制上述亮度缺陷的其它结构,是从液晶显示面侧观察亮度缺陷部所得到的顶视示意图。
在由沿显示面板DP的厚度方向叠加的第一减光层11、第二减光层12这多层形成减光部10的情况下,也可以是,减光部10是在俯视观察时将亮度缺陷形状相对地放大所得到的形状,靠近异物33的第一减光层11的放大倍率小于离异物33远的第二减光层12的放大倍率。在图10中,将平面形状的大小不同的第一减光层11、第二减光层12进行了叠加。来自异物33的漏光呈放射状扩散,因此通过将在离异物33远的位置形成的第二减光层12的放大倍率设得大,能够更有效地减少漏光。减光部10的层数不限定于两层。
图11表示在本实施方式所涉及的液晶显示装置LCD中用于抑制上述亮度缺陷的其它结构,是表示减光部的结构的放大示意图。
在由沿显示面板DP的厚度方向叠加的第一减光层11、第二减光层12这多层形成减光部10的情况下,也可以使形成第二减光层12的减光区域20的与玻璃基板GB2正交的中心35不与邻接的形成第一减光层11的减光区域20的与玻璃基板GB2正交的中心36重合。
由于减光区域20的中心部与外周部处的光的透过率不同,因此通过使第二减光层12的减光区域20的中心35与第一减光层11的减光区域20的中心36错开,在显示面板DP的厚度方向上减光区域20的中心部和外周部交替地排列,作为叠加多层而成的减光部10整体而言能够实现均一的减光特性。
通过以形成第二减光层12的减光区域20的中心35位于形成第一减光层11的两个减光区域20的中心36的中间的方式形成,能够实现最均一的减光特性。减光部10的层数不限定于两层。在形成有三层以上的减光层的情况下,也可以使形成相邻的减光层的各个减光区域的中心彼此分离。
图12表示在本实施方式所涉及的液晶显示装置LCD中用于抑制上述亮度缺陷的其它结构,是表示减光部的结构的放大示意图。
在由沿显示面板DP的厚度方向叠加的第一减光层11、第二减光层12这多层形成减光部的情况下,也可以使形成离异物33远的第一减光层12的减光区域20B的体积大于形成靠近异物33的第一减光层11的减光区域20A的体积。减光区域的大小受到所照射的高能量束的强度、密度的影响,当照射高强度的高能量束时,所形成的减光区域变大。另一方面,在形成减光区域时,一部分高能量束到达下表面的液晶层。当高能量束到达液晶层时,液晶层会受到损伤。因此,利用低强度的高能量束来形成减光区域20A,其中,该减光区域20A形成靠近异物33的位置的第一减光层11,由此能够减少对液晶层LC的损伤,是较好的。减光部10的层数不限定于两层。
并且,在靠近异物33的位置已形成有第一减光层11、而在离异物33较远的位置形成第二减光层12的情况下,在形成减光区域14时泄漏的高能量束的一部分被已经形成的在靠近亮度缺陷的位置形成的第一减光层11吸收,因此即使照射高强度的高能量束,也能够降低对液晶造成损伤的可能性,从而能够提高形成第二减光层12的生产率。
此外,在上面的叙述中示出了各种实施方式,而从生产率等几个观点出发,按与图6相当的方式、与图9相当的方式、与图12相当的方式的顺序依次优选。
上述各实施方式的减光部10也可以形成于TFT基板SUB1的玻璃基板GB1。另外,减光部10也可以形成于玻璃基板GB1和玻璃基板GB2这两方。即,减光部10只要形成于TFT基板SUB1的玻璃基板GB1和CF基板SUB2的玻璃基板GB2中的至少任一个玻璃基板即可。另外,形成于玻璃基板GB1的减光部在玻璃基板GB1内部的位置与形成于玻璃基板GB2的减光部在玻璃基板GB2内部的位置既可以相同,也可以不同。例如,也可以将形成于玻璃基板GB1的减光部形成在玻璃基板GB1内部的背光源侧,将形成于玻璃基板GB2的减光部形成在玻璃基板GB2内部的液晶层LC侧。
根据上述结构,能够降低成为亮度缺陷的像素的亮度,因此能够使亮度缺陷(漏光)不明显。由此,能够抑制因亮度缺陷引起的显示质量的降低,并且能够提高液晶显示装置LCD的制造成品率。此外,在上述说明中,以对亮度变亮的亮度缺陷设置减光部的情况为例进行了说明,但是也可以对亮度变暗的亮度缺陷设置减光部来调整背光透过的量,从而抑制亮度缺陷。
接着,说明液晶显示装置LCD的制造方法。
液晶显示装置LCD的制造方法包括TFT基板SUB1的制造工序、CF基板SUB2的制造工序、TFT基板SUB1与CF基板SUB2的粘贴工序、液晶注入工序、显示面板DP的点亮检查工序以及亮度缺陷修正工序。
关于上述各工序中的TFT基板SUB1的制造工序、CF基板SUB2的制造工序、TFT基板SUB1与CF基板SUB2的粘贴工序、液晶注入工序以及点亮检查工序,能够应用众所周知的方法。
例如,TFT基板SUB1的制造工序包括在玻璃基板GB1上形成栅极线GL、数据线DL、像素电极PIT、公共电极CIT、各种绝缘膜以及偏光片POL1的工序。在TFT基板SUB1中规定的像素P也可以包括与红色对应的红色像素、与绿色对应的绿色像素以及与蓝色对应的蓝色像素。另外,CF基板SUB2的制造工序包括在玻璃基板GB2上形成黑色矩阵BM、彩色滤光片CF以及偏光片POL2的工序。
下面,说明点亮检查工序和亮度缺陷修正工序。
在图15中表示亮度缺陷修正装置100。在图13中表示亮度缺陷的修正方法的流程图。
亮度缺陷修正装置100具有:检测装置39,其检测亮度缺陷;驱动装置40,其使高能量束的照射区域与液晶显示装置LCD相对移动;以及运算装置41,其用于进行通过照射高能量束来形成的减光部的位置、大小、形状的运算以及亮度缺陷的位置、大小、形状的运算。
首先,在点亮检查工序中,由检查装置39检测亮度缺陷。例如,检查装置39使显示面板DP整体点亮或按每一条线点亮并测定各像素的亮度。然后,检查装置39将偏离规定的亮度范围的像素、例如亮度被测定出超过预先决定的阈值的像素检测为亮度缺陷。检查装置39将检测为亮度缺陷的像素的位置信息输出到亮度缺陷修正装置100。亮度缺陷的检测也可以由作业者通过视觉观察来进行。当检测出亮度缺陷时,转移到亮度缺陷修正工序。
亮度缺陷修正装置100包括高能量束振荡器101、狭缝102以及聚光透镜103。在本实施方式中,以使用激光波长为1552nm、脉宽为800fs的激光器作为高能量束振荡器101的情况为例来进行说明。
在将显示装置点亮(S1)并检测出亮度缺陷之后(S2),在亮度缺陷修正工序中,首先,亮度缺陷修正装置100从检查装置39获取亮度缺陷的像素的位置信息和形状信息(S3)。
接着,在运算装置41中,基于获取到的形状信息,运算要通过照射高能量束来形成的减光部10的形状(S4)。
接着,驱动装置40基于获取到的位置信息,来使亮度缺陷修正装置100的光学系统对准。接着,亮度缺陷修正装置100以使高能量束的焦点F与玻璃基板GB2内部的期望位置一致的方式进行调整。例如基于成为亮度缺陷的原因的异物33的大小、测定出的亮度值来调整焦点F的位置。例如图15所示,以使高能量束的焦点F与玻璃基板GB2内部的处于异物33附近侧的位置一致的方式进行调整。接着,亮度缺陷修正装置100使高能量束振荡器101射出高能量束。由此,从高能量束振荡器101射出的高能量束通过将高能量束在空间上传输到减光区域的形成区域的狭缝102,被聚光透镜103聚光于玻璃基板GB2内部的焦点F来进行照射从而形成减光区域(S5)。接着,一边由驱动装置40使高能量束的照射位置移动一边连续地照射高能量束,由此形成多个减光区域,从而形成减光部。
由此,为了与亮度缺陷的形状、大小相配合地形成减光部,仅对必需且足够的区域进行修正,在修正后再次重复进行检查、修正,由此能够消除修正不足。其结果,能够进一步抑制显示质量的降低。
此外,在由多层减光层形成减光部的情况下,优选的是靠近成为亮度缺陷的原因的异物33的第一减光层11相比于比第一减光层11远离异物33的第二减光层12而言由低功率的脉冲激光形成。此外,在使脉冲激光低功率化时,能够使峰值强度变低、或者使波长变长。由此,能够降低对液晶层LC的影响。
图14表示亮度缺陷的其它修正方法的流程图。
首先,在将显示装置点亮(S1)并检测出亮度缺陷之后(S2),亮度缺陷修正装置100从检查装置39获取亮度缺陷的像素的位置信息和形状信息(S3)。接着,在运算装置41中,基于获取到的形状信息,运算要通过照射高能量束来形成的减光部10的形状(S4)。
接着,驱动装置40基于获取到的位置信息来使亮度缺陷修正装置100的光学系统对准。接着,亮度缺陷修正装置100以使高能量束的焦点F与玻璃基板GB2内部的期望位置一致的方式进行调整。例如基于成为亮度缺陷的原因的异物33的大小、测定出的亮度值来调整焦点F的位置。例如图15所示,以使高能量束的焦点F与玻璃基板GB2内部的处于异物33附近侧的位置一致的方式进行调整。接着,亮度缺陷修正装置100使高能量束振荡器101射出高能量束。由此,从高能量束振荡器101射出的高能量束通过狭缝102,被聚光透镜103聚光于玻璃基板GB2内部的焦点F来进行照射从而形成减光区域(S5)。
接着,一边由驱动装置40使高能量束的照射位置移动一边连续地照射高能量束,由此形成多个减光区域,从而形成减光部10。
在形成减光部10之后,再次进行点亮检查,确认亮度缺陷消失的情形(S6)。在第二次以后的点亮检查工序中还检测出亮度缺陷的情况下,再次进行亮度缺陷修正。而且,重复进行步骤1~步骤5直到不再检测出亮度缺陷为止。在第二次以后的亮度缺陷修正中,形状、大小也可以与第一次形成的减光部10的形状、大小不同。
图16表示亮度缺陷修正装置100的其它概要结构。亮度缺陷修正装置100包括高能量束振荡器101、狭缝102、束分离器104以及聚光透镜103。
如图16所示,亮度缺陷修正装置100使高能量束振荡器101射出高能量束。由此,从高能量束振荡器101射出的高能量束通过狭缝102,被束分离器104分支或分割为多个束。分支为多个束的高能量束被聚光透镜103重合地聚光于玻璃基板GB2内部的焦点F来进行照射。接着,一边使高能量束的照射位置移动一边连续地照射高能量束,由此形成减光部10。
由此,无助于减光部10的形成地透过的高能量束扩散得大。通过使束扩散,使到达液晶时的高能量束的能量密度降低,由此能够降低对液晶层LC的损伤。在图16中,使用了一个聚光透镜103,但是只要能够使焦点重合于要形成减光部10的规定的位置即可,也可以使用多个聚光透镜。通过使用多个聚光透镜,各个高能量束的聚光性变高,透过了减光部10的高能量束的扩散性也变高,能够降低对液晶层LC的损伤,因此是较佳的。关于束分离器104,只要使用分束器、衍射光学元件等即可。
此外,如上所述,减光部10可以形成于玻璃基板GB2,也可以形成于玻璃基板GB1和玻璃基板GB2这两方。在玻璃基板GB1中形成减光部10的情况下,只要从显示面板DP的背面侧向玻璃基板GB1照射高能量束即可。
另外,优选的是,高能量束振荡器101能够产生1ps以下的脉冲激光。另外,优选的是,高能量束振荡器101能够振荡出多个波长的高能量束并选择为了形成减光区域而照射的所述高能量束的波长。
在亮度缺陷修正工序中,使焦点与玻璃基板一致来照射高能量束,由此使玻璃材料着色,因此不会引起玻璃基板自身的形状变化。例如,不会破坏玻璃基板的内部、表面而使外形发生改变。因此,例如能够在TFT基板SUB1和CF基板SUB2形成有偏光片POL1、POL2的状态下、即在显示面板DP完成后,执行上述亮度缺陷修正工序。另外,减光部10由与玻璃基板相同的材料构成,因此折射率也不会变化。此外,不限于使玻璃材料着色,也可以通过使玻璃材料相变,来改变光的透过率。
在亮度缺陷修正工序中,也可以根据与成为亮度缺陷的部分对应的像素的颜色来调整高能量束的强度后进行照射。由此,以光的透过率根据与成为亮度缺陷的部分对应的像素的颜色而不同的方式形成减光部10。例如,也可以是,覆盖与绿色像素对应的产生亮度缺陷的区域的减光部10形成为该减光部10的光的透过率低于覆盖与其它颜色的像素(例如红色像素、蓝色像素)对应的产生亮度缺陷的区域的减光部10的光的透过率。
TFT基板SUB1的制造工序也可以包括向玻璃基板GB1掺入着色用材料的掺杂工序。同样地,CF基板SUB2的制造工序也可以包括向玻璃基板GB2掺入着色用材料的掺杂工序。在掺杂工序中,例如可以使着色用材料混入玻璃材料中,也可以使着色用材料覆盖于玻璃基板的表面。作为着色用材料,能够使用金、银、铜、铝、铅、铂等的细颗粒以及这些金属的合金的细颗粒。通过向掺入有着色用材料的玻璃基板照射高能量束,来将减光部10着色为与着色用材料相应的颜色,由此能够将成为亮度缺陷的部分着色为期望的颜色,从而使漏光不明显。
在上述的说明中,示出了在TFT基板SUB1与CF基板SUB2之间混入了异物33的情况下的亮度缺陷,但是亮度缺陷的原因不限定于此。例如,有可能产生薄膜晶体管TFT的问题所致的漏光、配置于基板间的间隔物(spacer)所引起的漏光等。本实施方式所涉及的亮度缺陷修正方法也能够应用于这些亮度缺陷。
另外,可能产生亮度缺陷的异物33的混入位置不限定于TFT基板SUB1与CF基板SUB2之间。例如,在玻璃基板GB1与偏光片POL1之间混入了异物的情况下也可能产生亮度缺陷。在该情况下,也可以将减光部10形成在玻璃基板GB1内部的处于异物33附近的位置。另外,在玻璃基板GB2与偏光片POL2之间混入了异物的情况下也可能产生亮度缺陷。在该情况下,也可以如图7所示那样将减光部10形成在玻璃基板GB2内部的处于异物33附近的位置。
这样,异物33可能混入显示面板DP的不确定的位置。因此,例如在一张显示面板DP中,在使显示面板产生亮度缺陷的异物33混入了玻璃基板GB1和偏光片POL1之间(第一位置)以及玻璃基板GB2和偏光片POL2之间(第二位置)的情况下,也可以将第一减光部10与第一位置的异物对应地形成在玻璃基板GB1内部的处于异物附近的位置,将第二减光部10与第二位置的异物对应地形成在玻璃基板GB2内部的处于异物附近的位置。此外,在该情况下,也可以考虑到亮度缺陷修正工序的作业效率,而将第一减光部10和第二减光部10这两方形成在玻璃基板GB2的显示面侧。
另外,减光部不限定于形成在玻璃基板的内部,也可以形成在玻璃基板的表面。例如,减光部也可以形成在玻璃基板GB1的显示面侧的表面和玻璃基板GB2的背面侧的表面。另外,减光部也可以形成在玻璃基板GB1的背面侧的表面和玻璃基板GB2的显示面侧的表面。
以上,对本发明的一个实施方式进行了说明,但是本发明并不限定于上述各实施方式,本领域技术人员在不脱离本发明的宗旨的范围内根据上述各实施方式来适当变更所得到的方式也包含于本发明的技术范围,这是不言而喻的。
产业上的可利用性
本发明特别是对于内置显示装置的液晶显示器、有机EL平板显示器有用,最适合用于要求高亮度、高清晰度、图像质量均一性的显示器的显示装置,能够广泛地用于具有显示器的电气设备、装置。
附 图标记说明
LCD:液晶显示装置;DP:显示面板;SUB1:TFT基板;SUB2:CF基板;LC:液晶层;GB1、GB2:玻璃基板;GSN、PAS、UPAS:绝缘膜;GL:栅极线;DL:数据线;SM:源极电极;DM:漏极电极;SEM:半导体层;CIT:公共电极;PIT:像素电极;TFT:薄型晶体管;P:像素;AF:取向膜;CF:彩色滤光片;BM:黑色矩阵;OC:保护层;POL1、POL2:偏光片;CONT:接触孔;10:减光部;11:减光部;12:减光部;20:减光区域;20A:减光区域;20B:减光区域;30:数据线驱动电路;31:栅极线驱动电路;32:开口部;33:异物;34:背光;35、36:减光区域的中心;37:背光源装置;38:叠加部;39:检测装置;40:驱动装置;41:运算装置;100:亮度缺陷修正装置;101:高能量束振荡器;102:狭缝;103:聚光透镜;104:束分离器;F:焦点。
Claims (16)
1.一种显示装置,包括:第一基板,其是在第一玻璃基板形成多个信号线和显示用电极而成的;以及第二基板,其是在第二玻璃基板形成多个光透过部和遮光部而成,该显示装置具有亮度缺陷,该显示装置的特征在于,
具有减光部,该减光部形成于所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板中的至少一个玻璃基板的内部,
所述减光部是将多个减光区域排列而成的,所述多个减光区域的光的透过率低于形成有所述减光部的所述第一玻璃基板或所述第二玻璃基板的光的透过率,
所述减光部形成为在俯视观察时与作为所述亮度缺陷的起因物的异物重叠。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,
各个所述减光区域具备与邻接的所述减光区域叠加的区域。
3.根据权利要求1或2所述的显示装置,其特征在于,
所述减光部是将作为所述亮度缺陷的起因物的异物的形状放大投影所得到的形状。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的显示装置,其特征在于,
所述减光部包括将所述多个减光区域以平面方式排列而成的减光层,沿形成有所述减光部的所述第一玻璃基板或所述第二玻璃基板的厚度方向形成有多个所述减光层。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,
所述多个减光层包括第一减光层和第二减光层,
在靠近作为所述亮度缺陷的起因物的异物的位置形成的所述第一减光层是比在离所述异物远的位置形成的所述第二减光层小的形状。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,
形成所述第二减光层的所述多个减光区域的各个减光区域的中心与形成所述第一减光层的所述多个减光区域的各个减光区域的中心相分离。
7.根据权利要求5或6所述的显示装置,其特征在于,
形成所述第一减光层的各个减光区域的体积比形成所述第二减光层的各个减光区域的体积小。
8.一种亮度缺陷修正方法,其特征在于,包括以下工序:
检查工序,进行显示面板的点亮检查来检测亮度缺陷;
检测工序,检测所述亮度缺陷的位置和形状;
运算工序,基于在所述检测工序中检测出的所述亮度缺陷来运算减光部的形成区域的位置和形状;以及
形成工序,向玻璃基板上的所述减光部的形成区域的一部分照射能量束,来形成包括多个减光区域的所述减光部,所述多个减光区域的光的透过率低于所述玻璃基板的光的透过率。
9.根据权利要求8所述的亮度缺陷修正方法,其特征在于,
将所述检查工序至所述形成工序重复进行,直到不再检测出所述亮度缺陷为止。
10.根据权利要求8或9所述的亮度缺陷修正方法,其特征在于,
在所述形成工序中,形成包括多个减光层的所述减光部,所述减光层是将所述多个减光区域以平面方式排列而成的,
在所述减光部中包括第一减光层和第二减光层,
形成所述第一减光层的减光区域相比于形成所述第二减光层的减光区域而言由低功率的脉冲激光形成,其中,所述第二减光层与所述第一减光层相比离所述亮度缺陷的起因物较远。
11.根据权利要求10所述的亮度缺陷修正方法,其特征在于,
形成所述第一减光层的减光区域相比于形成所述第二减光层的减光区域而言由低峰值强度的脉冲激光形成。
12.根据权利要求10所述的亮度缺陷修正方法,其特征在于,
形成所述第一减光层的减光区域相比于形成所述第二减光层的减光区域而言由波长较长的脉冲激光形成。
13.一种亮度缺陷修正装置,其特征在于,具备:
检测装置,其将显示装置点亮来检测所述显示装置的亮度缺陷;
运算装置,其基于检测出的所述亮度缺陷的位置、形状来运算形成减光部的形成区域,所述减光部包括多个减光区域;
能量束振荡器,其射出用于形成所述减光区域的能量束;
狭缝,其将所述能量束在空间上传输到要形成所述减光区域的位置;
聚光透镜,其用于对所述能量束进行聚光;以及
驱动装置,其使所述能量束的照射区域与所述显示装置相对移动。
14.根据权利要求13所述的亮度缺陷修正装置,其特征在于,
所述能量束振荡器产生1ps以下的脉冲激光。
15.根据权利要求13所述的亮度缺陷修正装置,其特征在于,
所述能量束振荡器能够振荡出多个波长的能量束并选择为了形成所述减光区域而照射的所述能量束的波长。
16.根据权利要求13~15中的任一项所述的亮度缺陷修正装置,其特征在于,
还具备束分离器,该束分离器将通过了所述狭缝的所述能量束分支或分割为多个能量束,
分支或分割所得到的各个能量束通过所述聚光透镜进行聚光,各个能量束的焦点彼此重合。
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