CN107958920B - 柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法 - Google Patents

柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107958920B
CN107958920B CN201711179756.7A CN201711179756A CN107958920B CN 107958920 B CN107958920 B CN 107958920B CN 201711179756 A CN201711179756 A CN 201711179756A CN 107958920 B CN107958920 B CN 107958920B
Authority
CN
China
Prior art keywords
flexible
layer
flexible buffer
polymerization degree
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201711179756.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107958920A (zh
Inventor
贾文斌
王欣欣
叶志杰
彭锐
窦义坤
胡月
宋丽芳
孙力
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201711179756.7A priority Critical patent/CN107958920B/zh
Publication of CN107958920A publication Critical patent/CN107958920A/zh
Priority to US15/982,893 priority patent/US20190157585A1/en
Application granted granted Critical
Publication of CN107958920B publication Critical patent/CN107958920B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/266—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by an apertured layer, the apertures going through the whole thickness of the layer, e.g. expanded metal, perforated layer, slit layer regular cells B32B3/12
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/80—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass using temporary substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111—Flexible substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2101/00—Properties of the organic materials covered by group H10K85/00
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/311—Flexible OLED
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201—Manufacture or treatment
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明是关于一种柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法，涉及柔性显示技术领域，主要解决的技术问题是柔性显示面板抗弯曲性能力低的电子元件易发生磨损。柔性显示面板的制备方法包括：在衬底基板上形成具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；在柔性基板上形成显示器件。将显示器件中抗弯曲性能力低的电子元件、柔性应力较差的打孔区域和沟道区域形成在第二柔性缓冲区，弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域受到的应力会分散到弯曲强度较强的第一柔性缓冲区域，有利于减少应力较差区域(第二柔性缓冲区域)的显示部件在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损。

Description

柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法
技术领域
本发明涉及柔性显示技术领域，特别是涉及一种柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法。
背景技术
有机电致发光显示装置(Organic Light Emitting Display,OLED)具有功耗低、饱和度高、视角广、薄厚度、能实现柔性化等优异性能，逐渐成为显示领域的主流。
传统柔性显示面板的制备过程为：在材质均匀的柔性基板粘结形成在刚性基板之上，之后，在材质均匀的柔性基板之上形成薄膜晶体管和显示电子元件，最后将柔性基板和刚性基板分离，即可制备出柔性的显示面板。
发明人发现现有技术中至少存在如下问题：
柔性显示面板在进行弯折中，由于柔性面板中的各个电子元件的结构抗弯曲性能不一致，材质均匀的柔性基板抗弯曲性能统一，薄膜晶体管和显示电子元件中部分抗弯曲性能力低的电子元件容易受到较大的弯曲应力，导致抗弯曲性能力低的电子元件易发生磨损，造成画面显示异常。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法，主要解决的技术问题是柔性显示面板抗弯曲性能力低的电子元件易发生磨损，造成画面显示异常。
为达到上述目的，本发明主要提供如下技术方案：
一方面，本发明的实施例提供一种柔性显示面板的制备方法，包括：
在衬底基板上形成具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；
在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上形成显示器件。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
可选的，前述的柔性显示面板的制备方法，其中在衬底基板上形成具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板；具体包括：
在衬底基板上形成柔性基底层；
在柔性基底层的第一区域形成由第一聚合度高分子材质制备的第一柔性缓冲层，在柔性基底层的第二区域形成由第二聚合度高分子材质制备的第二柔性缓冲层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
在第一柔性缓冲层、第二柔性缓冲层上形成平坦层，柔性基底层、第一柔性缓冲层、第二柔性缓冲层、平坦层构成柔性基板，柔性基板平坦层对应第一柔性缓冲层的区域为第一柔性缓冲区域，柔性基板平坦层对应第二柔性缓冲层的区域为第二柔性缓冲区域。
可选的，前述的柔性显示面板的制备方法，其中在柔性基底层的第一区域形成由第一聚合度高分子材质制备的第一柔性缓冲层，在柔性基底层的第二区域形成由第二聚合度高分子材质制备的第二柔性缓冲层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度，具体包括：
在柔性基底层上形成由第一聚合度高分子材质制备的第一膜层；
通过第一次构图工艺，去除所述第一膜层的第一区域，保留所述第一膜层的第二区域，形成第一柔性缓冲层；
在第一次构图工艺后的衬底基板上形成由第二聚合度高分子材质制备的第二膜层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
通过第二次构图工艺，去除位于所述第一柔性缓冲层上方的第二膜层，保留与所述第一柔性缓冲层同层的第二膜层，形成第二柔性缓冲层。
可选的，前述的柔性显示面板的制备方法，其中所述第一膜层和所述第二膜层为光刻胶层，所述第一次构图工艺、第二次构图工艺包括光刻工艺、显影工艺。
可选的，前述的柔性显示面板的制备方法，其中所述平坦层的弹性、韧性、断裂伸长率、拉伸强度中的至少一项参数的大小介于所述第一柔性缓冲层、所述第二柔性缓冲层的弹性、韧性、断裂伸长率、拉伸强度大小之间。
可选的，前述的柔性显示面板的制备方法，其中第一聚合度大于200小于300，第二聚合度大于300小于500。
可选的，前述的柔性显示面板的制备方法，其中在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上形成显示器件，具体包括：
显示器件的有源层和/或接触孔形成于所述柔性基板第二柔性缓冲区域上方。
另一方面，本发明的实施例提供一种柔性显示面板，包括：
柔性基板，包括有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域，其中，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；
显示器件，形成在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
可选的，前述的柔性显示面板，其中所述柔性基板包括柔性基底层、由第一聚合度高分子材质制备的第一柔性缓冲层、由第二聚合度高分子材质制备的第二柔性缓冲层、平坦层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
第一柔性缓冲层位于柔性基底层的第一区域，第二柔性缓冲层位于柔性基底层的第二区域；
平坦层对应第一柔性缓冲层的区域为第一柔性缓冲区域，柔性基板平坦层对应第二柔性缓冲层的区域为第二柔性缓冲区域。
可选的，前述的柔性显示面板，其中显示器件的有源层和/或接触孔形成于所述柔性基板第二柔性缓冲区域上方。
还一方面，本发明的实施例提供一种柔性显示装置，包括：
上述的柔性显示面板。
借由上述技术方案，本发明技术方案提供的柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法至少具有下列优点：
本发明实施例提供的技术方案中，在衬底基板上形成具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上形成显示器件。其中，相对于现有技术，在柔性基板上具有弯曲强度较强的第一柔性缓冲区域，弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域，在柔性基板上形成显示器件中，可将显示器件中抗弯曲性能力低的电子元件、柔性应力较差的打孔区域和沟道区域形成在第二柔性缓冲区，柔性显示装置在弯曲过程中，弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域受到的应力会分散到弯曲强度较强的第一柔性缓冲区域，有利于减少应力较差区域(第二柔性缓冲区域)的显示部件在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损，降低柔性显示装置在弯曲过程中发生画面异常显示的概率。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
图1是本发明的实施例提供的一种柔性显示面板制备方法的流程示意图；
图2是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的流程示意图；
图3是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的流程示意图；
图4是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的一些步骤流程示意图；
图5是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的一些步骤流程示意图；
图6是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的一些步骤流程示意图；
图7是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的一些步骤流程示意图；
图8是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的一些步骤流程示意图；
图9是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的一些步骤流程示意图；
图10是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板制备方法的流程示意图；
图11是本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板的结构示意图；
图12是现有技术中柔性OLED基板结构受力示意图；
图13本发明的实施例提供的一种具体的柔性显示面板的受力结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。
本实施例提供的一种柔性显示面板的制备方法，在衬底基板上形成有不同弯曲强度的两个柔性缓冲区域，显示器件中，显示器件中抗弯曲性能力低的电子元件形成在弯曲强度较低的柔性缓冲区中，弯曲强度较弱的区域受到的应力会分散到弯曲强度较强区域，有利于减少应力较差区域在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损。
图1至图2为本发明提供的柔性显示面板的制备方法一实施例，请参阅图1至图2，本发明的一个实施例提出的柔性显示面板的制备方法，包括：
S10、在衬底基板上形成具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；
衬底基板采用刚性的基板，第一柔性缓冲区域、第二柔性缓冲区域可位于衬底基板上的同层，第一柔性缓冲区域、第二柔性缓冲区域的个数均不局限于一个，第一柔性缓冲区域、第二柔性缓冲区域的个数、位置根据需要而定。
S20、在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上形成显示器件；
显示器件中可包括有抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构，抗弯曲性能力高的电子元件/电子结构，抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构位于第二柔性缓冲区域，抗弯曲性能力高的电子元件/电子结构位于第二柔性缓冲区域。
S30、将柔性基板从衬底基板上分离，形成柔性显示面板。
在衬底基板上形成具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上形成显示器件。其中，相对于现有技术，在柔性基板上具有弯曲强度较强的第一柔性缓冲区域，弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域，在柔性基板上形成显示器件中，可将显示器件中抗弯曲性能力低的电子元件、柔性应力较差的打孔区域和沟道区域形成在第二柔性缓冲区，柔性显示装置在弯曲过程中，弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域受到的应力会分散到弯曲强度较强的第一柔性缓冲区域，有利于减少应力较差区域(第二柔性缓冲区域)的显示部件在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损，降低柔性显示装置在弯曲过程中发生画面异常显示的概率。在具体的实施当中，步骤S10具体包括：
S11、在衬底基板上形成柔性基底层；
柔性基底层可采用树脂、聚酰亚胺(Polyimide，简写PI)或聚乙烯(PE)等材质，通过真空冷却干燥形成于衬底基板上。
S12、在柔性基底层的第一区域形成由第一聚合度高分子材质制备的第一柔性缓冲层，在柔性基底层的第二区域形成由第二聚合度高分子材质制备的第二柔性缓冲层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
第一柔性缓冲层、第二柔性缓冲层可采用树脂、聚酰亚胺或聚乙烯等材质，第一聚合度大于200小于300，第二聚合度大于300小于500。第一柔性缓冲层高分子材质平均分子量在10000-20000，第二柔性缓冲层高分子材质平均分子量在20000-25000。
步骤S12具体包括：
结合图3、图4、图5、图6、图7、图8所示，
S121、在柔性基底层10上形成由第一聚合度高分子材质制备的第一膜层20；
具体的，第一膜层可采用光刻胶，为光刻胶层，但不局限于此。
S122、通过第一次构图工艺，去除所述第一膜层的第一区域，保留所述第一膜层的第二区域，形成第一柔性缓冲层21；
第一次构图工艺的选用需要根据第一膜层的具体材质而定，当第一膜层可采用光刻胶，第一次构图工艺可具体采用光刻显影工艺。
S123、在第一次构图工艺后的衬底基板上形成由第二聚合度高分子材质制备的第二膜层30，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
具体的，第二膜层可采用光刻胶，为光刻胶层，但不局限于此。
S124、通过第二次构图工艺，去除位于所述第一柔性缓冲层上方的第二膜层，保留与所述第一柔性缓冲层同层的第二膜层，形成第二柔性缓冲层31。
第二次构图工艺的选用需要根据第二膜层的具体材质而定，当第二膜层可采用光刻胶，第二次构图工艺可具体采用光刻显影工艺。相对于采用CVD工艺，采用光刻显影工艺方法较为简便。
步骤S12具体的操作过程不局限于上述，也可采用如下具体工艺：
在柔性基底层上形成由第二聚合度高分子材质制备的第二膜层；
具体的，第二膜层可采用光刻胶，为光刻胶层，但不局限于此。
通过第三次构图工艺，去除所述第二膜层的第一区域，保留所述第二膜层的第二区域，形成第二柔性缓冲层；
第三次构图工艺的选用需要根据第二膜层的具体材质而定，当第二膜层可采用光刻胶，第三次构图工艺可具体采用光刻显影工艺。
在第三次构图工艺后的衬底基板上形成由第一聚合度高分子材质制备的第一膜层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
具体的，第一膜层可采用光刻胶，为光刻胶层，但不局限于此。
通过第四次构图工艺，去除位于所述第二柔性缓冲层上方的第一膜层，保留与所述第二柔性缓冲层同层的第一膜层，形成第一柔性缓冲层。
第四次构图工艺的选用需要根据第一膜层的具体材质而定，当第一膜层可采用光刻胶，第四次构图工艺可具体采用光刻显影工艺。
如图2和图9所示，S13、在第一柔性缓冲层21、第二柔性缓冲层31上形成平坦层40，柔性基底层、第一柔性缓冲层、第二柔性缓冲层、平坦层构成柔性基板，柔性基板平坦层对应第一柔性缓冲层的区域为第一柔性缓冲区域，柔性基板平坦层对应第二柔性缓冲层的区域为第二柔性缓冲区域。
平坦层的柔韧性介于第一柔性缓冲层柔韧性、所述第二柔性缓冲层柔韧性之间，具体的可以表现为：所述平坦层的弹性、韧性、断裂伸长率、拉伸强度中的至少一项参数的大小介于所述第一柔性缓冲层、所述第二柔性缓冲层的弹性、韧性、断裂伸长率、拉伸强度大小之间。平坦层的柔韧性介于第一柔性缓冲层柔韧性、所述第二柔性缓冲层柔韧性之间，可便于第二柔性缓冲层对应的抗弯曲性能力低显示器件应力释放。
如图10所示，在具体的实施当中，步骤S20具体包括：
S21、在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上形成显示器件，具体包括：
显示器件的有源层和/或接触孔形成于所述柔性基板第二柔性缓冲区域上方。
抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构通常包括有源层和接触孔，但也局限于此，对于抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构均可形成在第二柔性缓冲区域上方，弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域受到的应力会分散到弯曲强度较强的第一柔性缓冲区域，有利于减少应力较差区域(第二柔性缓冲区域)的显示部件在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损。
基于统一发明构思，本实施例提供的一种柔性显示面板，在衬底基板上有不同弯曲强度的两个柔性缓冲区域，显示器件中，可将显示器件中抗弯曲性能力低的电子元件形成在弯曲强度较弱的柔性缓冲区中，弯曲强度较弱的区域受到的应力会分散到弯曲强度较强的区域，有利于减少应力较差区域的显示部件在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损。
图11为本发明提供的柔性显示面板一实施例，可以通过上述的制备方法制备而成，请参阅图11，本发明的一个实施例提出的柔性显示面板，包括：柔性基板、显示器件。
柔性基板包括有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域101和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域102，其中，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；显示器件(图中未示出)形成在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上。
显示器件中可包括有抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构，抗弯曲性能力高的电子元件/电子结构，抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构位于第二柔性缓冲区域，抗弯曲性能力高的电子元件/电子结构位于第二柔性缓冲区域。例如，具体的，显示器件的有源层和/或接触孔形成于所述柔性基板第二柔性缓冲区域上方。
本发明实施例提供的柔性显示面板，在衬底基板上具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度。其中，相对于现有技术，可将显示器件中抗弯曲性能力低的电子元件、柔性应力较差的打孔区域和沟道区域形成在第二柔性缓冲区，弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域受到的应力会分散到弯曲强度较强的第一柔性缓冲区域，有利于减少应力较差区域(第二柔性缓冲区域)的显示部件在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损，降低柔性显示面板在弯曲过程中发生画面异常显示的概率。
所述柔性基板包括柔性基底层、由第一聚合度高分子材质制备的第一柔性缓冲层、由第二聚合度高分子材质制备的第二柔性缓冲层、平坦层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；第一柔性缓冲层位于柔性基底层的第一区域，第二柔性缓冲层位于柔性基底层的第二区域；平坦层对应第一柔性缓冲层的区域为第一柔性缓冲区域，柔性基板平坦层对应第二柔性缓冲层的区域为第二柔性缓冲区域。
基于统一发明构思，本实施例提供的一种柔性显示装置，在衬底基板上有不同弯曲强度的两个柔性缓冲区域，显示器件中，可将显示器件中抗弯曲性能力低的电子元件形成在弯曲强度较低的柔性缓冲区中，弯曲强度较弱的区域受到的应力会分散到弯曲强度较强的区域，有利于减少应力较差区域的显示部件在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损。
本发明的一个实施例提出的柔性显示装置，包括：柔性显示面板，包括：柔性基板、显示器件。
柔性基板包括有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域，其中，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；显示器件形成在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上。
显示器件中可包括有抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构，抗弯曲性能力高的电子元件/电子结构，抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构位于第二柔性缓冲区域，抗弯曲性能力高的电子元件/电子结构位于第二柔性缓冲区域。例如，具体的，显示器件的有源层和/或接触孔形成于所述柔性基板第二柔性缓冲区域上方。
本发明实施例提供的柔性显示装置，该显示装置可以为：电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。可以对抗弯曲性能力低的电子元件/电子结构实现有效保护。当应力差第一柔性缓冲区域受到应力时候，所受应力被第二柔性缓冲区域转移给第一柔性缓冲区域，减少了第二柔性缓冲区域应力，降低磨损。
具体的，本实施例中所述的柔性显示面板可直接采用上述实施例提供的所述柔性显示面板，具体的实现结构可参见上述实施例中描述的相关内容，此处不再赘述。
为了便于理解，结合图12所示，在现有技术中的现有技术的柔性OLED基板，接触孔及有源区位于区域a，且不在区域b，现有技术的柔性OLED基板在受力弯曲的时候，力量一般分布在受力区，当应力差的区域a(接触孔及有源区)受到应力时候，应力得不到释放和转移，导致相应区域的力量过大，易受损伤。而本发明提供的实施例，结合图13所示，可将显示器件中抗弯曲性能力低的电子元件形成在弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域102中，弯曲强度较弱的第二柔性缓冲区域102受到的应力会分散到弯曲强度较强的第一柔性缓冲区域101，有利于减少应力较差区域(第二柔性缓冲区域)的显示部件在弯曲形变中所受的应力变化，减少磨损。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
可以理解的是，上述装置中的相关特征可以相互参考。另外，上述实施例中的“第一”、“第二”等是用于区分各实施例，而并不代表各实施例的优劣。
在此处所提供的说明书中，说明了大量具体细节。然而，能够理解，本发明的实施例可以在没有这些具体细节的情况下实践。在一些实例中，并未详细示出公知的结构和技术，以便不模糊对本说明书的理解。
类似地，应当理解，为了精简本公开并帮助理解各个发明方面中的一个或多个，在上面对本发明的示例性实施例的描述中，本发明的各个特征有时被一起分组到单个实施例、图、或者对其的描述中。然而，并不应将该公开的装置解释成反映如下意图：即所要求保护的本发明要求比在每个权利要求中所明确记载的特征更多的特征。更确切地说，如下面的权利要求书所反映的那样，发明方面在于少于前面公开的单个实施例的所有特征。因此，遵循具体实施方式的权利要求书由此明确地并入该具体实施方式，其中每个权利要求本身都作为本发明的单独实施例。
本领域那些技术人员可以理解，可以对实施例中的装置中的部件进行自适应性地改变并且把它们设置在与该实施例不同的一个或多个装置中。可以把实施例中的部件组合成一个部件，以及此外可以把它们分成多个子部件。除了这样的特征中的至少一些是相互排斥之外，可以采用任何组合对本说明书(包括伴随的权利要求、摘要和附图)中公开的所有特征以及如此公开的任何装置的所有部件进行组合。除非另外明确陈述，本说明书(包括伴随的权利要求、摘要和附图)中公开的每个特征可以由提供相同、等同或相似目的替代特征来代替。
此外，本领域的技术人员能够理解，尽管在此所述的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同实施例的特征的组合意味着处于本发明的范围之内并且形成不同的实施例。例如，在下面的权利要求书中，所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。本发明的各个部件实施例可以以硬件实现，或者以它们的组合实现。
应该注意的是上述实施例对本发明进行说明而不是对本发明进行限制，并且本领域技术人员在不脱离所附权利要求的范围的情况下可设计出替换实施例。在权利要求中，不应将位于括号之间的任何参考符号构造成对权利要求的限制。单词“包含”不排除存在未列在权利要求中的部件或组件。位于部件或组件之前的单词“一”或“一个”不排除存在多个这样的部件或组件。本发明可以借助于包括有若干不同部件的装置来实现。在列举了若干部件的权利要求中，这些部件中的若干个可以是通过同一个部件项来具体体现。单词第一、第二、以及第三等的使用不表示任何顺序。可将这些单词解释为名称。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (8)

1.一种柔性显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；
在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上形成显示器件；在衬底基板上形成具有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域柔性基板；具体包括：
在衬底基板上形成柔性基底层；
在柔性基底层的第一区域形成由第一聚合度高分子材质制备的第一柔性缓冲层，在柔性基底层的第二区域形成由第二聚合度高分子材质制备的第二柔性缓冲层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
在第一柔性缓冲层、第二柔性缓冲层上形成平坦层，柔性基底层、第一柔性缓冲层、第二柔性缓冲层、平坦层构成柔性基板，柔性基板平坦层对应第一柔性缓冲层的区域为第一柔性缓冲区域，柔性基板平坦层对应第二柔性缓冲层的区域为第二柔性缓冲区域，其中，第一柔性缓冲层、第二柔性缓冲层采用树脂，第一聚合度大于200小于300，第二聚合度大于300小于500，第一柔性缓冲层高分子材质平均分子量在10000-20000，第二柔性缓冲层高分子材质平均分子量在20000-25000，所述平坦层的弹性、韧性、断裂伸长率、拉伸强度中的至少一项参数的大小介于所述第一柔性缓冲层、所述第二柔性缓冲层的弹性、韧性、断裂伸长率、拉伸强度大小之间；
在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上形成显示器件，具体包括：
显示器件的有源层和/或接触孔形成于所述柔性基板第二柔性缓冲区域上方。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，
在柔性基底层的第一区域形成由第一聚合度高分子材质制备的第一柔性缓冲层，在柔性基底层的第二区域形成由第二聚合度高分子材质制备的第二柔性缓冲层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度，具体包括：
在柔性基底层上形成由第一聚合度高分子材质制备的第一膜层；
通过第一次构图工艺，去除所述第一膜层的第一区域，保留所述第一膜层的第二区域，形成第一柔性缓冲层；
在第一次构图工艺后的衬底基板上形成由第二聚合度高分子材质制备的第二膜层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
通过第二次构图工艺，去除位于所述第一柔性缓冲层上方的第二膜层，保留与所述第一柔性缓冲层同层的第二膜层，形成第二柔性缓冲层。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，
所述第一膜层和所述第二膜层为光刻胶层，所述第一次构图工艺、第二次构图工艺包括光刻工艺、显影工艺。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，
所述树脂为聚酰亚胺或聚乙烯中的至少一种。
5.一种柔性显示面板，其特征在于，包括：
柔性基板，包括有第一弯曲强度的第一柔性缓冲区域和具有第二弯曲强度的第二柔性缓冲区域，其中，所述第一弯曲强度大于所述第二弯曲强度；
显示器件，形成在柔性基板所述第一柔性缓冲区域和所述第二柔性缓冲区域上；所述柔性基板包括柔性基底层、由第一聚合度高分子材质制备的第一柔性缓冲层、由第二聚合度高分子材质制备的第二柔性缓冲层、平坦层，所述第二聚合度大于所述第一聚合度；
第一柔性缓冲层位于柔性基底层的第一区域，第二柔性缓冲层位于柔性基底层的第二区域；
平坦层对应第一柔性缓冲层的区域为第一柔性缓冲区域，柔性基板平坦层对应第二柔性缓冲层的区域为第二柔性缓冲区域，其中，第一柔性缓冲层、第二柔性缓冲层采用树脂，第一聚合度大于200小于300，第二聚合度大于300小于500，第一柔性缓冲层高分子材质平均分子量在10000-20000，第二柔性缓冲层高分子材质平均分子量在20000-25000，所述平坦层的弹性、韧性、断裂伸长率、拉伸强度中的至少一项参数的大小介于所述第一柔性缓冲层、所述第二柔性缓冲层的弹性、韧性、断裂伸长率、拉伸强度大小之间；
显示器件的有源层和/或接触孔形成于所述柔性基板第二柔性缓冲区域上方。
6.根据权利要求5所述的柔性显示面板，其特征在于，
所述柔性显示面板由上述权利要求1-4中任一所述的制备方法制备。
7.根据权利要求5所述的柔性显示面板，其特征在于，
所述树脂为聚酰亚胺或聚乙烯中的至少一种。
8.一种柔性显示装置，其特征在于，包括：
上述权利要求5-7中任一所述的柔性显示面板。
CN201711179756.7A 2017-11-23 2017-11-23 柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法 Active CN107958920B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711179756.7A CN107958920B (zh) 2017-11-23 2017-11-23 柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法
US15/982,893 US20190157585A1 (en) 2017-11-23 2018-05-17 Flexible display panel, flexible display apparatus and method of manufacturing flexible display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711179756.7A CN107958920B (zh) 2017-11-23 2017-11-23 柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107958920A CN107958920A (zh) 2018-04-24
CN107958920B true CN107958920B (zh) 2020-10-09

Family

ID=61961745

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711179756.7A Active CN107958920B (zh) 2017-11-23 2017-11-23 柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20190157585A1 (zh)
CN (1) CN107958920B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102662203B1 (ko) * 2018-07-17 2024-04-30 삼성디스플레이 주식회사 플렉시블 표시 장치
CN109037447B (zh) * 2018-07-24 2022-10-18 云谷（固安）科技有限公司 显示屏及显示装置
CN112793258A (zh) * 2019-11-14 2021-05-14 华为机器有限公司 一种盖板、显示屏和移动终端
CN113496957A (zh) * 2020-03-19 2021-10-12 深圳市柔宇科技有限公司 弹性基底、电子设备、电子组件及其制作方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103985321A (zh) * 2014-05-29 2014-08-13 上海天马微电子有限公司 一种柔性显示面板及其制作方法及柔性显示装置
CN105283311A (zh) * 2013-03-28 2016-01-27 诺基亚技术有限公司 用于将柔性显示器的多个功能层接合到一起的方法和设备
CN106548713A (zh) * 2015-09-23 2017-03-29 三星显示有限公司 可折叠显示装置及其制造方法
CN206179865U (zh) * 2016-11-29 2017-05-17 合肥鑫晟光电科技有限公司 柔性衬底、柔性显示基板、显示装置

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0108309D0 (en) * 2001-04-03 2001-05-23 Koninkl Philips Electronics Nv Matrix array devices with flexible substrates
JP4287675B2 (ja) * 2003-02-27 2009-07-01 富士フイルム株式会社 電子ペーパー
KR102038985B1 (ko) * 2013-02-21 2019-11-01 삼성디스플레이 주식회사 가요성 표시 장치 및 그 제조방법
KR20140120585A (ko) * 2013-04-03 2014-10-14 삼성디스플레이 주식회사 접이식 표시 장치
KR102081287B1 (ko) * 2013-06-07 2020-02-26 삼성디스플레이 주식회사 가요성 표시 장치 및 그 제조방법
US9333725B2 (en) * 2013-06-26 2016-05-10 Industrial Technology Research Institute Adhesive structure with hybrid adhesive layer
US9356049B2 (en) * 2013-07-26 2016-05-31 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device with a transistor on an outer side of a bent portion
KR102127791B1 (ko) * 2013-07-31 2020-06-30 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 표시장치
KR102020895B1 (ko) * 2013-10-31 2019-09-11 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
TWI553838B (zh) * 2014-07-04 2016-10-11 友達光電股份有限公司 畫素陣列基板與面板
KR102288350B1 (ko) * 2014-10-21 2021-08-11 삼성디스플레이 주식회사 유기발광 디스플레이 장치
KR102268328B1 (ko) * 2014-10-21 2021-06-24 삼성디스플레이 주식회사 광투과 점착 필름 및 이를 포함하는 표시 장치
CN104485351A (zh) * 2014-12-31 2015-04-01 深圳市华星光电技术有限公司 一种柔性有机发光显示器及其制作方法
KR102417119B1 (ko) * 2015-02-11 2022-07-06 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 디스플레이 장치
KR102273053B1 (ko) * 2015-02-16 2021-07-06 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
JP6419608B2 (ja) * 2015-03-12 2018-11-07 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN104934438A (zh) * 2015-04-24 2015-09-23 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法、显示装置
KR102463838B1 (ko) * 2015-08-24 2022-11-04 삼성디스플레이 주식회사 가요성 표시 장치와 이의 제조 방법
KR20170070370A (ko) * 2015-12-11 2017-06-22 삼성에스디아이 주식회사 점착시트 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR102611499B1 (ko) * 2015-12-15 2023-12-06 엘지디스플레이 주식회사 플렉서블 표시장치
KR102451081B1 (ko) * 2016-02-05 2022-10-06 삼성전자주식회사 다양한 점착제를 사용하는 디스플레이 및 그것을 포함하는 전자 장치
KR102449220B1 (ko) * 2016-03-21 2022-09-30 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
JP6692194B2 (ja) * 2016-03-23 2020-05-13 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN106856206B (zh) * 2016-12-30 2020-06-23 上海天马微电子有限公司 一种柔性显示面板和柔性显示器
CN106935720B (zh) * 2017-03-13 2019-06-14 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、显示面板、显示设备和制造其的方法
CN107293570B (zh) * 2017-05-12 2019-10-22 上海天马微电子有限公司 一种显示面板和显示装置
JP2019003099A (ja) * 2017-06-16 2019-01-10 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置の製造方法、及び表示装置
US10411204B2 (en) * 2017-07-05 2019-09-10 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co.. Ltd. Flexible display panel and method for fabricating thereof, flexible display apparatus
CN107437400B (zh) * 2017-09-04 2020-08-07 上海天马有机发光显示技术有限公司 显示面板和显示装置
US10615351B2 (en) * 2017-11-09 2020-04-07 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Flexible display assembly including a first inorganic layer formed in bending region having a thickness less than a second inorganic layer formed in non-bending region, a manufacturing method for forming the same, and a display panel

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105283311A (zh) * 2013-03-28 2016-01-27 诺基亚技术有限公司 用于将柔性显示器的多个功能层接合到一起的方法和设备
CN103985321A (zh) * 2014-05-29 2014-08-13 上海天马微电子有限公司 一种柔性显示面板及其制作方法及柔性显示装置
CN106548713A (zh) * 2015-09-23 2017-03-29 三星显示有限公司 可折叠显示装置及其制造方法
CN206179865U (zh) * 2016-11-29 2017-05-17 合肥鑫晟光电科技有限公司 柔性衬底、柔性显示基板、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN107958920A (zh) 2018-04-24
US20190157585A1 (en) 2019-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107958920B (zh) 柔性显示面板、柔性显示装置及其制备方法
US10256425B2 (en) Display substrate and manufacturing method thereof, display device and manufacturing method thereof
US11302763B2 (en) Flexible OLED display panel and manufacturing method thereof
CN108539016B (zh) 柔性衬底及其制备方法、显示面板的制备方法和显示装置
WO2019100413A1 (zh) 柔性oled显示面板及其制备方法、显示装置
US10517196B2 (en) Flexible display device
CN106548713A (zh) 可折叠显示装置及其制造方法
US20150314576A1 (en) Flexible substrate, manufacturing method thereof, and display apparatus
WO2016095428A1 (zh) 柔性电极结构、其制作方法及柔性显示基板
US10319924B2 (en) Method for manufacturing flexible substrate, flexible substrate and display device
US20190341580A1 (en) Flexible display device and method for manufacturing the flexible display device
CN109411525A (zh) 柔性显示面板及其制备方法
US20180018056A1 (en) Pressure-sensitive touch panel, method for manufacturing the same, and touch display screen
WO2019153831A1 (zh) 电致发光元件封装结构及其制备方法、显示设备
JP2021503150A (ja) フレキシブル表示パネルおよびフレキシブル表示装置
EP2116895A3 (en) Laminated structure and image display device
CN109087587B (zh) 一种柔性显示基板、其制备方法及显示装置
US11239303B2 (en) Display substrate, display apparatus, and method of fabricating display substrate
US7556525B2 (en) Flexible printed circuit
WO2020118905A1 (zh) 复合膜层的制作方法及显示器件
CN204179084U (zh) 有机发光显示装置及电子设备
CN109411628B (zh) 柔性显示面板与显示装置
US10978679B2 (en) Method of manufacturing composite film layer and display device
CN208014704U (zh) 显示装置及柔性显示器
US20190334101A1 (en) Method of fabricating flexible back-substrate, flexible back-substrate, and flexible display apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant