CN206179865U - 柔性衬底、柔性显示基板、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种柔性衬底、柔性显示基板、显示装置，属于显示技术领域。其中，柔性衬底包括：柔性基底；位于所述柔性基底上、并排设置的第一缓冲层和第二缓冲层，所述第一缓冲层和所述第二缓冲层共同覆盖所述柔性基底的全部区域，所述第一缓冲层的硬度大于所述第二缓冲层的硬度。通过本实用新型的技术方案，能够使得柔性显示基板的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，特别是指一种柔性衬底、柔性显示基板、显示装置。
背景技术
柔性显示装置具有易于弯折、携带方便、耐摔损等突出优点，已成为显示技术领域研究的热点。
现有的柔性显示基板在进行弯曲时，不同区域的弯曲幅度相同，而柔性显示基板的像素区域在弯曲时比走线区域更容易发生断裂，这是由于像素区域的主要膜层采用无机物质如SiNx、SiOx、ITO等，在弯折和拉伸时易断裂，而走线区域的金属导线比较耐弯折，这样在柔性显示基板整体弯曲时较为不易弯曲的像素区域容易裂伤，出现像素损坏等重大不良。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种柔性衬底、柔性显示基板、显示装置，能够使得柔性显示基板的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供技术方案如下：
一方面，提供一种柔性衬底，包括：
柔性基底；
位于所述柔性基底上、并排设置的第一缓冲层和第二缓冲层，所述第一缓冲层和所述第二缓冲层共同覆盖所述柔性基底的全部区域，所述第一缓冲层的硬度大于所述第二缓冲层的硬度。
进一步地，所述第一缓冲层与所述第二缓冲层相接触的部分形成有第一台阶面；
所述第二缓冲层与所述第一缓冲层相接触的部分形成有与所述第一台阶面相配合的第二台阶面。
进一步地，所述第一缓冲层的厚度与所述第二缓冲层的厚度相等。
进一步地，还包括：
覆盖所述第一缓冲层和所述第二缓冲层的第三缓冲层，所述第三缓冲层与所述第二缓冲层采用同种材料制成。
进一步地，所述第二缓冲层与所述柔性基底为一体结构。
本实用新型实施例还提供了一种柔性显示基板，包括如上所述的柔性衬底，还包括形成在所述柔性衬底上的显示功能层，所述显示功能层包括多个相互独立的像素区域和位于相邻像素区域之间的走线区域，所述像素区域位于所述第一缓冲层上，所述走线区域位于所述第二缓冲层上。
本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的柔性显示基板。
本实用新型的实施例具有以下有益效果：
上述方案中，在柔性基底上形成第一缓冲层和第二缓冲层，第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样可以在第一缓冲层上制备显示功能层的像素区域，在第二缓冲层上制备显示功能层的走线区域，由于第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在柔性显示基板整体弯曲时，走线区域的弯曲度将大于像素区域的弯曲度，使得脆弱的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
附图说明
图1为本实用新型实施例柔性显示基板的截面示意图；
图2为本实用新型实施例柔性显示基板的平面示意图；
图3为本实用新型实施例六柔性显示基板的制作方法的示意图；
图4为本实用新型实施例七柔性显示基板的制作方法的示意图；
图5为本实用新型实施例八柔性显示基板的制作方法的示意图。
附图标记
1柔性基底 2第二缓冲层 3第一缓冲层 4显示功能层
5第三缓冲层
具体实施方式
为使本实用新型的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本实用新型的实施例针对现有技术中在柔性显示基板整体弯曲时较为不易弯曲的像素区域容易裂伤，出现像素损坏等重大不良的问题，提供一种柔性衬底、柔性显示基板、显示装置，能够使得柔性显示基板的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
实施例一
本实施例提供一种柔性衬底，包括：
柔性基底；
位于所述柔性基底上、并排设置的第一缓冲层和第二缓冲层，所述第一缓冲层和所述第二缓冲层共同覆盖所述柔性基底的全部区域，所述第一缓冲层的硬度大于所述第二缓冲层的硬度。
本实施例中，在柔性基底上形成第一缓冲层和第二缓冲层，第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样可以在第一缓冲层上制备显示功能层的像素区域，在第二缓冲层上制备显示功能层的走线区域，由于第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在柔性显示基板整体弯曲时，走线区域的弯曲度将大于像素区域的弯曲度，使得脆弱的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
进一步地，所述第一缓冲层与所述第二缓冲层相接触的部分形成有第一台阶面，所述第二缓冲层与所述第一缓冲层相接触的部分形成有与所述第一台阶面相配合的第二台阶面。第一缓冲层和第二缓冲层之间的连接处以台阶结构相连，使得两种缓冲层平稳过渡，避免在柔性显示基板整体弯曲时第一缓冲层和第二缓冲层分离开。
为了保证柔性衬底的平整度，所述第一缓冲层的厚度与所述第二缓冲层的厚度相等。
进一步地，为了提高柔性衬底的平整度，柔性衬底还包括：
覆盖所述第一缓冲层和所述第二缓冲层的第三缓冲层，所述第三缓冲层的硬度与所述第二缓冲层的硬度相等，这样可以保证柔性衬底的柔性，不会使得柔性衬底过硬。
进一步地，所述第三缓冲层与所述第二缓冲层采用同种材料制成，都可以采用现有的柔性基底中常用的缓冲层材料，比如SiNx和SiO2等。第一缓冲层可以采用较硬的PI(聚酰亚胺)或者PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)或者PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)。
优选实施例中，第二缓冲层与柔性基底为一体结构，这样可以利用柔性基底的一部分来形成第二缓冲层，能够节省柔性衬底的制作工艺。
实施例二
本实施例提供了一种柔性显示基板，如图1和图2所示，柔性显示基板包括柔性衬底，还包括形成在柔性衬底上的显示功能层4，柔性衬底包括：柔性基底1；位于所述柔性基底1上、并排设置的第一缓冲层3和第二缓冲层2，所述第一缓冲层3和所述第二缓冲层2共同覆盖所述柔性基底的全部区域，所述第一缓冲层3的硬度大于所述第二缓冲层2的硬度。如图2所示，所述显示功能层包括多个相互独立的像素区域A和位于相邻像素区域之间的走线区域B，所述像素区域A位于所述第一缓冲层3上，所述走线区域B位于所述第二缓冲层2上。
其中，显示功能层与柔性衬底之间还设置有一层过渡层，能够起到从有机物到无机物的过渡作用，过渡层的材料可以选用SiO2，厚度可以在之间，优选厚度为
本实施例中，在柔性基底上形成第一缓冲层和第二缓冲层，第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在第一缓冲层上制备显示功能层的像素区域，在第二缓冲层上制备显示功能层的走线区域，由于第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在柔性显示基板整体弯曲时，走线区域的弯曲度将大于像素区域的弯曲度，使得脆弱的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
实施例三
本实施例提供了一种显示装置，包括如上所述的柔性显示基板。所述显示装置可以为：电视、显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。
实施例四
本实施例提供了一种柔性衬底的制作方法，包括：
提供一柔性基底；
在所述柔性基底上形成并排设置的第一缓冲层和第二缓冲层，所述第一缓冲层和所述第二缓冲层共同覆盖所述柔性基底的全部区域，所述第一缓冲层的硬度大于所述第二缓冲层的硬度。
本实施例中，在柔性基底上形成第一缓冲层和第二缓冲层，第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样可以在第一缓冲层上制备显示功能层的像素区域，在第二缓冲层上制备显示功能层的走线区域，由于第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在柔性显示基板整体弯曲时，走线区域的弯曲度将大于像素区域的弯曲度，使得脆弱的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
进一步地，所述在所述柔性基底上形成并排设置的第一缓冲层和第二缓冲层包括：
在所述柔性基底上沉积一层第一缓冲材料，对所述第一缓冲材料进行构图形成所述第一缓冲层；
在形成有所述第一缓冲层的柔性基底上沉积一层第二缓冲材料，通过构图工艺去除所述第一缓冲层上的第二缓冲材料，形成第二缓冲层，所述第一缓冲材料的硬度大于所述第二缓冲材料的硬度；或
在所述柔性基底上沉积一层第二缓冲材料，对所述第二缓冲材料进行构图形成所述第二缓冲层；
在形成有所述第二缓冲层的柔性基底上沉积一层第一缓冲材料，通过构图工艺去除所述第二缓冲层上的第一缓冲材料，形成第一缓冲层，所述第一缓冲材料的硬度大于所述第二缓冲材料的硬度。
优选实施例中，第二缓冲层与柔性基底为一体结构，这样可以利用柔性基底的一部分来形成第二缓冲层，能够节省柔性衬底的制作工艺，所述在所述柔性基底上形成并排设置的第一缓冲层和第二缓冲层包括：
对所述柔性基底进行构图，减薄第一区域所述柔性基底的厚度，第一区域所述柔性基底的表面所在水平面为第一水平面，第一区域之外的第二区域的所述柔性基底位于第一水平面之上的部分组成所述第二缓冲层；
在所述柔性基底上沉积一层缓冲材料，通过构图工艺去除第一区域的缓冲材料，形成所述第一缓冲层，所述缓冲材料的硬度大于所述柔性基底的硬度。
进一步地，为了提高柔性衬底的平整度，在第一缓冲层和第二缓冲层上还覆盖有第三缓冲层。第三缓冲层的硬度与第二缓冲层的硬度相等，这样可以保证柔性衬底的柔性，不会使得柔性衬底过硬，所述方法还包括：
在所述第一缓冲层和第二缓冲层上沉积第三缓冲材料形成第三缓冲层，所述第三缓冲层的硬度与所述第二缓冲层的硬度相等。
实施例五
本实施例提供了一种柔性显示基板的制作方法，包括：
采用如上所述的方法制备柔性衬底；
在所述柔性衬底上形成显示功能层，所述显示功能层包括多个相互独立的像素区域和位于相邻像素区域之间的走线区域，所述像素区域位于所述第一缓冲层上，所述走线区域位于所述第二缓冲层上。
本实施例中，在柔性基底上形成第一缓冲层和第二缓冲层，第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样可以在第一缓冲层上制备显示功能层的像素区域，在第二缓冲层上制备显示功能层的走线区域，由于第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在柔性显示基板整体弯曲时，走线区域的弯曲度将大于像素区域的弯曲度，使得脆弱的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
其中，在形成显示功能层之前，还在柔性衬底上形成一层过渡层，在过渡层上再形成显示功能层，过渡层能够起到从有机物到无机物的过渡作用，过渡层的材料可以选用SiO2，厚度可以在之间，优选厚度为
实施例六
如图3所示，本实施例的柔性显示基板的制作方法，包括：
步骤a：提供一柔性基底1，柔性基底1可以采用柔性聚酰亚胺制成；
步骤b：在柔性基底1上沉积一层第二缓冲材料，具体地，第二缓冲材料可以采用现有的柔性基底中常用的缓冲层材料，比如SiNx和SiO2等；
步骤c：对第二缓冲材料进行构图形成第二缓冲层2，所述第二缓冲层用于与第一缓冲层相接触的部分形成有第二台阶面；
步骤d：在形成有第二缓冲层2的柔性基底1上沉积一层第一缓冲材料，具体地，第一缓冲材料可以为PMMA，在PMMA层上涂覆UV硬化液，对PMMA层表面硬化处理，使得PMMA层硬度增加；
步骤e：将PMMA层与第二缓冲层2重叠的部分刻蚀掉，得到第一缓冲层3，为保证平整度，第一缓冲层3的厚度与第二缓冲层2的厚度相等。第一缓冲层3与第二缓冲层2的厚度可根据需要进行设计。第一缓冲层3与第二缓冲层2相接触的部分形成有与第二台阶面相配合的第一台阶面，第一缓冲层3和第二缓冲层2之间的连接处以台阶结构相连，使得两种缓冲层平稳过渡，避免在柔性显示基板整体弯曲时第一缓冲层和第二缓冲层分离开；
步骤f：在第一缓冲层3和第二缓冲层2上形成显示功能层4，显示功能层4包括多个相互独立的像素区域和位于相邻像素区域之间的走线区域，像素区域位于第一缓冲层3上，走线区域位于第二缓冲层2上。
其中，在形成显示功能层之前，还在柔性衬底上形成一层过渡层，在过渡层上再形成显示功能层，过渡层能够起到从有机物到无机物的过渡作用，过渡层的材料可以选用SiO2，厚度可以在之间，优选厚度为
由于柔性显示基板像素区域的主要膜层采用无机物质如SiNx、SiOx、ITO等，在弯折和拉伸时易断裂，而走线区域的金属导线比较耐弯折，因此，设计第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在柔性显示基板整体弯曲时，走线区域的弯曲度将大于像素区域的弯曲度，使得脆弱的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
实施例七
如图4所示，本实施例的柔性显示基板的制作方法，包括：
步骤a：提供一柔性基底1，柔性基底1可以采用柔性聚酰亚胺制成；
步骤b：在柔性基底1上沉积一层第二缓冲材料，具体地，第二缓冲材料可以采用现有的柔性基底中常用的缓冲层材料，比如SiNx和SiO2等；
步骤c：对第二缓冲材料进行构图形成第二缓冲层2，所述第二缓冲层用于与第一缓冲层相接触的部分形成有第二台阶面；
步骤d：在形成有第二缓冲层2的柔性基底1上沉积一层第一缓冲材料，具体地，第一缓冲材料可以为PMMA，在PMMA层上涂覆UV硬化液，对PMMA层表面硬化处理，使得PMMA层硬度增加；
步骤e：将PMMA层与第二缓冲层2重叠的部分刻蚀掉，得到第一缓冲层3，为保证平整度，第一缓冲层3的厚度与第二缓冲层2的厚度相等。第一缓冲层3与第二缓冲层2的厚度可根据需要进行设计。第一缓冲层3与第二缓冲层2相接触的部分形成有与第二台阶面相配合的第一台阶面，第一缓冲层3和第二缓冲层2之间的连接处以台阶结构相连，使得两种缓冲层平稳过渡，避免在柔性显示基板整体弯曲时第一缓冲层和第二缓冲层分离开；
步骤f：在第一缓冲层3和第二缓冲层2上形成第三缓冲层5，并在第三缓冲层5上形成显示功能层4。第三缓冲层5可以提高柔性衬底的平整度，第三缓冲层5可以采用与第二缓冲层2相同的材料，这样可以保证柔性衬底的柔性，不会使得柔性衬底过硬。显示功能层4包括多个相互独立的像素区域和位于相邻像素区域之间的走线区域，像素区域位于第一缓冲层3对应区域，走线区域位于第二缓冲层2对应区域。
其中，在形成显示功能层之前，还在柔性衬底上形成一层过渡层，在过渡层上再形成显示功能层，过渡层能够起到从有机物到无机物的过渡作用，过渡层的材料可以选用SiO2，厚度可以在之间，优选厚度为
由于柔性显示基板像素区域的主要膜层采用无机物质如SiNx、SiOx、ITO等，在弯折和拉伸时易断裂，而走线区域的金属导线比较耐弯折，因此，设计第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在柔性显示基板整体弯曲时，走线区域的弯曲度将大于像素区域的弯曲度，使得脆弱的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
实施例八
如图5所示，本实施例的柔性显示基板的制作方法，包括：
步骤a：提供一柔性基底1，柔性基底1可以采用柔性聚酰亚胺制成；
步骤b：对柔性基底1进行构图，减薄第一区域柔性基底1的厚度，第一区域柔性基底1的表面所在水平面为第一水平面，第一区域之外的第二区域的柔性基底1位于第一水平面之上的部分组成第二缓冲层2，第二缓冲层2用于与第一缓冲层相接触的部分形成有第二台阶面；
步骤c：在形成有第二缓冲层2的柔性基底1上沉积一层第一缓冲材料，具体地，第一缓冲材料可以为PMMA，在PMMA层上涂覆UV硬化液，对PMMA层表面硬化处理，使得PMMA层硬度增加；
步骤d：将PMMA层与第二缓冲层2重叠的部分刻蚀掉，得到第一缓冲层3，为保证平整度，第一缓冲层3的厚度与第二缓冲层2的厚度相等。第一缓冲层3与第二缓冲层2的厚度可根据需要进行设计。第一缓冲层3与第二缓冲层2相接触的部分形成有与第二台阶面相配合的第一台阶面，第一缓冲层3和第二缓冲层2之间的连接处以台阶结构相连，使得两种缓冲层平稳过渡，避免在柔性显示基板整体弯曲时第一缓冲层和第二缓冲层分离开；
步骤e：在第一缓冲层3和第二缓冲层2上形成第三缓冲层5，并在第三缓冲层5上形成显示功能层4。第三缓冲层5可以提高柔性衬底的平整度，第三缓冲层5可以采用与第二缓冲层2相同的材料，这样可以保证柔性衬底的柔性，不会使得柔性衬底过硬。显示功能层4包括多个相互独立的像素区域和位于相邻像素区域之间的走线区域，像素区域位于第一缓冲层3对应区域，走线区域位于第二缓冲层2对应区域。
其中，在形成显示功能层之前，还在柔性衬底上形成一层过渡层，在过渡层上再形成显示功能层，过渡层能够起到从有机物到无机物的过渡作用，过渡层的材料可以选用SiO2，厚度可以在之间，优选厚度为
由于柔性显示基板像素区域的主要膜层采用无机物质如SiNx、SiOx、ITO等，在弯折和拉伸时易断裂，而走线区域的金属导线比较耐弯折，因此，设计第一缓冲层的硬度大于第二缓冲层的硬度，这样在柔性显示基板整体弯曲时，走线区域的弯曲度将大于像素区域的弯曲度，使得脆弱的像素区域在柔性显示基板整体弯曲时的弯曲度较小，避免其过度弯曲出现像素损坏等重大不良。
以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种柔性衬底，其特征在于，包括：
柔性基底；
位于所述柔性基底上、并排设置的第一缓冲层和第二缓冲层，所述第一缓冲层和所述第二缓冲层共同覆盖所述柔性基底的全部区域，所述第一缓冲层的硬度大于所述第二缓冲层的硬度。
2.根据权利要求1所述的柔性衬底，其特征在于，
所述第一缓冲层与所述第二缓冲层相接触的部分形成有第一台阶面；
所述第二缓冲层与所述第一缓冲层相接触的部分形成有与所述第一台阶面相配合的第二台阶面。
3.根据权利要求1所述的柔性衬底，其特征在于，
所述第一缓冲层的厚度与所述第二缓冲层的厚度相等。
4.根据权利要求1所述的柔性衬底，其特征在于，还包括：
覆盖所述第一缓冲层和所述第二缓冲层的第三缓冲层，所述第三缓冲层与所述第二缓冲层采用同种材料制成。
5.根据权利要求1所述的柔性衬底，其特征在于，
所述第二缓冲层与所述柔性基底为一体结构。
6.一种柔性显示基板，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的柔性衬底，还包括形成在所述柔性衬底上的显示功能层，所述显示功能层包括多个相互独立的像素区域和位于相邻像素区域之间的走线区域，所述像素区域位于所述第一缓冲层上，所述走线区域位于所述第二缓冲层上。
7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6所述的柔性显示基板。
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| CN201621291126.XU CN206179865U (zh) | 2016-11-29 | 2016-11-29 | 柔性衬底、柔性显示基板、显示装置 |
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2016
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