CN107949443A - 用于清洁烘焙表面的装置 - Google Patents

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CN107949443A CN201680050594.4A CN201680050594A CN107949443A CN 107949443 A CN107949443 A CN 107949443A CN 201680050594 A CN201680050594 A CN 201680050594A CN 107949443 A CN107949443 A CN 107949443A
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约翰·萨克森霍弗
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Abstract

一种装置和一种激光装置，其用于清洁浮雕状方式的烘焙表面(1)，和可能地用于清洁烘焙机(4)的烘焙板(3)的蒸汽和/或密封条(2)，其包含激光源(5)，用于通过连续改变激光束(6)的输出方向和穿过形成目标区域(7)的轮廓(8)，来将激光束(6)输出到局部可选择的目标区域(7)上，偏转光学装置(9)，其布置在距离激光源(5)一定的距离和处于激光源(5)的目标区域(7)中，用于偏转该激光束(6)和用于沿着投射方向(10)将通过轮廓(8)所形成的目标区域(7)投射到待清洁的烘焙板(3)上，特征在于该偏转光学装置(9)具有可能的调节装置，用于改变激光束(6)的投射方向(10)和出口方向。

Description

用于清洁烘焙表面的装置
本发明涉及一种装置，其用于清洁烘焙表面，特别是用于清洁烘焙板表面、烘焙模块或者烘焙环，例如用于生产平薄饼，空心薄饼，锥形蛋卷，软华夫饼，薄饼卷，薄饼管等。本发明进一步涉及一种用于生产烘焙产品的烘焙机装置，其具有一个或多个烘焙表面和具有至少一个用于清洁烘焙表面的装置。
烘焙机例如诸如工业上生产薄饼的薄饼烘焙机包含烘箱区域，其中可打开和可关闭的烘焙钳是以圆周驱动方式来引导的。待烘焙的生面团或者待烘焙的烘焙物质引入到烘焙钳的两个烘焙板之间和在温度和任选的压力作用下烘焙。在上述烘焙方法之后，打开烘焙钳，并且可以除去准备好的烘焙薄饼。
在实践中，出现这样的问题，即，保留在烘焙板的烘焙表面上的残留物开始与生面团或者烘焙物质接触。这些残留物包含例如油、脂肪、含淀粉的沉积物、糖沉积物等。为了从烘焙表面除去这些沉积物和清洁它们，目前使用了不同的方法。
例如，烘焙钳在烘焙机的清洁模式中是单个打开的，并且通过手工刷擦来刷擦。对应于现有技术的另一可能性是用压缩空气吹扫烘焙表面，但是其仅仅消除了松散的烘焙废物和未结皮的材料。
在清洁烘焙表面的过程中，在彻底清洁和轻柔处理烘焙表面之间存在着目标冲突。例如，当刷扫烘焙表面时，会发生表面粗糙化或者损坏。另一方面，在轻柔处理烘焙表面的过程中，在许多情况中，不可能除去结皮的材料或者污染物。
已知的是激光清洁系统解决这种目标冲突，其可以改进现有装置，并且如果需要，可以作为模块化装置来提供，或者设计为烘焙机的一体化部件。这种激光清洁系统必须以这样的方式设置，即，提供用于连接到烘焙机的界面，并且激光装置是机械和/或以控制技术方面来结合到烘焙机上。
这样的设计例如是从WO2014/020117已知的。本发明特别涉及本公开文献中所公开的装置的进一步的开发。
对于清洁具有以浮雕状方式配置的烘焙表面或者具有侧向延伸的密封条的烘焙板来说，如果在待清洁表面上激光辐射的入射角是可变的，则它会是有利的。根据现有技术，已知的是这样的装置，其中激光头绕着两个轴可旋转，以使得激光的发射角度可选择。这些设计的缺点是用于旋转激光头的部件使得所述装置扩大，结果是不可能将它插入到仅仅部分打开的烘焙钳的烘焙板之间。但是，完全打开烘焙板来清洁需要改变烘焙机，其在实际中也会是有问题的。
现在本发明的目标是克服现有技术的缺点。这任选地包含这样的事实，即，产生了激光装置，其适于清洁烘焙钳的烘焙板，其中该烘焙钳必须仅仅打开到只要对应于烘焙设备的正常运行就行。此外，本发明的一个目标是清洁烘焙板，其具有以浮雕状方式设置的烘焙表面和/或还有密封条或者蒸发条。
根据本发明的目标特别是通过独立专利权利要求的特征来解决的。
任选地本发明涉及一种激光装置，其用于清洁以浮雕状方式设置的烘焙表面和任选地用于清洁烘焙机的烘焙板的蒸汽或者密封条，其包含激光源，用于通过连续改变激光束的输出方向和穿过形成目标区域的轮廓，来将激光束输出到局部可选择的目标区域上，与所述激光源相距一定距离布置和处于激光源的目标区域中的偏转光学装置，用于偏转所述激光束和用于将通过所述轮廓形成的目标区域沿着投射方向投射到烘焙板上。
任选地所述激光装置提供的是所述偏转光学装置具有调节装置，用于改变激光束的投射方向和出口方向。
任选地所述激光装置提供的是所述偏转光学装置具有至少两个偏转元件，其以不同角度偏转从激光源发射的激光束或者所述偏转光学装置具有至少两个偏转元件，其配置为反射元件例如特别是镜子，其以不同的角度相对于激光源设置或者所述偏转光学装置具有至少一个偏转元件，用于偏转激光束，其具有至少两个可选择的位置，来提供至少两个可选择的不同的投射方向。
任选地所述激光装置提供的是所述偏转光学装置或者其一个或多个偏转元件是或者可移动设置，和/或所述偏转光学装置或者其偏转元件设置为可扭曲、可枢转或可绕着旋转轴旋转，其中所述旋转轴大致对应于激光束从激光源的中心输出方向。
任选地所述激光装置提供的是载体元件，其从基体突出，并且其特别地设置成提供为管状，所述偏转光学装置在载体元件的自由端区域中设置和特别是稳固与载体元件连接。
任选地所述激光装置提供的是载体元件是通过载体元件驱动器可移动、可旋转或者绕着旋转轴可旋转设置。
任选地所述激光装置提供的是载体元件驱动器和/或激光源设置在基体的区域中或者基体上。
任选地所述激光装置提供的是该激光源的目标区域根据期望导向偏转元件之一上或者导致作为反射元件配置的偏转元件之一上。
任选地所述激光装置提供的是目标区域和形成该目标区域的轮廓设置为是条形或者线形的，或者该目标区域和形成该目标区域的轮廓设置为条形或者线形，并且以振荡方式往复或者通过激光束来重复。
任选地所述激光装置提供的是提供控制凸轮，其通过扫描元件扫描来启动或者停用激光源，并且所述扫描元件将通过载体元件驱动器的传动和任选地通过载体元件的旋转将要或已经相对于控制凸轮移动，和所述激光源由此根据投射方向来启动或者停用。
任选地所述激光装置提供的是提供吸入单元，其吸入管线突出到其中出现激光束的区域中或者激光束入射到待清洁的物体之上的区域中。
任选地所述激光装置提供的是移动装置，用于所述载体元件或者偏转光学装置的平移运动，其中所述平移运动的方向特别是跟随激光束从激光源的中心输出方向，载体元件或者旋转轴的行程，和其中任选地提供第二平移方向，其基本上与第一方向相交来延伸和特别是垂直延伸。
任选地所述激光装置提供的是所述激光装置配置为模块，其可以与烘焙机连接或能够与烘焙机连接。
任选的本发明涉及一种装置，其包含烘焙设备和环形传送机，其中烘焙钳设置在环形传送机上，其中每个所述烘焙钳包含下板和与下板枢转连接的上板，其中每个所述烘焙钳是沿着环形传送机连续传送的：从装入设备(用于将烘焙物质施加到打开的烘焙钳中)到用于闭合所述烘焙钳的装置，穿过加热的烘焙室，进一步到用于打开所述烘焙钳的装置，和然后到产品除去装置，用于从烘焙钳除去烘焙的产品，其中提供了根据本发明的激光装置。
任选地所述激光装置提供的是提供用于打开烘焙钳的装置和用于闭合烘焙钳的装置，并且所述烘焙钳在两个装置之间以一定的打开角度开启，和所述偏转光学装置和至少一部分的载体元件侧向投射，即横向于环形传送机的移动方向投射到烘焙钳中和投射到上板与下板之间。
任选地所述激光装置提供的是投射方向是通过根据期望调节偏转光学装置或者通过调节与偏转光学装置连接的载体元件来从内侧导向上板或者从内侧导向下板。
任选地所述激光装置提供的是投射装置在烘焙钳上的入射角度可以通过任选地将激光源的目标区域导向到偏转元件之一上或者反射元件之一上来改变。
任选地所述激光装置提供的是所述偏转光学装置包含至少两个偏转元件，激光源的目标区域任选地导向到两个偏转元件之一上，当激光源的目标区域导向到一个偏转元件上时，投射方向在待清洁的烘焙板上具有第一入射角度，当激光源的目标区域导向到另一偏转元件上时，投射方向在待清洁的烘焙板上具有第二入射角度，并且两个入射角度从垂直于烘焙板的入射的入射角度在相反方向上偏离。
任选地所述激光装置提供的是偏转光学装置具有至少三个反射元件，激光源的目标区域根据期望导向到三个反射元件之一上，当激光源的目标区域导向到一个反射元件上时，投射方向在待清洁的烘焙板上具有第一入射角度，当激光源的目标区域导向到另一反射元件上时，投射方向在待清洁的烘焙板上具有第二入射角度，并且两个入射角度从垂直于烘焙板的入射的入射角度在相反方向上偏离，和当激光源的目标区域导向到第三反射元件上时，投射方向在待清洁的烘焙板上具有第三入射角度，其处于第一和第二入射角度之间，和特别是基本上垂直于待清洁的烘焙板来延伸。
为了清洁烘焙表面，所述激光装置或者装置优选包含几个自由度。从激光装置沿着投射方向发射的激光辐射可以任选地通过将该偏转光学装置绕轴枢转或者旋转来改变。角度变化由此优选基本上在这个移动的旋转轴的法向面中完成。这个旋转轴任选地设置在烘焙钳穿过环形传送机的移动方向的法向面中。特别地，这个旋转轴和任选地载体元件也是横向于烘焙钳移动方向延伸的，和优选侧向延伸到打开的烘焙钳中。
另一相对移动可以通过移动烘焙钳本身来完成。如果所述激光装置基本上保持在固定位置上，其中投射方向导向到烘焙钳的烘焙表面，和如果烘焙设备的环形传送机随后启动，可以清洁烘焙钳条。如果所述环形传送机进一步移动，则可以清洁激光束所覆盖的几个或者全部的烘焙板的条。现在为了扩大清洁区域，所述偏转光学装置或者发射激光辐射还可以任选通过移动装置来平移移动。这种平移移动或者其方向优选沿着环形传送机和特别是沿着激光装置的旋转轴横向于烘焙钳的传送方向延伸。
在全部实施方案中，激光源可以以这样的方式设置，即，激光束可以以不同的或者以可选择的方向输出。这类激光已知的例如是标记激光，用于标记或者字母标记由钢、塑料或者其他材料制成的物体。这类激光源通常是压实的模块，其可以经由程序界面或者控制界面来控制，以使得激光束是在期望的方向上传递的。
根据一种优选的实施方案，激光源设置在基体上。任选地所述激光源或者具有载体元件的基体可以是可移动地设置，特别是可平移地设置。
根据一种优选的实施方案，激光源的输出方向是基本上水平或者倾斜地延伸的。提供偏转光学装置，现在来将激光辐射在待清洁的烘焙板上进行偏转。这种偏转光学装置可以例如包含偏转元件例如镜子、反射元件、或者其他光学元件(其适于偏转激光束)。
优选所述偏转光学装置包含调节装置，用于改变激光束的投射方向和出口角度。通过这种调节装置，由激光源发射的激光束可以以不同的角度偏转。这种调节装置可以例如是可移动的偏转元件例如诸如镜子。根据一种优选的实施方案，该偏转光学装置包含多个偏转元件。所述激光源用于或者适于将激光束根据期望导向到至少一个偏转元件上。作为不同构造的偏转元件的结果，例如，通过以不同角度设置反射元件，激光束的出口角度可以根据偏转元件的选择来变化。
为了有效清洁烘焙表面和密封条，如果所述激光束在最短的可能时间内清洁了最大可能的面积，则它会是有利的。由于这个原因，所述激光束优选不是以间断方式静态导向到待清洁的烘焙表面上，而是导向到可选择的目标区域上。这个目标区域特别是通过轮廓形成的，其被激光束穿过。在这种情况中，所述轮廓可以定期或者以振荡方式穿过。任选地所述轮廓可以循环或者重复地穿过。作为快速穿过目标区域的结果，增加了激光的作用范围。根据一种优选的实施方案，目标区域设置为基本上条形或者线性的。这个目标区域可以优选根据期望导向到偏转元件之一上，以使得目标区域偏转和投射到烘焙表面上。这个目标区域是沿着投射方向来投射的。这个投射方向现在可以通过用于偏转光学装置的调节装置来变化。
特别是对于清洁侧向设置的蒸发条或者密封条来说，如果投射方向偏离垂直方向，则它是有利的。结果，还能够有效清洁内拐角。
根据一种优选的实施方案，所述偏转光学装置是基本上被动的，并且包含基本上硬质连接到载体元件上的镜子。所述载体元件可以例如设置为投射载体元件。特别地，所述载体元件也可以配置成管状和在它的自由端包含偏转光学装置。作为这种构造的结果，所述载体元件的自由端可以配置成空间节约的，由此该激光装置可以引入以锐角打开的烘焙板之间。特别地，如果烘焙板必须仅仅具有那些打开角度(所述角度是它们在烘焙机的常规运行过程中所具有的)，则它是有利的。这个角度例如是30°-60°，特别是大约35°-40°。
作为所述偏转光学装置的另外可旋转性的结果，投射方向可以以另外的自由度旋转或者移动。结果，例如甚至可以清洁具有密封条和/或蒸发条的盒形烘焙板。此外，所述旋转性带来了有利的效果，即，投射方向或者激光辐射可以通过启动载体元件驱动器来从下烘焙板导向到上烘焙板或者从上烘焙板导向到下烘焙板。上烘焙板和下烘焙板的清洁优选以相同方式进行。
为了避免在投射方向旋转过程中从烘焙板之间发射的激光辐射，任选地可以提供控制凸轮和扫描元件。这些元件是以这样的方式设置的，即，当投射方向不是导向到任何烘焙板时，激光源是停用的。
可选择地或者另外，所述偏转光学装置还可以以这样的方式设置，即，投射方向可以不仅在平行于密封或者蒸发条延伸的平面内调节，而且可以在倾斜于密封或者蒸发条的行程的平面内调节，以使得盒形烘焙板可以仅仅通过该偏转光学装置来清洁。
一种示例性的清洁以浮雕状方式设置的烘焙表面和烘焙板的蒸发或者密封条的方法可以例如包含一种或多种下面的步骤：
在第一步骤中，烘焙设备可以置于清洁模式，其中不浇注面糊。在另一步骤中，可以启动激光装置。该激光装置可以例如配置为模块，其可以要放置或者已经放置在烘焙设备上。优选该激光装置放置在烘焙设备上的烘焙设备的前头部区域中。在这个区域中，烘焙钳在正常运行过程中是打开的，来浇注在生面团上和用于除去产品。另一方面在清洁模式中，激光装置投射在烘焙板之间来进行清洁。在具有模块化构造的激光装置中，因此必须首先可能进行到与烘焙设备的连接。特别地，所述连接是机械进行的和/或通过控制技术来进行的。
在另一步骤中，启动激光源，以使得激光源的激光辐射输出到目标区域中。该偏转光学装置设置在这个目标区域中，通过其来偏转激光辐射，和特别是偏转到烘焙钳的两个烘焙板之一上。现在为了清洁一个区域或者整个烘焙板，激光装置的自由度可以用于将激光束在整个烘焙板上引导。
任选地启动所述烘焙设备的环形传送机来带来激光束和烘焙板之间的相对移动。根据一种优选的实施方案，所述烘焙钳是沿着环形传送机移动的，其中第一步骤中的激光装置保持基本上未除去，来清洁全部烘焙钳条。在第二步骤中，所述激光装置或者激光束是与烘焙板的传送方向平移、横向移动，来清洁平行于第一条延伸的第二条的全部烘焙钳。
这种方法可以这样频繁重复，直到清洁了全部下板和/或全部上板。
为了清洁蒸发或者密封条的拐角和边缘和特别是为了能够更有效地清洁烘焙钳的浮雕状结构，可以调节投射方向的入射角。这些不同的入射角度特别是通过调节偏转光学装置来带来的。不同的入射角度优选位于一个平面内，其对应于垂直于烘焙钳的传送方向的平面。
当清洁下板时，该偏转光学装置可以例如旋转180o，以使得激光束导向到上烘焙板。上板的清洁，特别是条形清洁，可以类似于清洁下板来进行。
此外，所述激光装置可以包含吸入单元，其特别是可以提取清洁过程中所产生的燃烧气体或者压片粒子。
本发明任选地涉及一种具有烘焙设备的装置，其中提供激光装置，其中提供与激光装置连接的界面，其中该界面包含机械界面，用于将该激光装置结合到烘焙机和/或控制界面，用于将烘焙机的控制与激光装置的控制相结合，其中该激光装置包含激光头，激光辐射可以从其导向烘焙表面上的加工区域，并且该激光头和烘焙表面具有相对于彼此的至少一个可驱动的自由度和/或其中该烘焙表面和/或激光头可以通过至少一个驱动器来驱动和移动。
任何形式的激光装置可以用作激光装置，其适于从烘焙表面除去污染物。但是优选使用的是市售工业激光器例如特别是标记激光器。该激光通过振荡例如10至大约120mm宽的烘焙表面条来处理，其中该条优选是大约16mm宽。取决于所述条的宽度，必需的可以是烘焙表面不是在单道中清洁，而是在多道中清洁。如果该激光装置处理区域的宽度对应于烘焙板的宽度，则所述处理可以在一步中进行。
优选使用脉冲模式或连续模式的固态激光器或者CO2激光器。可以使用的激光装置的例子是TEA CO2激光器或者固态激光器，波长是10.6μm。
激光供料可以是20-500瓦特。优选该供料是大约100-200瓦特。波长1.06μm和功率大约60瓦特的光纤激光器已经在实践中被证实是特别有利的。
实际所需的激光功率此外任选地取决于振荡频率、振幅、污染的类型和程度。
所述激光装置任选地连接或者结合到烘焙设备上。为此目的，烘焙机以及激光装置任选地都具有界面。所述界面可以一方面具有控制界面和另一方面具有机械界面。该控制界面任选地将用于控制激光装置的装置和用于控制烘焙机的装置与控制单元连接。在这种情况中，单个控制单元会是合适的和/或适于控制激光装置和烘焙机，或者用于激光装置的控制制造和用于烘焙机的控制装置可以在每种情况中提供。例如，移动烘焙表面的速度可以根据清洁而变化。此外，激光装置的控制可以根据污染程度和烘焙表面的速度来进行。因此例如控制参数例如激光功率、振荡频率或者振幅可以通过经由界面连接来改变。
所述界面进一步任选地涉及将激光装置机械连接和/或结合到烘焙机上。这个界面例如是通过常规连接装置例如螺杆、螺栓、夹紧装置、引导装置等来给出的。原则上，任何连接装置是合适的，其可以用于产生界面，特别是激光装置在烘焙机上期望的定位。
在根据本发明的方法中，具有高强度的光束，优选激光束，是任选地通过根据本发明的装置来在烘焙表面上引导的。该烘焙表面优选由金属体形成和具有光滑表面或者预定的图案类浮雕结构。当该激光束入射到烘焙表面上时，反射了大比例的辐射。但是，当激光束入射到污染位置或者污染粒子时，该激光束被污染物吸收。所述能量转化成热能，由此加热该污染物粒子或者污染区域，直到发生燃烧或者蒸发。作为污染物和烘焙表面不同的吸收或者反射性的结果，特别有效的和轻柔的清洁是可能的。该清洁方法因此基本上是一种热方法。
因为根据一种优选的实施方案的激光源的激光束穿过轮廓和特别是以振荡或者移动方式输出，特别是规定平均输出方向来限定输出方向或者激光辐射的行程。如果激光辐射是例如以振荡方式沿着条形或者线形轮廓输出的，则激光源和目标区域中心或者轮廓中心之间的直接连接定义为输出方向或者平均输出方向。所述目标区域是通过偏转光学装置来偏转到或者投射到烘焙表面上。该投射方向还定义为这样的方向，其对应于激光辐射以振荡或者移动方式输出的平均方向和偏转。投射方向在烘焙板上的入射角度因此优选还定义为平均辐射方向的入射方向。
本发明进一步参考附图来描述，其中图1显示了烘焙钳和一部分激光装置的示意图，图2显示了一部分激光装置的俯视图，图3显示了示例性偏转光学装置的载体元件的区域，图4显示了一部分示例性偏转光学装置的示意性细节图，图5显示了具有控制凸轮和扫描元件的截面，和图6显示了具有烘焙设备的装置的示意图。
除非另有规定，否则附图标记对应于下面的部件：烘焙表面1，密封条或者蒸发条2，烘焙板3，烘焙机4，激光源5，激光束6，目标区域7，轮廓8，偏转光学装置9，投射方向10，偏转元件11，(载体元件的)旋转轴12，基体13，载体元件14，(载体元件的)自由端15，载体元件驱动器16，控制凸轮17，扫描元件18，吸入单元19，吸入管线20，(平移运动的)方向21，环形传送机22，烘焙钳23，上板24，下板25，装入设备26，(用于闭合烘焙钳)的设备27，烘焙室28，(用于打开烘焙钳)的设备29，入射角度30，产品除去装置31。
图1显示了至少一部分的激光装置和包含烘焙设备的装置的示意图。作为例子显示的烘焙设备是烘焙钳23，其包含两个烘焙板3，即，上板24和下板25。两个板24，25是以铰接方式彼此连接的，并且由此可以通过用于打开和用于闭合烘焙钳23的设备(27，29)进行打开或者闭合。
每个烘焙板3优选包含烘焙表面1。这个烘焙表面1是烘焙板3的表面，生面团或者烘焙物质开始与之接触，并且其可以通过根据本发明的装置来清洁。任选地烘焙板3包含一个或多个密封或者蒸发条2。这些蒸发或者密封条2用于密封由烘焙板3形成的烘焙模具和任选地用于在烘焙物质中所含的水组分蒸发过程中保持烘焙物质。密封或者蒸发条2任选地投射超过烘焙板3的烘焙表面1，由此形成一定角度，其可以优选通过根据本发明的装置来清洁。
所述激光装置包含激光源5，用于将激光束6输出到目标区域7中。在目标区域7中提供偏转光学装置9，其用于将激光束6沿着几个投射方向10输出到烘焙板3上。
具体地，该激光装置包含几个自由度，用于改变激光束的输出方向或者投射方向10。该激光装置任选地包含载体元件14，其在本发明的实施方案中配置成基本上管状的。偏转光学装置9提供在载体元件14的自由端15处。任选地载体元件驱动器16提供来用于移动载体元件14和特别是用于移动偏转光学装置9。在本发明的实施方案中，载体元件驱动器16是旋转驱动器，用于将载体元件14绕着旋转轴12旋转。
优选所述激光装置包含基体13，其是基本上时刚性或者任选地时可移动设置的。任选地提供具有吸入管线20的吸入单元19，来用于提取污染物粒子或者气体。
该激光装置进一步包含用于沿着方向21或者沿着两个平移方向平移运动的设备。任选地平移运动的方向21基本上遵照旋转轴12或者载体元件14的行程。
投射方向10可以通过偏转光学装置9具体的构造以在烘焙表面1上以不同的入射角度30来引导。优选可以实现至少两个不同的投射方向10，其中所述两个角度(其从偏转光学装置9开始)优选在垂直方向的两侧上绕轴旋转。在本发明的实施方案中，描述了三个不同的投射方向10或者这些投射方向10的三个不同的入射角度30。平均投射方向10是以烘焙表面1上的基本上90度的入射角度30入射的。两个其他投射方向10是从这个90度的入射角度30的不同角度绕轴旋转的。这确保了激光源5的激光束6也可以透入密封条2的角落中。
图2显示了图1所示的激光装置的俯视图，其中图1所述的部件对应于图2的部件。
根据图2的实施方案，吸入单元19包含两个吸入管线20，其中一个吸入管线20导向到下板25上，和一个吸入管线20导向到上板24上。上板24或者下板25是根据偏转光学装置9的旋转位置或者位置或者根据投射方向10来处理的，其中该各自的吸入单元19或者各自的吸入管线20用于提取。
图3显示了根据本发明的激光装置的零件的示意性截面图。载体元件14设置成基本上管状的和优选闭合的管状，其中偏转光学装置9提供在载体元件14的自由端15区域中。偏转光学装置9在全部实施方案中包含任选的输出，用于激光辐射的输出口，其任选地通过透明元件例如诸如通过透镜或者平坦的透明窗来闭合。偏转光学装置9包含至少一个偏转元件11，其提供在激光源5的目标区域7中，以使得在偏转光学装置9的偏转元件11上入射的激光束6然后在投射方向10的方向上偏转。输出激光辐射的平均方向在全部实施方案中例如在目前的情况中也遵照载体元件14的旋转轴12或者载体元件14的行程。优选载体元件14或者它的自由端15设计成会聚或者基本上圆锥形，以使得激光装置可以引入烘焙钳所形成的圆锥中。
任选地在全部实施方案中，密封透明窗例如诸如玻璃窗还提供在激光源5和载体元件14之间的过渡区域中，来将载体元件14的内部区域与激光源空间隔离。任选地在全部实施方案中，光学元件例如偏转元件或者透明窗包含冷却系统，吹扫空气装置或者密封空气装置。
图4显示了一部分的偏转光学装置9的示意图。偏转光学装置9在该实施方案中包括三个偏转元件11。这三个偏转元件11以不同的角度刚性连接到偏转光学装置9的基板上。根据另一实施方案，更多或更少的偏转元件11可以以不同的角度来提供。根据未显示的另一实施方案，一个或多个偏转元件也可以可移动设置以带来不同的投射方向。
但是根据一种优选的实施方案，偏转元件11是基本上刚性连接到基板的。激光源5发射的激光束6优选导入目标区域7中。目标区域7优选通过轮廓8形成。轮廓8优选以循环或者振荡方式相交。因此在该情况中，目标区域7设置为基本上条形或者线形的。轮廓8因此对应于这个条或者这个线。优选目标区域7根据期望导向到偏转元件11之一上。激光源5的激光束6因此优选导向到仅仅一个轮廓8上或者导向到所述目标区域7之一上。
投射方向10可以通过偏转元件11不同的角度来变化。作为条形或者线形目标区域7的结果，对应于这种形状的形状也投射到烘焙板3上。
在这种形状中，偏转元件11设置为反射元件或者镜子。但是任选地其他元件也可以使用，其适于偏转或者投射激光源5的目标区域7到烘焙表面1上。例如棱角将是可能的选项。
图5显示了图1的截面剖面A-A的示例性截面图。该设备包含控制凸轮17和扫描元件18。载体元件14的旋转或者载体元件驱动器16的传动导致了控制凸轮17相对于扫描元件18的相对移动。扫描元件18通过控制技术连接到激光源5上，以使得它可以启动或者停用。通过扫描控制凸轮17，激光源5可以在投射方向没有导向到烘焙板3或者没有导向到烘焙表面1之一时停用。另一方面，当投射方向10导向待清洁的烘焙表面1时，激光源5可以通过扫描元件18和控制凸轮17组合来启动。
图6显示了根据本发明的装置的零件的示意图，其包含环形传送机22，沿着其行程排列着多个烘焙钳23来基本上沿着上运输水平面和沿着下运输水平面传送。每个烘焙钳23包含两个烘焙板3，即，上板24和下板25。该烘焙设备进一步包含下面的示意部件：装入设备26，用于闭合烘焙钳的设备27，用于打开烘焙钳的设备29和烘焙室28。
所述装置进一步包含激光源5，其是根据本发明的激光装置的零件。
如本发明的图6所示意，激光装置配置为模块，其任选地稳固连接到烘焙设备上或者其可以根据需要提供和连接到烘焙机。优选进行所述连接或者该激光装置设置在这样的区域中，在其中该烘焙设备的烘焙钳23是打开的，例如在装入设备26的区域中或者在产品除去设备31的区域中或者在该装入设备26和产品除去装置31之间。开始时提及类型的常规烘焙设备以大约30°-50°，特别是大约35°-40°的角度打开烘焙钳，通过本发明的构造有效清洁烘焙板3仍然是可能的。这特别是通过载体元件14，偏转光学装置9和/或激光装置的具体构造所带来的。
任选地基体13设计成刚性或者地面直立的，和任选地与移动滑架紧固。任选地基体13设置成可移动平移的，特别是沿着方向21可移动平移和在地板直立设置或者固定设置在基架上。
权利要求书(按照条约第19条的修改)
1.一种装置，其包含具有环形传送机(22)的烘焙设备，
-其中烘焙钳(23)布置在环形传送机(22)上，
-其中所述烘焙钳(23)每个包含下板(25)和上板(24)，所述上板枢转地与下板(25)连接，
-其中所述烘焙钳(23)每个沿着环形传送机(22)连续传送：
-从装载设备(26)用于将烘焙物质施加到打开的烘焙钳(23)，
-到用于关闭所述烘焙钳(23)的设备(27)，
-穿过加热的烘焙室(28)，
-进一步到用于打开所述烘焙钳(23)的设备(29)，
-和然后到产品除去装置(31)，其用于从烘焙钳(23)除去烘焙的产品，
特征在于，
一种激光装置，其提供用于清洁以浮雕状方式设置的烘焙表面(1)，和任选地用于清洁烘焙机(4)的烘焙板(3)的蒸发条和/或密封条(2)，
其中所述激光装置包含：
-激光源(5)，用于通过连续改变激光束(6)的输出方向和穿过形成目标区域(7)的轮廓(8)，来将激光束(6)输出到局部可选择的目标区域(7)，
-偏转光学装置(9)，其布置在距离激光源(5)一定的距离和处于激光源(5)的目标区域(7)中，用于偏转所述激光束(6)和用于沿着投射方向(10)将通过轮廓(8)所形成的目标区域(7)投射到待清洁的烘焙板(3)上，
和在于所述偏转光学装置(9)具有调节装置，用于改变激光束(6)的投射方向(10)和出口方向。
2.根据权利要求1的装置，其中所述激光装置特征在于，
-所述偏转光学装置(9)具有至少两个偏转元件(11)，其以不同的角度偏转从激光源(5)发射的激光束(6)，
-或所述偏转光学装置(9)具有至少两个偏转元件(11)，其设置为反射元件例如特别是镜子，其相对于激光源(5)以不同角度布置，
-或所述偏转光学装置(9)具有至少一个偏转元件(11)，用于偏转激光束(6)，其具有至少两个可选择的位置，
-从而提供至少两个可选择的不同的投射方向(10)。
3.根据权利要求1或2的装置，其中所述激光装置特征在于，
-所述偏转光学装置(9)或其偏转元件(11)布置为能够移动，
-和/或所述偏转光学装置(9)或其偏转元件(11)布置为能够绕着旋转轴(12)扭曲、枢转或旋转，其中所述旋转轴(12)大致对应于激光束(6)从激光源(5)的中心输出方向。
4.根据权利要求1-3之一的装置，其中所述激光装置特征在于提供载体元件(14)，其是从基体(13)突出的，并且其特别地设置为管状，所述偏转光学装置(9)提供在载体元件(14)的自由端(15)的区域，并且特别是稳固地与载体元件(14)连接。
5.根据权利要求1-4之一的装置，其中所述激光装置特征在于所述载体元件(14)布置为通过载体元件驱动器(16)能够移动、旋转或绕着旋转轴(12)旋转。
6.根据权利要求1-5之一的装置，其中所述激光装置特征在于所述载体元件驱动器(16)和/或激光源(5)布置在基体(13)的区域或布置在基体(13)上。
7.根据权利要求1-6之一的装置，其中所述激光装置特征在于激光源(5)的目标区域(7)根据期望导向到偏转元件(11)之一上或导向到作为反射元件设置的偏转元件(11)之一上。
8.根据权利要求1-7之一的装置，其中所述激光装置特征在于，
-目标区域(7)和形成目标区域(7)的轮廓(8)设置为条形或线形，
-或目标区域(7)和形成目标区域(7)的轮廓(8)设置为条形或线形，并且以振荡方式往复或通过激光束(6)来重复。
9.根据权利要求1-8之一的装置，其中所述激光装置特征在于，
-提供控制凸轮(17)，其通过扫描元件(18)扫描来启动或停用激光源(5)，
-和扫描元件(18)将通过载体元件驱动器(16)的驱动和任选地通过载体元件(14)的旋转，其将会或能够相对于控制凸轮(17)移动，
和由此根据投射方向(10)来启动或停用激光源(5)。
10.根据权利要求1-9之一的装置，其中所述激光装置特征在于提供吸入单元(19)，其吸入管线(20)突出到激光束(6)出现于其中的区域中或激光束(6)入射到待清洁物体的区域。
11.根据权利要求1-10之一的装置，其中所述激光装置特征在于提供移动装置(20)，用于所述载体元件(14)或偏转光学装置(9)的平移运动，
其中平移运动的方向(21)特别是跟随激光束(6)从激光源(5)的中心输出方向，载体元件(14)或旋转轴(12)的行程，
和其中任选地提供平移运动的第二方向(21)，其基本上与第一方向横向来延伸，和特别是与之垂直延伸。
12.根据权利要求1-11之一的装置，其中所述激光装置特征在于所述激光装置设置为模块，其能够与烘焙机(4)连接或已经与烘焙机(4)连接。
13.根据权利要求1-12之一的装置，特征在于提供用于打开烘焙钳(23)的设备(29)和用于关闭烘焙钳(23)的设备(27)，和烘焙钳(23)在两个设备(27，29)之间以一定的打开角度打开，
和偏转光学装置(9)和至少一部分的载体元件(14)侧向地，即横向于环形传送机(22)的移动方向来投射到烘焙钳(23)中和上板(24)与下板(25)之间。
14.根据权利要求1-13之一的装置，特征在于投射方向(10)是通过根据期望调节偏转光学装置(9)或通过调节与偏转光学装置(9)连接的载体元件(14)以使其从内侧导向到上板(24)或从内侧导向到下板(25)。
15.根据权利要求1-14之一的装置，特征在于投射装置(10)在烘焙钳(23)上的入射角度(30)能够通过任选地将激光源(5)的目标区域(7)导向到偏转元件(11)之一上或反射元件之一上来改变。
16.根据权利要求1-15之一的装置，特征在于，
-所述偏转光学装置(9)包含至少两个偏转元件(11)，
-激光源(5)的目标区域(7)任选地导向到两个偏转元件(11)之一上，
-当激光源(5)的目标区域(7)导向到一个偏转元件(11)上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第一入射角度(30)，
-当激光源(5)的目标区域(7)导向到另一偏转元件(11)上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第二入射角度(30)，
-和两个入射角度(30)从垂直于烘焙板入射的入射角度以相反方向偏离。
17.根据权利要求1-16之一的装置，特征在于，
-偏转光学装置(9)具有至少三个反射元件，
-激光源(5)的目标区域(7)根据期望导向到三个反射元件之一上，
-当激光源(5)的目标区域(7)导向到一个反射元件上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第一入射角度(30)，
-当激光源(5)的目标区域(7)导向到另一反射元件上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第二入射角度(30)，
-和两个入射角度(30)从垂直于烘焙板(3)入射的入射角度以相反方向偏离，
-和当激光源(5)的目标区域(7)导向到第三反射元件上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第三入射角度(30)，其处于第一和第二入射角度(30)之间，和特别是基本上垂直于待清洁的烘焙板(3)延伸。

Claims (18)

1.一种激光装置，其用于清洁以浮雕状方式设置的烘焙表面(1)，和任选地用于清洁烘焙机(4)的烘焙板(3)的蒸发条和/或密封条(2)，其包含：
-激光源(5)，用于通过连续改变激光束(6)的输出方向和穿过形成目标区域(7)的轮廓(8)，来将激光束(6)输出到局部可选择的目标区域(7)，
-偏转光学装置(9)，其布置在距离激光源(5)一定的距离和处于激光源(5)的目标区域(7)中，用于偏转所述激光束(6)和用于沿着投射方向(10)将通过轮廓(8)所形成的目标区域(7)投射到待清洁的烘焙板(3)上，
特征在于所述偏转光学装置(9)具有调节装置，用于改变激光束(6)的投射方向(10)和出口方向。
2.根据权利要求1的激光装置，特征在于，
-所述偏转光学装置(9)具有至少两个偏转元件(11)，其以不同的角度偏转从激光源(5)发射的激光束(6)，
-或所述偏转光学装置(9)单元具有至少两个偏转元件(11)，其设置为反射元件例如特别是镜子，其相对于激光源(5)以不同角度布置，
-或所述偏转光学装置(9)具有至少一个偏转元件(11)，用于偏转激光束(6)，其具有至少两个可选择的位置，
-从而提供至少两个可选择的不同的投射方向(10)。
3.根据权利要求1或2的激光装置，特征在于，
-所述偏转光学装置(9)或其偏转元件(11)布置为能够移动，
-和/或所述偏转光学装置(9)或其偏转元件(11)布置为能够绕着旋转轴(12)扭曲、枢转或旋转，其中所述旋转轴(12)大致对应于激光束(6)从激光源(5)的中心输出方向。
4.根据权利要求1-3之一的激光装置，特征在于提供载体元件(14)，其是从基体(13)突出的，并且其特别地设置为管状，
所述偏转光学装置(9)提供在载体元件(14)的自由端(15)的区域，并且特别是稳固地与载体元件(14)连接。
5.根据权利要求1-4之一的激光装置，特征在于所述载体元件(14)布置为通过载体元件驱动器(16)能够移动、旋转或绕着旋转轴(12)旋转。
6.根据权利要求1-5之一的激光装置，特征在于所述载体元件驱动器(16)和/或激光源(5)布置在基体(13)的区域或布置在基体(13)上。
7.根据权利要求1-6之一的激光装置，特征在于激光源(5)的目标区域(7)根据期望导向到偏转元件(11)之一上或导向到作为反射元件设置的偏转元件(11)之一上。
8.根据权利要求1-7之一的激光装置，特征在于，
-目标区域(7)和形成目标区域(7)的轮廓(8)设置为条形或线形，
-或目标区域(7)和形成目标区域(7)的轮廓(8)设置为条形或线形，并且以振荡方式往复或通过激光束(6)来重复。
9.根据权利要求1-8之一的激光装置，特征在于，
-提供控制凸轮(17)，其通过扫描元件(18)扫描来启动或停用激光源(5)，
-和扫描元件(18)将通过载体元件驱动器(16)的驱动和任选地通过载体元件(14)的旋转，其将会或能够相对于控制凸轮(17)移动，
和由此根据投射方向(10)来启动或停用激光源(5)。
10.根据权利要求1-9之一的激光装置，特征在于提供吸入单元(19)，其吸入管线(20)突出到激光束(6)出现于其中的区域中或激光束(6)入射到待清洁物体的区域。
11.根据权利要求1-10之一的激光装置，特征在于提供移动装置(20)，用于所述载体元件(14)或偏转光学装置(9)的平移运动，其中平移运动的方向(21)特别是跟随激光束(6)从激光源(5)的中心输出方向，载体元件(14)或旋转轴(12)的行程，
和其中任选地提供平移运动的第二方向(21)，其基本上与第一方向横向来延伸，和特别是与之垂直延伸。
12.根据权利要求1-11之一的激光装置，特征在于所述激光装置设置为模块，其能够与烘焙机(4)连接或已经与烘焙机(4)连接。
13.所述的装置，其包含具有环形传送机(22)的烘焙设备，
-其中烘焙钳(23)布置在环形传送机(22)上，
-其中所述烘焙钳(23)每个包含下板(25)和上板(24)，所述上板枢转地与下板(25)连接，
-其中所述烘焙钳(23)每个沿着环形传送机(22)连续传送：
-从装载设备(26)用于将烘焙物质施加到打开的烘焙钳(23)，
-到用于关闭所述烘焙钳(23)的设备(27)，
-穿过加热的烘焙室(28)，
-进一步到用于打开所述烘焙钳(23)的设备(29)，
-和然后到产品除去装置(31)，其用于从烘焙钳(23)除去烘焙的产品，
特征在于根据前述权利要求之一的激光装置。
14.根据权利要求13的装置，特征在于提供用于打开烘焙钳(23)的设备(29)和用于关闭烘焙钳(23)的设备(27)，和烘焙钳(23)在两个设备(27，29)之间以一定的打开角度打开，和偏转光学装置(9)和至少一部分的载体元件(14)侧向地，即横向于环形传送机(22)的移动方向来投射到烘焙钳(23)中和上板(24)与下板(25)之间。
15.根据权利要求13或14的装置，特征在于投射方向(10)是通过根据期望调节偏转光学装置(9)或通过调节与偏转光学装置(9)连接的载体元件(14)以使其从内侧导向到上板(24)或从内侧导向到下板(25)。
16.根据权利要求13-15之一的装置，特征在于投射装置(10)在烘焙钳(23)上的入射角度(30)能够通过任选地将激光源(5)的目标区域(7)导向到偏转元件(11)之一上或反射元件之一上来改变。
17.根据权利要求13-16之一的装置，特征在于，
-所述偏转光学装置(9)包含至少两个偏转元件(11)，
-激光源(5)的目标区域(7)任选地导向到两个偏转元件(11)之一上，
-当激光源(5)的目标区域(7)导向到一个偏转元件(11)上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第一入射角度(30)，
-当激光源(5)的目标区域(7)导向到另一偏转元件(11)上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第二入射角度(30)，
-和两个入射角度(30)从垂直于烘焙板入射的入射角度以相反方向偏离。
18.根据权利要求13-16之一的装置，特征在于，
-偏转光学装置(9)具有至少三个反射元件，
-激光源(5)的目标区域(7)根据期望导向到三个反射元件之一上，
-当激光源(5)的目标区域(7)导向到一个反射元件上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第一入射角度(30)，
-当激光源(5)的目标区域(7)导向到另一反射元件上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第二入射角度(30)，
-和两个入射角度(30)从垂直于烘焙板(3)入射的入射角度以相反方向偏离，
-和当激光源(5)的目标区域(7)导向到第三反射元件上时，投射方向(10)在待清洁的烘焙板(3)上具有第三入射角度(30)，其处于第一和第二入射角度(30)之间，和特别是基本上垂直于待清洁的烘焙板(3)延伸。
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