CN107817649A - 感光性树脂组合物、聚酰胺树脂及其制造方法、化合物及其制造方法、固化膜及其制造方法 - Google Patents

感光性树脂组合物、聚酰胺树脂及其制造方法、化合物及其制造方法、固化膜及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107817649A
CN107817649A CN201710813526.5A CN201710813526A CN107817649A CN 107817649 A CN107817649 A CN 107817649A CN 201710813526 A CN201710813526 A CN 201710813526A CN 107817649 A CN107817649 A CN 107817649A
Authority
CN
China
Prior art keywords
formula
less
group
carbon number
hydrogen atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201710813526.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107817649B (zh
Inventor
田所惠典
盐田大
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2017151972A external-priority patent/JP6909093B2/ja
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Publication of CN107817649A publication Critical patent/CN107817649A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107817649B publication Critical patent/CN107817649B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0387Polyamides or polyimides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1075Partially aromatic polyimides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G69/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
    • C08G69/02Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
    • C08G69/26Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1075Partially aromatic polyimides
    • C08G73/1078Partially aromatic polyimides wholly aromatic in the diamino moiety
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polyamides (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

本发明涉及感光性树脂组合物、聚酰胺树脂及其制造方法、化合物及其制造方法、固化膜及其制造方法。本发明提供可形成对基板的密合性良好且透明性优异的固化膜的感光性树脂组合物、可在该感光性树脂组合物中合适地使用的聚酰胺树脂、该聚酰胺树脂的制造方法、可作为该聚酰胺树脂的原料而合适地使用的化合物、该化合物的制造方法、使用上述感光性树脂组合物的固化膜的制造方法、和使上述感光性树脂组合物固化而形成的固化膜。在包含树脂(A)和光聚合引发剂(B)的感光性树脂组合物中,使用不仅包含特定的饱和脂环式骨架、而且包含羧基中的至少一方经含有规定结构的聚合性基团的单元酯化而成的结构单元的聚酰胺树脂作为树脂(A)。

Description

感光性树脂组合物、聚酰胺树脂及其制造方法、化合物及其制 造方法、固化膜及其制造方法
技术领域
本发明涉及含有包含特定结构的脂环式骨架的聚酰胺树脂的感光性树脂组合物、上述的聚酰胺树脂、上述的聚酰胺树脂的制造方法、可作为上述的聚酰胺树脂的原料而合适地使用的化合物、上述的化合物的制造方法、使用上述的感光性树脂组合物的固化膜的制造方法、和使上述的感光性树脂组合物固化而形成的固化膜。
背景技术
作为各种电子部件中的绝缘膜、半导体器件中的钝化膜、表面保护膜、层间绝缘膜等的材质,广泛使用了耐热性、电气特性、及机械特性等优异的聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂等。
对于电子部件中的绝缘膜、半导体器件中的钝化膜、表面保护膜、层间绝缘膜等而言,其常常以准确的尺寸形成在微小的区域内。因此,常常使用容易通过曝光及显影而准确地在规定位置上形成规定尺寸的树脂膜的包含聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂或聚酰亚胺树脂前体的感光性组合物。
作为所述感光性组合物,例如已提出了含有下述聚酰胺树脂的感光性组合物,所述聚酰胺树脂具有规定结构的聚酰胺酸酯的化学结构,其中,作为形成了酯键的有机基团,以特定的比率包含碳原子数为5以上的烃基、和(甲基)丙烯酰基氧基乙基等规定结构的聚合性官能团这2种基团(参见专利文献1)。根据专利文献1的记载,认为通过在使用该感光性组合物形成经图案化的树脂膜后对该树脂膜进行加热,可形成杨氏模量高的固化膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2013/168675号小册子
发明内容
发明所要解决的课题
然而,在使用专利文献1中记载的感光性组合物的情况下,在曝光及显影后形成的经图案化的树脂膜的对基板的密合性有时不一定良好。
另外,在使用感光性组合物形成绝缘膜等的情况下,根据电子部件、半导体器件的用途,有时要求其是透明的。关于该点,已发现即使在使用专利文献1中记载的感光性组合物的情况下,从形成透明的树脂膜这样的观点考虑也仍然存在改良的余地。
本发明是鉴于上述的课题而作出的,目的在于提供可形成对基板的密合性良好且透明性优异的固化膜的感光性树脂组合物、可在该感光性树脂组合物中合适地使用的聚酰胺树脂、该聚酰胺树脂的制造方法、可作为该聚酰胺树脂的原料而合适地使用的化合物、该化合物的制造方法、和使用上述的感光性树脂组合物的固化膜的制造方法、和使上述的感光性树脂组合物固化而形成的固化膜。
用于解决课题的手段
本申请的发明人发现,通过在包含树脂(A)和光聚合引发剂(B)的感光性树脂组合物中,使用不仅包含特定的饱和脂环式骨架、而且包含羧基中的至少一方经含有规定结构的聚合性基团的单元酯化而成的结构单元的聚酰胺树脂作为树脂(A),可解决上述的课题,从而完成了本发明。更具体而言,本发明提供以下方案。
本发明的第1方式是一种感光性树脂组合物,所述感光性树脂组合物包含树脂(A)和光聚合引发剂(B),树脂(A)含有包含下述式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂。
[化学式1]
(式(a1)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Y1为2价的有机基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,
[化学式2]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式3]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
本发明的第2方式是一种聚酰胺树脂,所述聚酰胺树脂包含下述式(a1)表示的结构单元。
[化学式4]
(式(a1)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Y1为2价的有机基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为氢原子的情况下,-COORa1或-COORa2表示的羧基可形成酰卤,也可形成盐。
[化学式5]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式6]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
本发明的第3方式是第2方式所述的聚酰胺树脂的制造方法,所述方法包括下述步骤:使下述式(I)表示的多元羧酸化合物及/或上述的多元羧酸化合物的酰卤、与下述式(II)表示的二胺化合物缩合的步骤。
[化学式7]
(式(I)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,
[化学式8]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式9]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,
m为2以上10以下的整数。)
H2N-Y1-NH2···(II)
(式(II)中,Y1为2价的有机基团。)
本发明的第4方式是下述式(I)表示的化合物,所述化合物所具有的羧基可形成酰卤,也可形成盐。
[化学式10]
(式(I)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,
[化学式11]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式12]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
本发明的第5方式是第4方式所述的化合物的制造方法,所述方法包括下述步骤:使下述式(a4)表示的四羧酸二酐、与下述式(a5)表示的不饱和羧酸酯反应。
[化学式13]
(式(a4)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数。)
[化学式14]
(式(a5)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
本发明的第6方式是固化膜的制造方法,所述方法包括下述工序:
涂布第1方式所述的感光性树脂组合物而形成涂布膜的工序,和
将涂布膜曝光的工序。
本发明的第7方式是一种固化膜,其是使第1方式所述的感光性树脂组合物固化而形成的。
发明的效果
通过本发明,能够提供可形成对基板的密合性良好且透明性优异的固化膜的感光性树脂组合物、可在该感光性树脂组合物中合适地使用的聚酰胺树脂、该聚酰胺树脂的制造方法、可作为该聚酰胺树脂的原料而合适地使用的化合物、该化合物的制造方法、使用上述的感光性树脂组合物的固化膜的制造方法、和使上述的感光性树脂组合物固化而形成的固化膜。
具体实施方式
以下,基于优选的实施方式,对本发明进行说明。需要说明的是,只要没有特别说明,则本说明书中的“~”表示以上(下限值)至以下(上限值)。
《感光性树脂组合物》
以下,对本发明的第1方式所述的感光性树脂组合物进行说明。第1方式所述的感光性树脂组合物包含树脂(A)和光聚合引发剂(B)。感光性树脂组合物通过组合地包含树脂(A)和光聚合引发剂(B),从而可形成与基板良好地密合、且透明性优异的固化膜,所述树脂(A)包含具有以下说明的结构的聚酰胺树脂。
以下,对感光性树脂组合物包含的必需或任选的成分进行说明。
<树脂(A)>
树脂(A)含有:包含下述式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂。
[化学式15]
(式(a1)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Y1为2价的有机基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,
[化学式16]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式17]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
上述的树脂(A)中包含的聚酰胺树脂必须包含上述的式(a3)表示的基团。因此,通过将感光性树脂组合物曝光,可形成透明性优异的固化膜。
另外,感光性树脂组合物必须包含后述的光聚合引发剂(B)。因此,若将感光性树脂组合物曝光,则在上述的聚酰胺树脂的分子之间发生式(a3)表示的基团彼此的交联,结果,感光性树脂组合物进行固化。
在使用感光性树脂组合物形成固化膜时,通过使上述规定结构的聚酰胺树脂的分子之间发生交联,从而可形成与基板良好地密合的固化膜。
[聚酰胺树脂]
对于聚酰胺树脂而言,只要是如上所述具有上述的式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂即可,没有特别限制。
聚酰胺树脂的分子可包含酯键、碳酸酯键、氨基甲酸酯键、醚键、砜键(-SO2-)、酰亚胺键等酰胺键(-CO-NH-)以外的键。
因此,具有式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂有时为通常被称为聚酯酰胺树脂、聚醚酰胺树脂等的树脂。
本申请的说明书及权利要求书中,对于含有不仅包含酰胺键而且还包含上述的酰胺键以外的键的分子的树脂,为了方便起见,也记载为“聚酰胺树脂”。
聚酰胺树脂不限于仅由直线状分子形成的树脂,也可在分子中具有分支,也可包含网状分子。
聚酰胺树脂包含网状分子的情况下,网状分子优选包含下述式(a1-1)或下述式(a1-2)表示的三价的结构单元。
[化学式18]
式(a1-1)及式(a1-2)中,Y2为2价的有机基团。Y2的优选例与后述的Y1的优选例同样。
式(a1-1)或式(a1-2)表示的结构单元所具有的键合于氨基(-NH-)的化学键与其他结构单元中包含的键合于羰基(-CO-)的化学键键合。
对于聚酰胺树脂中的式(a1)表示的单元的含量而言,在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。
对于聚酰胺树脂中的式(a1)表示的单元的含量而言,从感光性树脂组合物的光固化性、和使用感光性树脂组合物形成的固化膜的透明性良好的观点考虑,相对于聚酰胺树脂的总质量而言,优选为70质量%以上,更优选为80质量%以上,特别优选为90质量%以上,最优选为100质量%。
上述的式(a1)表示的结构单元中,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或上述的式(a3)表示的基团。
碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基可以是直链状或支链状的烷基,可以是饱和脂肪族环式基团,也可以是由饱和脂肪族环式基团与烷基或亚烷基的组合形成的基团。
饱和脂肪族烃基为烷基的情况下,其碳原子数优选为1以上10以下,更优选为1以上8以下,进一步优选为1以上6以下,最优选为1以上4以下。
饱和脂肪族烃基为饱和脂肪族环式基团的情况下,其碳原子数优选为3以上12以下,更优选为4以上10以下。
芳基的碳原子数优选为6以上12以下,更优选为6以上10以下。
芳烷基的碳原子数优选为7以上13以下,更优选为7以上11以下。
需要说明的是,作为式(a1)表示的结构单元中的Ra1及Ra2中的饱和脂肪族烃基、芳基、芳烷基,只要碳原子数满足上述的值即可,除了碳原子以外,也可存在有氮原子(N)、氧原子(O)、硫原子(S)、硅原子(Si)、硒原子(Se)等杂原子。
作为Ra1及Ra2为烷基时的优选例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、及正二十烷基。
这些中,优选甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、及叔丁基,更优选甲基、乙基、正丙基、及异丙基。
作为Ra1及Ra2为饱和脂肪族环式基团时的具体例,可举出从单环烷烃、双环烷烃、三环烷烃、四环烷烃等多环烷烃中除去1个氢原子而得到的基团。具体而言,可举出从环戊烷、环己烷、环庚烷、环辛烷等单环烷烃、金刚烷、降冰片烷、异冰片烷、三环癸烷、四环十二烷等多环烷烃中除去1个氢原子而得到的基团。
作为Ra1及Ra2为芳基时的具体例,可举出苯基、α-萘基、β-萘基、联苯-4-基、联苯-3-基、联苯-2-基、蒽-1-基、蒽-2-基、蒽-9-基、菲-1-基、菲-2-基、菲-3-基、菲-4-基、及菲-9-基。
这些中,优选苯基、α-萘基、β-萘基、联苯-4-基、联苯-3-基、及联苯-2-基,更优选苯基。
作为Ra1及Ra2为芳烷基时的具体例,可举出苄基、苯乙基、3-苯基正丙基、4-苯基正丙基、α-萘基甲基、β-萘基甲基、2-α-萘基乙基、及2-β-萘基乙基。
这些中,优选苄基、及苯乙基,更优选苄基。
式(a3)中的Ra6只要是氢原子或碳原子数为1以上3以下的1价的有机基团,就没有限制,但从感光性树脂组合物的感光特性的观点考虑,优选氢原子或甲基。
式(a3)中的Ra7及Ra8只要各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的1价的有机基团,就没有限制,但从感光性树脂组合物的感光特性的观点考虑,优选为氢原子。
式(a3)中的m为2以上10以下的整数,从感光特性的观点考虑,优选为2以上4以下的整数。
典型地,作为式(a3)表示的基团,优选丙烯酰基氧基乙基、甲基丙烯酰基氧基乙基、3-丙烯酰基氧基正丙基、3-甲基丙烯酰基氧基正丙基、4-丙烯酰基氧基正丁基、及4-甲基丙烯酰基氧基正丁基。
Ra1及Ra2为碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或上述的式(a3)表示的基团时,在对由感光性树脂组合物形成的涂布膜进行位置选择性的曝光后,使用有机溶剂作为显影液进行显影的情况下,未曝光部在显影液中的溶解性特别良好。
关于可选作式(a2)中的Ra3的烷基,为碳原子数为1以上10以下的烷基。可选作Ra3的烷基的碳原子数在1以上10以下的范围内时,容易形成耐热性良好的固化膜。
Ra3为烷基的情况下,从容易形成耐热性优异的固化膜方面考虑,其碳原子数优选为1以上6以下,更优选为1以上5以下,进一步优选为1以上4以下,特别优选为1以上3以下。
Ra3为烷基的情况下,该烷基可以为直链状,也可以为支链状。
作为式(a2)中的Ra3,从使用感光性树脂组合物形成的固化膜的耐热性优异方面考虑,各自独立地更优选为氢原子或碳原子数为1以上10以下的烷基。从用于生成式(a1)表示的结构单元的原料化合物容易获得、容易进行纯化方面考虑,式(a2)中的Ra3更优选为氢原子、甲基、乙基、正丙基或异丙基,特别优选为氢原子或甲基。
式(a2)中的多个Ra3优选为相同的基团。
另外,对于制造的固化膜,从赋予斥水性等观点考虑,使用氟原子作为该Ra3也是优选方式的一例。
式(a2)中的n表示0以上12以下的整数。n为0以上12以下的整数时,提供式(a1)表示的结构体的原料化合物的纯化容易进行,上述的原料化合物的化学稳定性优异。
从提供式(a1)表示的结构体的原料化合物的纯化容易进行的方面考虑,n优选为5以下,更优选为3以下。
从提供式(a1)表示的结构体的原料化合物的化学稳定性优异方面考虑,n优选为1以上,更优选为2以上。
式(a2)中的n特别优选为2或3。
可选作式(a2)中的Ra4及Ra5的碳原子数为1以上10以下的烷基与可选作Ra3的碳原子数为1以上10以下的烷基同样。
从提供式(a1)表示的结构体的原料化合物的纯化容易进行的方面考虑,Ra4及Ra5优选为氢原子或碳原子数为1以上10以下(优选为1以上6以下,更优选为1以上5以下,进一步优选为1以上4以下,特别优选为1以上3以下)的烷基,特别优选为氢原子或甲基。
式(a1)表示的结构单元中,Y1为2价的有机基团。
作为该Y1,可采用例如碳原子数为6以上40以下的2价的有机基团。Y1的碳原子数在上述范围内时,使用感光性树脂组合物容易形成耐热性优异的固化膜,另外,形成固化膜时的显影性良好。
作为这样的碳原子数为6以上40以下的2价的有机基团,可采用具有1个以上且4个以下的芳香族环或脂肪族环的有机基团。
Y1为具有1个以上且4个以下的芳香族环或脂肪族环的有机基团的情况下,所述有机基团优选为包含芳香族环的有机基团。
作为包含芳香族环的有机基团,从使用感光性树脂组合物形成的固化膜的耐热性、与未经曝光的感光性树脂组合物在有机溶剂中的溶解性的均衡性的观点考虑,优选为下述式(1)~(4)表示的基团中的至少1种。
[化学式19]
(式(4)中,R11表示选自由氢原子、氟原子、羟基、碳原子数为1以上4以下的烷基、及碳原子数为1以上4以下的卤代烷基组成的组中的1种。式(4)中,Q表示9,9’-亚芴基(fluorenylidene)、或选自由式-C6H4-、-CONH-C6H4-NHCO-、-NHCO-C6H4-CONH-、-O-C6H4-CO-C6H4-O-、-OCO-C6H4-COO-、-OCO-C6H4-C6H4-COO-、-OCO-、-O-、-S-、-CO-、-CONH-、-SO2-、-C(CF3)2-、-C(CH3)2-、-CH2-、-O-C6H4-C(CH3)2-C6H4-O-、-O-C6H4-C(CF3)2-C6H4-O-、-O-C6H4-SO2-C6H4-O-、-C(CH3)2-C6H4-C(CH3)2-、-O-C10H6-O-、-O-C6H4-C6H4-O-及-O-C6H4-O-表示的基团组成的组中的1种。
Q的示例中的-C6H4-为亚苯基,优选为间亚苯基、及对亚苯基,更优选为对亚苯基。另外,-C10H6-为萘二基(naphthalenediyl),优选为萘-1,2-二基、萘-1,4-二基、萘-2,3-二基、萘-2,6-二基、及萘-2,7-二基,更优选为萘-1,4-二基、及萘-2,6-二基。)
作为式(1)~式(4)中的R11,从形成的固化膜的耐热性的观点考虑,更优选为氢原子、羟基、氟原子、甲基、乙基、或三氟甲基,特别优选为氢原子、羟基、或三氟甲基。
作为式(4)中的Q,从形成的固化膜的耐热性、与未经曝光的感光性树脂组合物在有机溶剂中的溶解性的均衡性的观点考虑,优选为9,9’-亚芴基、-O-C6H4-O-、-C(CF3)2-、-O-、-C(CH3)2-、-CH2-、或-O-C6H4-C(CH3)2-C6H4-O-、-CONH-,特别优选为-O-C6H4-O-、-C(CF3)2-或-O-。
在式(1)~(4)表示的基团中,从容易形成耐热性更优异的固化膜方面考虑,更优选为式(3)或式(4)表示的基团,特别优选为式(4)表示的基团。
另外,作为Y1,可采用可具有链状的脂肪族基团及/或芳香族环的含硅原子的基团。作为这样的含硅原子的基团,典型地,优选使用以下所示的基团。
[化学式20]
另外,从进一步提高得到的固化膜的透明性、机械特性的观点考虑,作为Y1,也可优选使用以下的式(Si-1)表示的基团。
[化学式21]
(式中,R12及R13各自独立地为单键或亚甲基、碳原子数为2以上20以下的亚烷基、碳原子数为3以上20以下的亚环烷基、或碳原子数为6以上20以下的亚芳基等,R14、R15、R16、及R17各自独立地为碳原子数为1以上20以下的烷基、碳原子数为3以上20以下的环烷基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为20以下的氨基、-O-R18表示的基团(R18为碳原子数为1以上20以下的烃基)、碳原子数为2以上20以下的包含1个以上环氧基的有机基团,l为3以上50以下的整数。)
作为式(Si-1)中的R12及R13中的碳原子数为2以上20以下的亚烷基,从耐热性、残余应力的观点考虑,优选为碳原子数为2以上10以下的亚烷基,可举出1,2-亚乙基(dimethylene)、1,3-亚丙基、1,4-亚丁基、1,5-亚戊基、1,6-亚己基等。
作为式(Si-1)中的R12及R13中的碳原子数为3以上20以下的亚环烷基,从上述观点考虑,优选碳原子数为3以上10以下的亚环烷基,可举出亚环丁基、亚环戊基、亚环己基、亚环庚基等。
作为式(Si-1)中的R12及R13中的碳原子数为6以上20以下的亚芳基,从上述观点考虑,优选碳原子数为3以上20以下的芳香族基团,可举出亚苯基、亚萘基等。
作为式(Si-1)中的R14、R15、R16、及R17中的碳原子数为1以上20以下的烷基,从耐热性和残余应力的观点考虑,优选碳原子数为1以上10以下的烷基,具体而言,可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基等。
作为式(Si-1)中的R13、R15、R16、及R17中的碳原子数为3以上20以下的环烷基,从上述观点考虑,优选碳原子数为3以上10以下的环烷基,具体而言,可举出环戊基、环己基等。
作为式(Si-1)中的R14、R15、R16、及R17中的碳原子数为6以上20以下的芳基,从上述观点考虑,优选碳原子数为6以上12以下的芳基,具体而言,可举出苯基、甲苯基、萘基等。
作为式(Si-1)中的R14、R15、R16、及R17中的碳原子数为20以下的氨基,可举出氨基、经取代的氨基(例如,双(三烷基甲硅烷基)氨基)等。
作为式(Si-1)中的R14、R15、R16、及R17中的-O-R18表示的基团,可举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙基氧基、丁氧基、苯氧基、甲苯基氧基、萘基氧基、丙烯基氧基(例如,烯丙基氧基)、及环己基氧基等。
其中,作为R14、R15、R16、及R17,优选为甲基、乙基、丙基、苯基。
式(Si-1)表示的基团可通过使在两个末端具有氨基的含硅化合物作用于酸酐而导入。作为这样的含硅化合物的具体例,可举出双末端氨基改性甲基苯基聚硅氧烷(silicone)(例如信越化学公司制的X-22-1660B-3(数均分子量为4,400左右)及X-22-9409(数均分子量为1,300左右))、双末端氨基改性二甲基聚硅氧烷(例如信越化学公司制的X-22-161A(数均分子量为1,600左右)、X-22-161B(数均分子量为3,000左右)及KF8012(数均分子量为4,400左右);Dow Corning Toray Co.,Ltd.制的BY16-835U(数均分子量为900左右);以及JNC公司制的Silaplane FM3311(数均分子量为1000左右))等。
在以上说明的包含式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂中,对于Ra1和Ra2的总量中的式(a3)表示的基团的量而言,从感光性树脂组合物的固化性、和形成的固化膜对基板的密合性良好的方面考虑,优选为50摩尔%以上,更优选为60摩尔%以上,进一步优选为70摩尔%以上,更进一步优选为80摩尔%以上,进一步特别优选为90摩尔%以上,最优选为100摩尔%。
聚酰胺树脂可在不妨碍本发明的目的的范围内包含上述式(a1)表示的结构单元以外的结构单元。作为上述式(a1)表示的结构单元以外的其他结构单元,例如优选为通过提供上述的Y1的二胺成分与各种二羧酸缩合而生成的结构单元。所述缩合可按照现有已知的聚酰胺树脂的制造方法进行。
作为提供所述其他结构单元的二羧酸的优选的具体例,可举出己二酸、癸二酸、对苯二甲酸、间苯二甲酸、2,6-萘二甲酸、1,6-萘二甲酸、2,7-萘二甲酸、1,4-萘二甲酸、及4,4’-二羧基联苯、它们的烷基、烷氧基或卤素取代物。
另外,其他结构单元也可以是来自内酰胺的聚酰胺单元。作为所述其他结构单元,可举出来自ε-己内酰胺的尼龙6单元、来自十一烷内酰胺的尼龙11单元、来自月桂内酰胺的尼龙12单元等。
此外,通过四羧酸二酐与提供上述的Y1的二胺成分的缩合而生成的聚酰胺酸型的结构单元也优选作为其他结构单元。
作为提供其他结构单元的四羧酸二酐类的优选例,可举出丁烷四甲酸二酐、1,2,3,4-环丁烷四甲酸二酐、1,2,3,4-环戊烷四甲酸二酐、2,3,5-三羧基环戊基乙酸二酐、3,5,6-三羧基降冰片烷-2-乙酸二酐、2,3,4,5-四氢呋喃四甲酸二酐、1,3,3a,4,5,9b-六氢-5-(四氢-2,5-二氧代-3-呋喃基)-萘并[1,2-c]-呋喃-1,3-二酮、1,3,3a,4,5,9b-六氢-5-甲基-5-(四氢-2,5-二氧代-3-呋喃基)-萘并[1,2-c]-呋喃-1,3-二酮、1,3,3a,4,5,9b-六氢-8-甲基-5-(四氢-2,5-二氧代-3-呋喃基)-萘并[1,2-c]-呋喃-1,3-二酮、5-(2,5-二氧代四氢呋喃基)-3-甲基-3-环己烯-1,2-二甲酸二酐、双环[2.2.2]-辛-7-烯-2,3,5,6-四甲酸二酐、双环[2.2.1]-庚烷-2,3,5,6-四甲酸二酐、(4H,8H)-十氢-1,4:5,8-二甲桥萘(dimethanonaphthalene)-2,3,6,7-四甲酸二酐、五环[9.2.1.14,7.02,10.03,8]-十五烷-5,6,12,13-四甲酸二酐等脂肪族或脂环式四羧酸二酐;均苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基砜四甲酸二酐、1,4,5,8-萘四甲酸二酐、2,3,6,7-萘四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基醚四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二甲基二苯基硅烷四甲酸二酐、3,3’,4,4’-四苯基硅烷四甲酸二酐、1,2,3,4-呋喃四甲酸二酐、4,4’-双(3,4-二羧基苯氧基)二苯基硫醚二酐、4,4’-双(3,4-二羧基苯氧基)二苯基砜二酐、4,4’-双(3,4-二羧基苯氧基)二苯基丙烷二酐、3,3’,4,4’-全氟异亚丙基(isopropylidene)二邻苯二甲酸二酐、4,4’-(2,2-六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐、2,3,3’,4’-联苯四甲酸二酐、双(邻苯二甲酸)苯基氧化膦二酐、对亚苯基双(三苯基邻苯二甲酸)二酐、间亚苯基双(三苯基邻苯二甲酸)二酐、双(三苯基邻苯二甲酸)-4,4’-二苯基醚二酐、双(三苯基邻苯二甲酸)-4,4’-二苯基甲烷二酐等芳香族四羧酸二酐等。
以上说明的聚酰胺树脂的制造方法没有特别限制,优选为使下述式(I)表示的多元羧酸化合物及/或多元羧酸化合物的酰卤、与下述式(II)表示的二胺化合物缩合的方法。
[化学式22]
(式(I)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,
[化学式23]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式24]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
H2N-Y1-NH2···(II)
(式(II)中,Y1为2价的有机基团。)
此处,式(I)中的Ra1、Ra2及X1、和式(II)中的Y1如针对式(a1)而在上文中说明的那样。另外,关于式(a2)及式(a3),如在上文中说明的那样。
作为聚酰胺树脂的优选的制造方法,可举出例如利用缩合剂使式(I)表示的多元羧酸化合物与式(II)表示的二胺化合物缩合的方法。作为缩合剂,可举出例如二环己基碳二亚胺、1-乙氧基羰基-2-乙氧基-1,2-二氢喹啉、1,1-羰基二氧基-二-1,2,3-苯并三唑、N,N’-二琥珀酰亚胺基碳酸酯等。
作为其他的优选方法,可举出在碱的存在下使式(I)表示的多元羧酸化合物或式(I)表示的多元羧酸化合物的酰卤、与式(II)表示的二胺缩合的方法。该方法中,根据需要,可不仅使用碱而且还使用缩合剂。
作为酰卤,优选酰氯及酰溴,更优选酰氯。
作为碱,可举出吡啶、三乙基胺、4-二甲基氨基吡啶等。
作为缩合剂,可举出亚磷酸三苯酯、二环己基碳二亚胺、1-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、N,N’-羰基二咪唑、二甲氧基-1,3,5-三嗪基甲基吗啉鎓(morpholinium)、O-(苯并三唑-1-基)-N,N,N’,N’-四甲基脲鎓四氟硼酸盐、O-(苯并三唑-1-基)-N,N,N’,N’-四甲基脲鎓六氟磷酸盐、(2,3-二氢-2-硫代-3-苯并噁唑基)膦酸二苯酯(diphenyl(2,3-dihydro-2-thioxo-3-benzoxazolyl)phosphon ate)、及4-(4,6-二甲氧基-1,3,5-三嗪-2-基)4-甲氧基吗啉鎓氯化物水合物等。
具体而言,在上述的碱的存在下,在有机溶剂中,于例如-20℃以上150℃以下、优选0℃以上50℃以下,使式(I)表示的多元羧酸化合物或式(I)表示的多元羧酸化合物的酰卤、与式(II)表示的二胺进行30分钟以上24小时以下、优选1小时以上4小时以下的反应。
对于碱的使用量而言,从是容易被除去的量、且容易得到高分子量体这样的观点考虑,相对于式(I)表示的多元羧酸化合物或式(I)表示的多元羧酸化合物的酰卤而言,优选为2倍摩尔以上且4倍摩尔以下。
作为在使式(I)表示的多元羧酸化合物或式(I)表示的多元羧酸化合物的酰卤、与式(II)表示的二胺反应时可使用的有机溶剂,可从不妨碍该反应的已知的有机溶剂中适当选择。
在已知的有机溶剂中,从原料化合物、生成的聚酰胺树脂良好地溶解方面考虑,优选N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二甲基异丁酰胺、N-甲基己内酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲等含氮极性有机溶剂。
另外,也可通过按照常规方法使下述式(a4)表示的四羧酸二酐、与式(II)表示的二胺化合物缩合,得到聚酰胺酸,然后将得到的聚酰胺酸中包含的羧基的一部分或全部进行酯化,从而制造包含式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂。
[化学式25]
四羧酸二酐成分与二胺化合物的反应通常可在有机溶剂中进行。四羧酸二酐成分与二胺化合物的反应中可使用的有机溶剂只要是能将二胺化合物及四羧酸二酐成分溶解、且不与二胺化合物及四羧酸二酐成分反应的有机溶剂即可,没有特别限制。有机溶剂可单独使用,或混合2种以上而使用。优选的有机溶剂与在使式(I)表示的多元羧酸化合物或式(I)表示的多元羧酸化合物的酰卤、与式(II)表示的二胺反应时使用的有机溶剂同样。
在进行聚酰胺酸的合成时,例如以四羧酸二酐成分的质量与二胺化合物的质量的总量为反应液中的0.1质量%以上50质量%以下、优选10质量%以上30质量%以下的量使用有机溶剂。
在使四羧酸二酐成分与二胺化合物反应时,从提高反应速度和得到高聚合度的聚酰胺酸这样的观点考虑,可在有机溶剂中进一步添加碱性化合物。
作为这样的碱性化合物,没有特别限制,可举出例如三乙基胺、四丁基胺、四己基胺、1,8-二氮杂双环[5.4.0]-十一碳-7-烯、吡啶、异喹啉、α-甲基吡啶等。
关于这样的碱性化合物的使用量,相对于四羧酸二酐成分1当量而言,优选为0.001当量以上10当量以下,更优选为0.01当量以上0.1当量以下。
对于使四羧酸二酐成分与二胺化合物反应时的反应温度而言,只要使反应良好地进行即可,没有特别限制,优选为15℃以上30℃以下。优选在非活性气体气氛下进行反应。反应时间也没有特别限制,例如优选为10小时以上48小时以下。
作为式(II)表示的二胺的优选的具体例,可举出对苯二胺、间苯二胺、邻苯二胺、4,4’-二氨基二苯基醚、3,3’-二氨基二苯基醚、3,4’-二氨基二苯基醚、4,4’-二氨基二苯基硫醚、3,3’-二氨基二苯基硫醚、3,4’-二氨基二苯基硫醚、4,4’-二氨基二苯基砜、3,3’-二氨基二苯基砜、3,4’-二氨基二苯基砜、4,4’-二氨基联苯、3,3’-二氨基联苯、2,2’-二氨基联苯、3,4’-二氨基联苯、4,4’-二氨基二苯甲酮、3,3’-二氨基二苯甲酮、3,4’-二氨基二苯甲酮、4,4’-二氨基二苯基甲烷、3,3’-二氨基二苯基甲烷、3,4’-二氨基苯基甲烷、4,4’-二氨基苯酰替苯胺(4,4’-diaminobenzanilide)、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、1,3-双(4-氨基苯氧基)苯、1,3-双(3-氨基苯氧基)苯、双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]砜、双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]砜、4,4’-双(4-氨基苯氧基)联苯、4,4’-双(3-氨基苯氧基)联苯、双-[4-(4-氨基苯氧基)苯基]醚、双-[4-(3-氨基苯氧基)苯基]醚、1,4-双(4-氨基苯基)苯、1,3-双(4-氨基苯基)苯、9,10-双(4-氨基苯基)蒽、2,2-双(4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷、1,4-双(3-氨基丙基二甲基甲硅烷基)苯、邻联甲苯胺砜、及9,9-双(4-氨基苯基)芴等。
另外,这些芳香族二胺中包含的芳香环上的一部分氢原子被甲基、乙基、羟基、甲氧基、乙氧基、三氟甲基、羟基甲基、羟基乙基、或卤素等取代而得到的化合物也是优选的。
具体而言,可举出3,3’-二甲基-4,4’-二氨基联苯、2,2’-二甲基-4,4’-二氨基联苯、3,3’-二甲基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2’-二甲基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2-双(3-甲基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(2-甲基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(3-甲基-4-氨基苯基)六氟丙烷、及2,2-双(2-甲基-4-氨基苯基)六氟丙烷等被甲基取代的芳香族二胺;3,3’-双三氟甲基-4,4’-二氨基联苯、2,2’-双三氟甲基-4,4’-二氨基联苯、3,3’-双三氟甲基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2’-双三氟甲基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2-双(3-三氟甲基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(2-三氟甲基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(3-三氟甲基-4-氨基苯基)六氟丙烷、及2,2-双(2-三氟甲基-4-氨基苯基)六氟丙烷等被三氟甲基取代的芳香族二胺;3,3’-二甲氧基-4,4’-二氨基联苯、2,2’-二甲氧基-4,4’-二氨基联苯、3,3’-二甲氧基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2’-二甲氧基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2-双(3-甲氧基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(2-甲氧基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(3-甲氧基-4-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(2-甲氧基-4-氨基苯基)六氟丙烷等被甲氧基取代的芳香族二胺;3,3’-二氯-4,4’-二氨基联苯、2,2’-二氯-4,4’-二氨基联苯、3,3’-二氯-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2’-二氯-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2-双(3-氯-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(2-氯-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(3-氯-4-氨基苯基)六氟丙烷、及2,2-双(2-氯-4-氨基苯基)六氟丙烷等被氯原子取代的芳香族二胺;3,3’-二羟基-4,4’-二氨基联苯、2,2’-二羟基-4,4’-二氨基联苯、3,3’-二羟基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2’-二羟基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2-双(3-羟基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(2-羟基-4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(3-羟基-4-氨基苯基)六氟丙烷、2,2-双(2-羟基-4-氨基苯基)六氟丙烷、及2,2-双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷等被羟基取代的芳香族二胺。
以上说明的具有式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂的重均分子量(Mw)优选为50000以下,更优选为4000以上30000以下,进一步优选为5000以上20000以下。
通过使用上述范围的分子量的聚酰胺树脂,从而有容易抑制制备感光性树脂组合物时的凝胶状不溶物产生的倾向。需要说明的是,即使假设产生了凝胶状不溶物的情况下,也可通过利用过滤等方法将不溶物除去,从而得到能没有问题地使用的感光性树脂组合物,但通过将重均分子量调节至上述的值,从而不再需要这样的工艺,因而可以说是更优选的。
需要说明的是,本说明书中,重均分子量可定义为GPC(凝胶渗透色谱)测定中的按照聚苯乙烯换算的相对值。
[其他树脂]
树脂(A)除了包含含有上述的式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂以外,还可包含其他树脂。对于其他树脂的种类而言,只要能在感光性树脂组合物中均匀地混合即可,在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。
作为其他树脂的具体例,可举出不含式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂、苯乙烯系单体的聚合物、Novolac树脂、(甲基)丙烯酸系单体的聚合物、苯乙烯系单体与(甲基)丙烯酸系单体的共聚物、聚烯烃(聚乙烯、聚丙烯等)、聚酰亚胺树脂等。
关于感光性树脂组合物中的树脂(A)的含量,在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。典型地,相对于感光树脂组合物的全部固态成分的质量而言,优选为30质量%以上98质量%以下,更优选为40质量%以上95质量%以下,进一步优选为50质量%以上92质量%以下。
<光聚合引发剂(B)>
感光性树脂组合物包含光聚合引发剂(B)。通过使感光性树脂组合物包含光聚合引发剂,由此,经由将感光性树脂组合物曝光的工序,使具有上述的式(a3)表示的聚合性基团的树脂(A)的分子之间进行交联,使感光性树脂组合物固化。
作为光聚合引发剂(B),没有特别限制,可使用现有已知的光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂(B),具体而言,可举出1-羟基环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-〔4-(2-羟基乙氧基)苯基〕-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、双(4-二甲基氨基苯基)酮、2-甲基-1-〔4-(甲基硫基)苯基〕-2-吗啉代(morpholino)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮、O-乙酰基-1-[6-(2-甲基苯甲酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基]乙酮肟、(9-乙基-6-硝基-9H-咔唑-3-基)[4-(2-甲氧基-1-甲基乙氧基)-2-甲基苯基]甲酮O-乙酰肟、2-(苯甲酰基氧基亚氨基)-1-[4-(苯基硫基)苯基]-1-辛酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、4-苯甲酰基-4’-甲基二甲基硫醚、4-二甲基氨基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸丁酯、4-二甲基氨基-2-乙基己基苯甲酸、4-二甲基氨基-2-异戊基苯甲酸、苯偶酰-β-甲氧基乙基缩醛、苯偶酰二甲基缩酮、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、2,4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、噻吨、2-氯噻吨、2,4-二乙基噻吨、2-甲基噻吨、2-异丙基噻吨、2-乙基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2-苯并蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、偶氮双异丁腈、过氧化苯甲酰、过氧化氢异丙苯(cumene hydroperoxide)、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并噻唑、2-(邻氯苯基)-4,5-二(间甲氧基苯基)-咪唑基二聚物、二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4,4’-双二甲基氨基二苯甲酮、4,4’-双二乙基氨基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、苯偶酰、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻异丁基醚、苯偶姻丁基醚、苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、对二甲基苯乙酮、对二甲基氨基苯丙酮、二氯苯乙酮、三氯苯乙酮、对叔丁基苯乙酮、对二甲基氨基苯乙酮、对叔丁基三氯苯乙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、α,α-二氯-4-苯氧基苯乙酮、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二苯并环庚酮、4-二甲基氨基苯甲酸戊酯、9-苯基吖啶、1,7-双-(9-吖啶基)庚烷、1,5-双-(9-吖啶基)戊烷、1,3-双-(9-吖啶基)丙烷、对甲氧基三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)均三嗪、2-甲基-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(4-二乙基氨基-2-甲基苯基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-乙氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-正丁氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2,4-双三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基均三嗪、2,4-双三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯基均三嗪、2,4-双三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基均三嗪、2,4-双三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基均三嗪等。这些光聚合引发剂可单独使用,或组合2种以上而使用。
这些中,从敏感度方面考虑,特别优选使用肟系的光聚合引发剂。肟系的光聚合引发剂中,作为特别优选的例子,可举出O-乙酰基-1-[6-(2-甲基苯甲酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基]乙酮肟、1-[9-乙基-6-(吡咯-2-基羰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰肟)、及2-(苯甲酰基氧基亚氨基)-1-[4-(苯基硫基)苯基]-1-辛酮。
另外,作为光聚合引发剂,还优选使用下述式(b1)表示的肟系化合物。
[化学式26]
(Rb1为选自由1价的有机基团、氨基、卤素、硝基、及氰基组成的组中的基团,
n1为0以上4以下的整数,
n2为0或1,
Rb2为可以具有取代基的苯基、或可以具有取代基的咔唑基,
Rb3为氢原子或碳原子数为1以上6以下的烷基。)
式(b1)中,Rb1在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,可从各种有机基团中适当选择。作为Rb1为有机基团时的优选例,可举出烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、饱和脂肪族酰基氧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、氨基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。n1为2以上4以下的整数的情况下,Rb1可以相同也可以不同。另外,取代基的碳原子数中不包括取代基进一步具有的取代基的碳原子数。
Rb1为烷基的情况下,优选碳原子数为1以上20以下,更优选碳原子数为1以上6以下。另外,Rb1为烷基的情况下,可以是直链,也可以是支链。作为Rb1为烷基时的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、异辛基、仲辛基、叔辛基、正壬基、异壬基、正癸基、及异癸基等。另外,Rb1为烷基的情况下,烷基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷基的例子,可举出甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。
Rb1为烷氧基的情况下,优选碳原子数为1以上20以下,更优选碳原子数为1以上6以下。另外,Rb1为烷氧基的情况下,可以是直链,也可以是支链。作为Rb1为烷氧基时的具体例,可举出甲氧基、乙氧基、正丙基氧基、异丙基氧基、正丁基氧基、异丁基氧基、仲丁基氧基、叔丁基氧基、正戊基氧基、异戊基氧基、仲戊基氧基、叔戊基氧基、正己基氧基、正庚基氧基、正辛基氧基、异辛基氧基、仲辛基氧基、叔辛基氧基、正壬基氧基、异壬基氧基、正癸基氧基、及异癸基氧基等。另外,Rb1为烷氧基的情况下,烷氧基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷氧基的例子,可举出甲氧基乙氧基、乙氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、丙基氧基乙氧基乙氧基、及甲氧基丙基氧基等。
Rb1为环烷基或环烷氧基的情况下,优选碳原子数为3以上10以下,更优选碳原子数为3以上6以下。作为Rb1为环烷基时的具体例,可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、及环辛基等。作为Rb1为环烷氧基时的具体例,可举出环丙基氧基、环丁基氧基、环戊基氧基、环己基氧基、环庚基氧基、及环辛基氧基等。
Rb1为饱和脂肪族酰基或饱和脂肪族酰基氧基的情况下,优选碳原子数为2以上20以下,更优选碳原子数为2以上7以下。作为Rb1为饱和脂肪族酰基时的具体例,可举出乙酰基、丙酰基、正丁酰基、2-甲基丙酰基、正戊酰基、2,2-二甲基丙酰基、正己酰基、正庚酰基、正辛酰基、正壬酰基、正癸酰基、正十一烷酰基、正十二烷酰基、正十三烷酰基、正十四烷酰基、正十五烷酰基、及正十六烷酰基等。作为Rb1为饱和脂肪族酰基氧基时的具体例,可举出乙酰基氧基、丙酰基氧基、正丁酰基氧基、2-甲基丙酰基氧基、正戊酰基氧基、2,2-二甲基丙酰基氧基、正己酰基氧基、正庚酰基氧基、正辛酰基氧基、正壬酰基氧基、正癸酰基氧基、正十一烷酰基氧基、正十二烷酰基氧基、正十三烷酰基氧基、正十四烷酰基氧基、正十五烷酰基氧基、及正十六烷酰基氧基等。
Rb1为烷氧基羰基的情况下,优选碳原子数为2以上20以下,更优选碳原子数为2以上7以下。作为Rb1为烷氧基羰基时的具体例,可举出甲氧基羰基、乙氧基羰基、正丙基氧基羰基、异丙基氧基羰基、正丁基氧基羰基、异丁基氧基羰基、仲丁基氧基羰基、叔丁基氧基羰基、正戊基氧基羰基、异戊基氧基羰基、仲戊基氧基羰基、叔戊基氧基羰基、正己基氧基羰基、正庚基氧基羰基、正辛基氧基羰基、异辛基氧基羰基、仲辛基氧基羰基、叔辛基氧基羰基、正壬基氧基羰基、异壬基氧基羰基、正癸基氧基羰基、及异癸基氧基羰基等。
Rb1为苯基烷基的情况下,优选碳原子数为7以上20以下,更优选碳原子数为7以上10以下。另外,Rb1为萘基烷基的情况下,优选碳原子数为11以上20以下,更优选碳原子数为11以上14以下。作为Rb1为苯基烷基时的具体例,可举出苄基、2-苯基乙基、3-苯基丙基、及4-苯基丁基。作为Rb1为萘基烷基时的具体例,可举出α-萘基甲基、β-萘基甲基、2-(α-萘基)乙基、及2-(β-萘基)乙基。Rb1为苯基烷基或萘基烷基的情况下,Rb1可在苯基或萘基上进一步具有取代基。
Rb1为杂环基的情况下,杂环基为包含1个以上的N、S、O的五元或六元的单环,或者为所述单环彼此稠合、或所述单环与苯环稠合而成的杂环基。杂环基为稠环的情况下,环数为3以下。作为构成所述杂环基的杂环,可举出呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、异噁唑、噻唑、噻二唑、异噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、异吲哚、吲哚嗪(indolizine)、苯并咪唑、苯并三唑、苯并噁唑、苯并噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、异喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、及喹喔啉等。Rb1为杂环基的情况下,杂环基可以进一步具有取代基。
Rb1为被1个或2个有机基团取代的氨基的情况下,关于有机基团的优选例,可举出碳原子数为1以上20以下的烷基、碳原子数为3以上10以下的环烷基、碳原子数为2以上20以下的饱和脂肪族酰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的碳原子数为7以上20以下的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的碳原子数为11以上20以下的萘基烷基、及杂环基等。这些优选的有机基团的具体例与Rb1同样。作为被1个或2个有机基团取代的氨基的具体例,可举出甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、正丙基氨基、二正丙基氨基、异丙基氨基、正丁基氨基、二正丁基氨基、正戊基氨基、正己基氨基、正庚基氨基、正辛基氨基、正壬基氨基、正癸基氨基、苯基氨基、萘基氨基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、正丁酰基氨基、正戊酰基氨基、正己酰基氨基、正庚酰基氨基、正辛酰基氨基、正癸酰基氨基、苯甲酰基氨基、α-萘甲酰基氨基、及β-萘甲酰基氨基等。
作为Rb1中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时的取代基,可举出碳原子数为1以上6以下的烷基、碳原子数为1以上6以下的烷氧基、碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基、碳原子数为2以上7以下的烷氧基羰基、碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基氧基、具有碳原子数为1以上6以下的烷基的单烷基氨基、具有碳原子数为1以上6以下的烷基的二烷基氨基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。Rb1中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基的情况下,该取代基的数目在不妨碍本发明的目的的范围内没有限制,优选为1以上4以下。Rb1中包含的苯基、萘基、及杂环基具有多个取代基的情况下,多个取代基可以相同也可以不同。
Rb1中,从化学稳定、空间位阻小、容易合成肟酯化合物等方面考虑,优选为选自由碳原子数为1以上6以下的烷基、碳原子数为1以上6以下的烷氧基、及碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基组成的组中的基团,更优选为碳原子数为1以上6以下的烷基,特别优选为甲基。
针对Rb1所键合的苯基,在将苯基与肟酯化合物的主骨架的化学键的位置作为1位、将甲基的位置作为2位的情况下,Rb1在苯基上键合的位置优选为4位或5位,更优选为5位。另外,n1优选为0以上3以下的整数,更优选为0以上2以下的整数,特别优选为0或1。
Rb2为可以具有取代基的苯基或可以具有取代基的咔唑基。另外,Rb2为可以具有取代基的咔唑基的情况下,咔唑基上的氮原子可被碳原子数为1以上6以下的烷基取代。
Rb2中,苯基或咔唑基所具有的取代基在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。作为苯基或咔唑基可在碳原子上具有的优选的取代基的例子,可举出碳原子数为1以上20以下的烷基、碳原子数为1以上20以下的烷氧基、碳原子数为3以上10以下的环烷基、碳原子数为3以上10以下的环烷氧基、碳原子数为2以上20以下的饱和脂肪族酰基、碳原子数为2以上20以下的烷氧基羰基、碳原子数为2以上20以下的饱和脂肪族酰基氧基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯基硫基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的碳原子数为7以上20以下的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的碳原子数为11以上20以下的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的杂环基羰基、氨基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。
Rb2为咔唑基的情况下,作为咔唑基可在氮原子上具有的优选的取代基的例子,可举出碳原子数为1以上20以下的烷基、碳原子数为3以上10以下的环烷基、碳原子数为2以上20以下的饱和脂肪族酰基、碳原子数为2以上20以下的烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的碳原子数为7以上20以下的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的碳原子数为11以上20以下的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、及可以具有取代基的杂环基羰基等。这些取代基中,优选碳原子数为1以上20以下的烷基,更优选碳原子数为1以上6以下的烷基,特别优选乙基。
对于苯基或咔唑基可以具有的取代基的具体例而言,关于烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、烷氧基羰基、饱和脂肪族酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、及被1个或2个有机基团取代的氨基,与Rb1同样。
Rb2中,作为苯基或咔唑基所具有的取代基中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时的取代基的例子,可举出碳原子数为1以上6以下的烷基;碳原子数为1以上6以下的烷氧基;碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基;碳原子数为2以上7以下的烷氧基羰基;碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基氧基;苯基;萘基;苯甲酰基;萘甲酰基;被选自由碳原子数为1以上6以下的烷基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基组成的组中的基团取代的苯甲酰基;具有碳原子数为1以上6以下的烷基的单烷基氨基;具有碳原子数为1以上6以下的烷基的二烷基氨基;吗啉-1-基;哌嗪-1-基;卤素;硝基;氰基。苯基或咔唑基所具有的取代基中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基的情况下,该取代基的数目在不妨碍本发明的目的的范围内没有限制,优选为1以上4以下。苯基、萘基、及杂环基具有多个取代基的情况下,多个取代基可以相同也可以不同。
Rb2中,从容易得到敏感度优异的光聚合引发剂方面考虑,优选为下述式(b2)、或(b3)表示的基团,更优选为下述式(b2)表示的基团,特别优选A为S的下述式(b2)表示的基团。
[化学式27]
(Rb4为选自由1价的有机基团、氨基、卤素、硝基、及氰基组成的组中的基团,A为S或O,n3为0以上4以下的整数。)
[化学式28]
(Rb5及Rb6各自为1价的有机基团。)
式(b2)中的Rb4为有机基团的情况下,可在不妨碍本发明的目的的范围内从各种有机基团中选择。作为式(b2)中Rb4为有机基团时的优选例,可举出碳原子数为1以上6以下的烷基;碳原子数为1以上6以下的烷氧基;碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基;碳原子数为2以上7以下的烷氧基羰基;碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基氧基;苯基;萘基;苯甲酰基;萘甲酰基;被选自由碳原子数为1以上6以下的烷基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基组成的组中的基团取代的苯甲酰基;具有碳原子数为1以上6以下的烷基的单烷基氨基;具有碳原子数为1以上6以下的烷基的二烷基氨基;吗啉-1-基;哌嗪-1-基;卤素;硝基;氰基。
Rb4中,优选为苯甲酰基;萘甲酰基;被选自由碳原子数为1以上6以下的烷基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基组成的组中的基团取代的苯甲酰基;硝基,更优选为苯甲酰基;萘甲酰基;2-甲基苯基羰基;4-(哌嗪-1-基)苯基羰基;4-(苯基)苯基羰基。
另外,式(b2)中,n3优选为0以上3以下的整数,更优选为0以上2以下的整数,特别优选为0或1。n3为1的情况下,Rb4的键合位置优选为:相对于Rb4所键合的苯基与氧原子或硫原子键合的化学键为对位。
式(b3)中的Rb5可在不妨碍本发明的目的的范围内从各种有机基团中选择。作为Rb5的优选例,可举出碳原子数为1以上20以下的烷基、碳原子数为3以上10以下的环烷基、碳原子数为2以上20以下的饱和脂肪族酰基、碳原子数为2以上20以下的烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的碳原子数为7以上20以下的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的碳原子数为11以上20以下的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、及可以具有取代基的杂环基羰基等。
Rb5中,优选为碳原子数为1以上20以下的烷基,更优选为碳原子数为1以上6以下的烷基,特别优选为乙基。
式(b3)中的Rb6在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,可从各种有机基团中选择。作为适于作为Rb6的基团的具体例,可举出碳原子数为1以上20以下的烷基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的萘基、及可以具有取代基的杂环基。作为Rb6,更优选这些基团中的可以具有取代基的苯基,特别优选2-甲基苯基。
作为Rb4、Rb5、或Rb6中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时的取代基,可举出碳原子数为1以上6以下的烷基、碳原子数为1以上6以下的烷氧基、碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基、碳原子数为2以上7以下的烷氧基羰基、碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基氧基、具有碳原子数为1以上6以下的烷基的单烷基氨基、具有碳原子数为1以上6以下的烷基的二烷基氨基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。Rb4、Rb5、或Rb6中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基的情况下,该取代基的数目在不妨碍本发明的目的的范围内没有限制,优选为1以上4以下。Rb4、Rb5、或Rb6中包含的苯基、萘基、及杂环基具有多个取代基的情况下,多个取代基可以相同也可以不同。
式(b1)中的Rb3为氢原子或碳原子数为1以上6以下的烷基。作为Rb3,优选为甲基或乙基,更优选为甲基。
式(b1)表示的肟酯化合物中,作为特别优选的化合物,可举出下述的PI-1~PI-42。
[化学式29]
[化学式30]
[化学式31]
[化学式32]
[化学式33]
[化学式34]
另外,下述式(b4)表示的肟酯化合物也优选作为光聚合引发剂。
[化学式35]
(Rb7为氢原子、硝基或1价的有机基团,Rb8及Rb9各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子,Rb8与Rb9可相互键合而形成环,Rb10为1价的有机基团,Rb11为氢原子、可以具有取代基的碳原子数为1以上11以下的烷基、或可以具有取代基的芳基,n4为0以上4以下的整数,n5为0或1。)
此处,作为用于制造式(b4)的肟酯化合物的肟化合物,下式(b5)表示的化合物是优选的。
[化学式36]
(Rb7、Rb8、Rb9、Rb10、n4、及n5与式(b4)同样。)
式(b4)及(b5)中,Rb7为氢原子、硝基或1价的有机基团。Rb7在式(b4)中的芴环上键合于与-(CO)n5-表示的基团所键合的六元芳香环不同的六元芳香环。式(b4)中,Rb7在芴环上的键合位置没有特别限制。式(b4)表示的化合物具有1个以上的Rb7的情况下,从容易合成式(b4)表示的化合物等方面考虑,优选1个以上的Rb7中的1个键合于芴环中的2位。Rb7为多个的情况下,多个Rb7可以相同也可以不同。
Rb7为有机基团的情况下,Rb7在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,可从各种有机基团中适当选择。作为Rb7为有机基团时的优选例,可举出烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、饱和脂肪族酰基氧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的杂环基羰基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基等。
Rb7为烷基的情况下,烷基的碳原子数优选为1以上20以下,更优选为1以上6以下。另外,Rb7为烷基的情况下,可以是直链,也可以是支链。作为Rb7为烷基时的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、异辛基、仲辛基、叔辛基、正壬基、异壬基、正癸基、及异癸基等。另外,Rb7为烷基的情况下,烷基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷基的例子,可举出甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。
Rb7为烷氧基的情况下,烷氧基的碳原子数优选为1以上20以下,更优选为1以上6以下。另外,Rb7为烷氧基的情况下,可以是直链,也可以是支链。作为Rb7为烷氧基时的具体例,可举出甲氧基、乙氧基、正丙基氧基、异丙基氧基、正丁基氧基、异丁基氧基、仲丁基氧基、叔丁基氧基、正戊基氧基、异戊基氧基、仲戊基氧基、叔戊基氧基、正己基氧基、正庚基氧基、正辛基氧基、异辛基氧基、仲辛基氧基、叔辛基氧基、正壬基氧基、异壬基氧基、正癸基氧基、及异癸基氧基等。另外,Rb7为烷氧基的情况下,烷氧基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷氧基的例子,可举出甲氧基乙氧基、乙氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、丙基氧基乙氧基乙氧基、及甲氧基丙基氧基等。
Rb7为环烷基或环烷氧基的情况下,环烷基或环烷氧基的碳原子数优选为3以上10以下,更优选为3以上6以下。作为Rb7为环烷基时的具体例,可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、及环辛基等。作为Rb7为环烷氧基时的具体例,可举出环丙基氧基、环丁基氧基、环戊基氧基、环己基氧基、环庚基氧基、及环辛基氧基等。
Rb7为饱和脂肪族酰基或饱和脂肪族酰基氧基的情况下,饱和脂肪族酰基或饱和脂肪族酰基氧基的碳原子数优选为2以上21以下,更优选为2以上7以下。作为Rb7为饱和脂肪族酰基时的具体例,可举出乙酰基、丙酰基、正丁酰基、2-甲基丙酰基、正戊酰基、2,2-二甲基丙酰基、正己酰基、正庚酰基、正辛酰基、正壬酰基、正癸酰基、正十一烷酰基、正十二烷酰基、正十三烷酰基、正十四烷酰基、正十五烷酰基、及正十六烷酰基等。作为Rb7为饱和脂肪族酰基氧基时的具体例,可举出乙酰基氧基、丙酰基氧基、正丁酰基氧基、2-甲基丙酰基氧基、正戊酰基氧基、2,2-二甲基丙酰基氧基、正己酰基氧基、正庚酰基氧基、正辛酰基氧基、正壬酰基氧基、正癸酰基氧基、正十一烷酰基氧基、正十二烷酰基氧基、正十三烷酰基氧基、正十四烷酰基氧基、正十五烷酰基氧基、及正十六烷酰基氧基等。
Rb7为烷氧基羰基的情况下,烷氧基羰基的碳原子数优选为2以上20以下,更优选为2以上7以下。作为Rb7为烷氧基羰基时的具体例,可举出甲氧基羰基、乙氧基羰基、正丙基氧基羰基、异丙基氧基羰基、正丁基氧基羰基、异丁基氧基羰基、仲丁基氧基羰基、叔丁基氧基羰基、正戊基氧基羰基、异戊基氧基羰基、仲戊基氧基羰基、叔戊基氧基羰基、正己基氧基羰基、正庚基氧基羰基、正辛基氧基羰基、异辛基氧基羰基、仲辛基氧基羰基、叔辛基氧基羰基、正壬基氧基羰基、异壬基氧基羰基、正癸基氧基羰基、及异癸基氧基羰基等。
Rb7为苯基烷基的情况下,苯基烷基的碳原子数优选为7以上20以下,更优选为7以上10以下。另外,Rb7为萘基烷基的情况下,萘基烷基的碳原子数优选为11以上20以下,更优选为11以上14以下。作为Rb7为苯基烷基时的具体例,可举出苄基、2-苯基乙基、3-苯基丙基、及4-苯基丁基。作为Rb7为萘基烷基时的具体例,可举出α-萘基甲基、β-萘基甲基、2-(α-萘基)乙基、及2-(β-萘基)乙基。Rb7为苯基烷基或萘基烷基的情况下,Rb7可在苯基或萘基上进一步具有取代基。
Rb7为杂环基的情况下,杂环基为包含1个以上的N、S、O的五元或六元的单环,或者为所述单环彼此稠合、或所述单环与苯环稠合而成的杂环基。杂环基为稠环的情况下,环数为3以下。杂环基可以为芳香族基团(杂芳基),也可以为非芳香族基团。作为构成所述杂环基的杂环,可举出呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、异噁唑、噻唑、噻二唑、异噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、异吲哚、吲哚嗪、苯并咪唑、苯并三唑、苯并噁唑、苯并噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、异喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、喹喔啉、哌啶、哌嗪、吗啉、哌啶、四氢吡喃、及四氢呋喃等。Rb7为杂环基的情况下,杂环基可以进一步具有取代基。
Rb7为杂环基羰基的情况下,杂环基羰基中包含的杂环基与Rb7为杂环基的情况同样。
Rb7为被1个或2个有机基团取代的氨基的情况下,关于有机基团的优选例,可举出碳原子数为1以上20以下的烷基、碳原子数为3以上10以下的环烷基、碳原子数为2以上21以下的饱和脂肪族酰基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的碳原子数为7以上20以下的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的碳原子数为11以上20以下的萘基烷基及杂环基等。这些优选的有机基团的具体例与Rb7同样。作为被1个或2个有机基团取代的氨基的具体例,可举出甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、正丙基氨基、二正丙基氨基、异丙基氨基、正丁基氨基、二正丁基氨基、正戊基氨基、正己基氨基、正庚基氨基、正辛基氨基、正壬基氨基、正癸基氨基、苯基氨基、萘基氨基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、正丁酰基氨基、正戊酰基氨基、正己酰基氨基、正庚酰基氨基、正辛酰基氨基、正癸酰基氨基、苯甲酰基氨基、α-萘甲酰基氨基、及β-萘甲酰基氨基等。
作为Rb7中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基时的取代基,可举出碳原子数为1以上6以下的烷基、碳原子数为1以上6以下的烷氧基、碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基、碳原子数为2以上7以下的烷氧基羰基、碳原子数为2以上7以下的饱和脂肪族酰基氧基、具有碳原子数为1以上6以下的烷基的单烷基氨基、具有碳原子数为1以上6以下的烷基的二烷基氨基、吗啉-1-基、哌嗪-1-基、卤素、硝基、及氰基等。Rb7中包含的苯基、萘基、及杂环基进一步具有取代基的情况下,该取代基的数目在不妨碍本发明的目的的范围内没有限制,优选为1以上4以下。Rb7中包含的苯基、萘基、及杂环基具有多个取代基的情况下,多个取代基可以相同也可以不同。
以上说明的基团中,作为Rb7,为硝基或Rb12-CO-表示的基团时,存在敏感度提高的倾向,是优选的。Rb12在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制,可从各种有机基团中选择。作为适于作为Rb12的基团的例子,可举出碳原子数为1以上20以下的烷基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的萘基、及可以具有取代基的杂环基。这些基团中,作为Rb12,特别优选2-甲基苯基、噻吩-2-基、及α-萘基。
另外,Rb7为氢原子时,存在透明性变得良好的倾向,是优选的。需要说明的是,Rb7为氢原子且Rb10为后述的式(b4a)或(b4b)表示的基团时,存在透明性变得更良好的倾向。
式(b4)中,Rb8及Rb9各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子。Rb8与Rb9可以相互键合而形成环。这些基团中,作为Rb8及Rb9,优选可以具有取代基的链状烷基。Rb8及Rb9为可以具有取代基的链状烷基的情况下,链状烷基可以为直链烷基,也可以为支链烷基。
Rb8及Rb9为不具有取代基的链状烷基的情况下,链状烷基的碳原子数优选为1以上20以下,更优选为1以上10以下,特别优选为1以上6以下。作为Rb8及Rb9为链状烷基时的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、异辛基、仲辛基、叔辛基、正壬基、异壬基、正癸基、及异癸基等。另外,Rb8及Rb9为烷基的情况下,烷基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷基的例子,可举出甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。
Rb8及Rb9为具有取代基的链状烷基的情况下,链状烷基的碳原子数优选为1以上20以下,更优选为1以上10以下,特别优选为1以上6以下。这种情况下,链状烷基的碳原子数不包括取代基的碳原子数。具有取代基的链状烷基优选为直链状。
烷基可以具有的取代基在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。作为取代基的优选例,可举出氰基、卤素原子、环状有机基团、及烷氧基羰基。作为卤素原子,可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。这些中,优选氟原子、氯原子、溴原子。作为环状有机基团,可举出环烷基、芳香族烃基、杂环基。作为环烷基的具体例,与Rb7为环烷基时的优选例同样。作为芳香族烃基的具体例,可举出苯基、萘基、联苯基、蒽基、及菲基等。作为杂环基的具体例,与Rb7为杂环基时的优选例同样。Rb7为烷氧基羰基的情况下,烷氧基羰基中包含的烷氧基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。烷氧基羰基中包含的烷氧基的碳原子数优选为1以上10以下,更优选为1以上6以下。
链状烷基具有取代基的情况下,取代基的数目没有特别限制。优选的取代基的数目根据链状烷基的碳原子数而改变。典型地,取代基的数目为1以上20以下,优选为1以上10以下,更优选为1以上6以下。
Rb8及Rb9为环状有机基团的情况下,环状有机基团可以为脂环式基团,也可以为芳香族基团。作为环状有机基团,可举出脂肪族环状烃基、芳香族烃基、杂环基。Rb8及Rb9为环状有机基团的情况下,环状有机基团可以具有的取代基与Rb8及Rb9为链状烷基的情况同样。
Rb8及Rb9为芳香族烃基的情况下,芳香族烃基优选为:苯基、或多个苯环介由碳-碳键键合而形成的基团、或多个苯环稠合而形成的基团。芳香族烃基为苯基、或多个苯环键合或稠合而形成的基团的情况下,芳香族烃基中包含的苯环的环数没有特别限制,优选为3以下,更优选为2以下,特别优选为1。作为芳香族烃基的优选的具体例,可举出苯基、萘基、联苯基、蒽基、及菲基等。
Rb8及Rb9为脂肪族环状烃基的情况下,脂肪族环状烃基可以为单环式,也可以为多环式。脂肪族环状烃基的碳原子数没有特别限制,优选为3以上20以下,更优选为3以上10以下。作为单环式的环状烃基的例子,可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、降冰片基、异冰片基、三环壬基、三环癸基、四环十二烷基、及金刚烷基等。
Rb8及Rb9为杂环基的情况下,杂环基为包含1个以上的N、S、O的五元或六元的单环,或者为所述单环彼此稠合、或所述单环与苯环稠合而成的杂环基。杂环基为稠环的情况下,环数为3以下。杂环基可以为芳香族基团(杂芳基),也可以为非芳香族基团。作为构成所述杂环基的杂环,可举出呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、异噁唑、噻唑、噻二唑、异噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、异吲哚、吲哚嗪、苯并咪唑、苯并三唑、苯并噁唑、苯并噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、异喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、喹喔啉、哌啶、哌嗪、吗啉、哌啶、四氢吡喃、及四氢呋喃等。
Rb8与Rb9可以相互键合而形成环。包含Rb8与Rb9形成的环的基团优选为环烷叉基(cycloalkylidene group)。Rb8与Rb9键合而形成环烷叉基的情况下,构成环烷叉基的环优选为五元环~六元环,更优选为五元环。
Rb8与Rb9键合而形成的基团为环烷叉基的情况下,环烷叉基可与1个以上的其他环稠合。作为可与环烷叉基稠合的环的例子,可举出苯环、萘环、环丁烷环、环戊烷环、环己烷环、环庚烷环、环辛烷环、呋喃环、噻吩环、吡咯环、吡啶环、吡嗪环、及嘧啶环等。
以上说明的Rb8及Rb9中,作为优选的基团的例子,可举出式-A1-A2表示的基团。式中,A1为直链亚烷基,关于A2,可举出烷氧基、氰基、卤素原子、卤代烷基、环状有机基团、或烷氧基羰基。
A1的直链亚烷基的碳原子数优选为1以上10以下,更优选为1以上6以下。A2为烷氧基的情况下,烷氧基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。烷氧基的碳原子数优选为1以上10以下,更优选为1以上6以下。A2为卤素原子的情况下,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,更优选为氟原子、氯原子、溴原子。A2为卤代烷基的情况下,卤代烷基中包含的卤素原子优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,更优选为氟原子、氯原子、溴原子。卤代烷基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。A2为环状有机基团的情况下,环状有机基团的例子与Rb8及Rb9作为取代基而具有的环状有机基团同样。A2为烷氧基羰基的情况下,烷氧基羰基的例子与Rb8及Rb9作为取代基而具有的烷氧基羰基同样。
作为Rb8及Rb9的优选的具体例,可举出乙基、正丙基、正丁基、正己基、正庚基、及正辛基等烷基;2-甲氧基乙基、3-甲氧基正丙基、4-甲氧基正丁基、5-甲氧基正戊基、6-甲氧基正己基、7-甲氧基正庚基、8-甲氧基正辛基、2-乙氧基乙基、3-乙氧基正丙基、4-乙氧基正丁基、5-乙氧基正戊基、6-乙氧基正己基、7-乙氧基正庚基、及8-乙氧基正辛基等烷氧基烷基;2-氰基乙基、3-氰基正丙基、4-氰基正丁基、5-氰基正戊基、6-氰基正己基、7-氰基正庚基、及8-氰基正辛基等氰基烷基;2-苯基乙基、3-苯基正丙基、4-苯基正丁基、5-苯基正戊基、6-苯基正己基、7-苯基正庚基、及8-苯基正辛基等苯基烷基;2-环己基乙基、3-环己基正丙基、4-环己基正丁基、5-环己基正戊基、6-环己基正己基、7-环己基正庚基、8-环己基正辛基、2-环戊基乙基、3-环戊基正丙基、4-环戊基正丁基、5-环戊基正戊基、6-环戊基正己基、7-环戊基正庚基、及8-环戊基正辛基等环烷基烷基;2-甲氧基羰基乙基、3-甲氧基羰基正丙基、4-甲氧基羰基正丁基、5-甲氧基羰基正戊基、6-甲氧基羰基正己基、7-甲氧基羰基正庚基、8-甲氧基羰基正辛基、2-乙氧基羰基乙基、3-乙氧基羰基正丙基、4-乙氧基羰基正丁基、5-乙氧基羰基正戊基、6-乙氧基羰基正己基、7-乙氧基羰基正庚基、及8-乙氧基羰基正辛基等烷氧基羰基烷基;2-氯乙基、3-氯正丙基、4-氯正丁基、5-氯正戊基、6-氯正己基、7-氯正庚基、8-氯正辛基、2-溴乙基、3-溴正丙基、4-溴正丁基、5-溴正戊基、6-溴正己基、7-溴正庚基、8-溴正辛基、3,3,3-三氟丙基、及3,3,4,4,5,5,5-七氟正戊基等卤代烷基。
作为Rb8及Rb9,上述中优选的基团为乙基、正丙基、正丁基、正戊基、2-甲氧基乙基、2-氰基乙基、2-苯基乙基、2-环己基乙基、2-甲氧基羰基乙基、2-氯乙基、2-溴乙基、3,3,3-三氟丙基、及3,3,4,4,5,5,5-七氟正戊基。
作为Rb10的优选的有机基团的例子,与Rb7同样,可举出烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、烷氧基羰基、饱和脂肪族酰基氧基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的杂环基羰基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基等。这些基团的具体例与针对Rb7而说明的例子同样。另外,作为Rb10,还优选环烷基烷基、可在芳香环上具有取代基的苯氧基烷基、可在芳香环上具有取代基的苯基硫基烷基。苯氧基烷基、及苯基硫基烷基可以具有的取代基与Rb7中包含的苯基可以具有的取代基同样。
有机基团中,作为Rb10,优选烷基、环烷基、可以具有取代基的苯基、或环烷基烷基、可在芳香环上具有取代基的苯基硫基烷基。作为烷基,优选碳原子数为1以上20以下的烷基,更优选碳原子数为1以上8以下的烷基,特别优选碳原子数为1以上4以下的烷基,最优选甲基。可以具有取代基的苯基中,优选甲基苯基,更优选2-甲基苯基。环烷基烷基中包含的环烷基的碳原子数优选为5以上10以下,更优选为5以上8以下,特别优选为5或6。环烷基烷基中包含的亚烷基的碳原子数优选为1以上8以下,更优选为1以上4以下,特别优选为2。环烷基烷基中,优选环戊基乙基。可在芳香环上具有取代基的苯基硫基烷基中包含的亚烷基的碳原子数优选为1以上8以下,更优选为1以上4以下,特别优选为2。可在芳香环上具有取代基的苯基硫基烷基中,优选为2-(4-氯苯基硫基)乙基。
另外,作为Rb10,还优选-A3-CO-O-A4表示的基团。A3为2价的有机基团,优选为2价的烃基,优选为亚烷基。A4为1价的有机基团,优选为1价的烃基。
A3为亚烷基的情况下,亚烷基可以为直链状,也可以为支链状,优选为直链状。A3为亚烷基的情况下,亚烷基的碳原子数优选为1以上10以下,更优选为1以上6以下,特别优选为1以上4以下。
作为A4的优选例,可举出碳原子数为1以上10以下的烷基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、及碳原子数为6以上20以下的芳香族烃基。作为A4的优选的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、苯基、萘基、苄基、苯乙基、α-萘基甲基、及β-萘基甲基等。
作为-A3-CO-O-A4表示的基团的优选的具体例,可举出2-甲氧基羰基乙基、2-乙氧基羰基乙基、2-正丙基氧基羰基乙基、2-正丁基氧基羰基乙基、2-正戊基氧基羰基乙基、2-正己基氧基羰基乙基、2-苄基氧基羰基乙基、2-苯氧基羰基乙基、3-甲氧基羰基正丙基、3-乙氧基羰基正丙基、3-正丙基氧基羰基正丙基、3-正丁基氧基羰基正丙基、3-正戊基氧基羰基正丙基、3-正己基氧基羰基正丙基、3-苄基氧基羰基正丙基、及3-苯氧基羰基正丙基等。
以上,对Rb10进行了说明,作为Rb10,优选为下述式(b4a)或(b4b)表示的基团。
[化学式37]
(式(b4a)及(b4b)中,Rb13及Rb14各自为有机基团,n6为0以上4以下的整数,Rb13及R8存在于苯环上的相邻的位置的情况下,Rb13与Rb14可以相互键合而形成环,n7为1以上8以下的整数,n8为1以上5以下的整数,n9为0以上且(n8+3)以下的整数,Rb15为有机基团。)
式(b4a)中的Rb13及Rb14中的有机基团的例子与Rb7同样。作为Rb13,优选为烷基或苯基。Rb13为烷基的情况下,其碳原子数优选为1以上10以下,更优选为1以上5以下,特别优选为1以上3以下,最优选为1。即,Rb13最优选为甲基。Rb13与Rb14键合而形成环的情况下,该环可以为芳香族环,也可以为脂肪族环。作为Rb13与Rb14形成了环的式(b4a)表示的基团的优选例,可举出萘-1-基、1,2,3,4-四氢萘-5-基等。上述式(b4a)中,n6为0以上4以下的整数,优选为0或1,更优选为0。
上述式(b4b)中,Rb15为有机基团。作为有机基团,可举出与针对Rb7而说明的有机基团同样的基团。有机基团中,优选烷基。烷基可以为直链状,也可以为支链状。烷基的碳原子数优选为1以上10以下,更优选为1以上5以下,特别优选为1以上3以下。作为Rb15,可优选例举甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基等,这些中,更优选为甲基。
上述式(b4b)中,n8为1以上5以下的整数,优选为1以上3以下的整数,更优选为1或2。上述式(b4b)中,n9为0以上且为(n8+3)以下,优选为0以上3以下的整数,更优选为0以上2以下的整数,特别优选为0。上述式(b4b)中,n7为1以上8以下的整数,优选为1以上5以下的整数,更优选为1以上3以下的整数,特别优选为1或2。
式(b4)中,Rb11为氢原子、可以具有取代基的碳原子数为1以上11以下的烷基、或可以具有取代基的芳基。作为Rb11为烷基时可以具有的取代基,可优选例举苯基、萘基等。另外,作为Rb7为芳基时可以具有的取代基,可优选例举碳原子数为1以上5以下的烷基、烷氧基、卤素原子等。
式(b4)中,作为Rb11,可优选例举氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、苯基、苄基、甲基苯基、萘基等,这些中,更优选甲基或苯基。
式(b4)表示的化合物可利用包括下述工序的方法来制造,所述工序为:将上述的式(b5)表示的化合物中包含的肟基(>C=N-OH)转化为>C=N-O-CORb11表示的肟酯基。Rb11与式(b4)中的Rb11同样。
肟基(>C=N-OH)向>C=N-O-CORb11表示的肟酯基的转化可通过使上述的式(b5)表示的化合物与酰化剂反应而进行。
作为提供-CORb11表示的酰基的酰化剂,可举出(Rb11CO)2O表示的酸酐、Rb11COHal(Hal为卤素原子)表示的酰卤。
作为式(b4)表示的化合物的优选的具体例,可举出以下的PI-43~PI-83。
[化学式38]
[化学式39]
相对于感光性树脂组合物的全部固态成分的质量而言,光聚合引发剂(B)的含量优选为0.5质量%以上30质量%以下,更优选为1质量%以上20质量%以下。通过使光聚合引发剂(B)的含量为上述的范围,从而可得到不易发生图案形状不良的感光性树脂组合物。
另外,可将光聚合引发剂(B)与光引发助剂组合。作为光引发助剂,可举出三乙醇胺、甲基二乙醇胺、N-苯基二乙醇胺、三异丙醇胺、4-二甲基氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸异戊酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-乙基己酯、苯甲酸2-二甲基氨基乙酯、N,N-二甲基对甲苯胺、4,4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮、9,10-二甲氧基蒽、2-乙基-9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、2-乙基-9,10-二乙氧基蒽、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-5-甲氧基苯并噻唑、3-巯基丙酸、3-巯基丙酸甲酯、季戊四醇四巯基乙酸酯、3-巯基丙酸酯等硫醇化合物等。这些光引发助剂可单独使用,或组合2种以上而使用。
<光聚合性单体(C)>
为了提高光固化性,感光性树脂组合物可包含光聚合性单体(C)。
光聚合性单体(C)包括单官能单体和多官能单体。
作为单官能单体,可举出(甲基)丙烯酰胺、羟甲基(甲基)丙烯酰胺、甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、乙氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、丙氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、丁氧基甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟基甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸、富马酸、马来酸、马来酸酐、衣康酸、衣康酸酐、柠康酸、柠康酸酐、巴豆酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、叔丁基丙烯酰胺磺酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基-2-羟基丙酯、邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰基氧基-2-羟基丙酯、甘油单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、邻苯二甲酸衍生物的(甲基)丙烯酸半酯等。这些单官能单体可单独使用,或组合2种以上而使用。
另一方面,作为多官能单体,可举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基二乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基多乙氧基苯基)丙烷、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-(甲基)丙烯酰基氧基丙酯、乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸二缩水甘油酯二(甲基)丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯、甘油多缩水甘油基醚多(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(urethane(meth)acrylate)(即,甲苯二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯和六亚甲基二异氰酸酯与(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的反应物)、亚甲基双(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰胺亚甲基醚、多元醇与N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺的缩合物等多官能单体、1,3,5-三丙烯酰基六氢-1,3,5-三嗪(triacrylformal)等。这些多官能单体可单独使用,或组合2种以上而使用。
关于感光性树脂组合物中的光聚合性单体(C)的含量,相对于感光性树脂组合物的全部固态成分的质量而言,优选为3质量%以上50质量%以下,更优选为5质量%以上40质量%以下。通过使光聚合性单体(C)的含量为上述的范围,可得到不易发生图案形状不良的感光性树脂组合物。通过使光聚合性单体(C)的含量为上述的范围内的量,从而容易形成对基板的密合性特别优异的固化膜。
<着色剂(D)>
感光性树脂组合物可包含着色剂(D)。作为着色剂(D),没有特别限制,例如,优选使用染料索引(C.I.;The Society of Dyers and Colourists公司发行)中被分类为颜料(Pigment)的化合物,具体而言,优选使用下述这样的附有染料索引(C.I.)编号的化合物。
作为可合适地使用的黄色颜料的例子,可举出C.I.颜料黄1(以下,同样也是“C.I.颜料黄”,仅记载编号。)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、及185。
作为可合适地使用的橙色颜料的例子,可举出C.I.颜料橙1(以下,同样也是“C.I.颜料橙”,仅记载编号。)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、及73。
作为可合适地使用的紫色颜料的例子,可举出C.I.颜料紫1(以下,同样也是“C.I.颜料紫”,仅记载编号。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、及50。
作为可合适地使用的红色颜料的例子,可举出C.I.颜料红1(以下,同样也是“C.I.颜料红”,仅记载编号。)、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、及265。
作为可合适地使用的蓝色颜料的例子,可举出C.I.颜料蓝1(以下,同样也是“C.I.颜料蓝”,仅记载编号。)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、及66。
作为可合适地使用的上述之外的色调的颜料的例子,可举出C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料绿37等绿色颜料、C.I.颜料棕23、C.I.颜料棕25、C.I.颜料棕26、C.I.颜料棕28等棕色颜料、C.I.颜料黑1、C.I.颜料黑7等黑色颜料。
另外,感光性树脂组合物可包含遮光剂作为着色剂(D)。包含遮光剂的感光性树脂组合物可合适地用于形成液晶显示面板中的黑色矩阵或黑色柱状间隔物(black columnspacer)、或形成用于将有机EL元件中的发光层划区的隔堤(bank)。
使着色剂(D)为遮光剂时,作为遮光剂,优选使用黑色颜料、紫色颜料。作为黑色颜料、紫色颜料的例子,可举出炭黑、苝系颜料、内酰胺系颜料、钛黑、铜、铁、锰、钴、铬、镍、锌、钙、银等的金属氧化物、复合氧化物、金属硫化物、金属硫酸盐或金属碳酸盐等各种颜料(不论是有机物还是无机物均可)。
作为炭黑,可使用槽法炭黑(channel black)、炉法炭黑(furnace black)、热裂炭黑(thermal black)、灯黑(lamp black)等已知的炭黑。另外,也可使用经树脂被覆的炭黑。
作为炭黑,实施了导入酸性基团的处理的炭黑也是优选的。向炭黑中导入的酸性基团为显示基于布朗斯台德的定义的酸性的官能团。作为酸性基团的具体例,可举出羧基、磺酸基、磷酸基等。被导入至炭黑中的酸性基团也可形成盐。与酸性基团形成盐的阳离子在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。作为阳离子的例子,可举出各种金属离子、含氮化合物的阳离子、铵离子等,优选为钠离子、钾离子、锂离子等碱金属离子、铵离子。
在以上说明的实施了导入酸性基团的处理的炭黑中,从达成使用感光性树脂组合物形成的遮光性固化膜的高电阻的观点考虑,优选为具有选自由羧酸基、羧酸盐基团、磺酸基及磺酸盐基团组成的组中的1种以上的官能团的炭黑。
向炭黑中导入酸性基团的方法没有特别限制。作为导入酸性基团的方法,例如可举出以下的方法。
方法1):通过直接取代法(其使用浓硫酸、发烟硫酸、氯磺酸等)、间接取代法(其使用亚硫酸盐、亚硫酸氢盐等),向炭黑中导入磺酸基。
方法2):使具有氨基和酸性基团的有机化合物与炭黑进行重氮偶联。
方法3):利用Williamson醚化法,使具有卤素原子和酸性基团的有机化合物、与具有羟基的炭黑进行反应。
方法4):使具有卤代羰基和被保护基保护的酸性基团的有机化合物、与具有羟基的炭黑进行反应。
方法5):使用具有卤代羰基和被保护基保护的酸性基团的有机化合物,针对炭黑进行弗瑞德-克来福特反应,然后进行脱保护。
上述方法中,从导入酸性基团的处理容易进行并且安全的方面考虑,优选为方法2)。作为方法2)中使用的具有氨基和酸性基团的有机化合物,优选在芳香族基团上键合有氨基和酸性基团的化合物。作为这样的化合物的例子,可举出对氨基苯磺酸这样的氨基苯磺酸、4-氨基苯甲酸这样的氨基苯甲酸。
向炭黑中导入的酸性基团的摩尔数在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。相对于100g炭黑,向炭黑中导入的酸性基团的摩尔数优选为1mmol以上200mmol以下,更优选为5mmol以上100mmol以下。
对于导入了酸性基团的炭黑,可以利用树脂实施被覆处理。
在使用包含经树脂被覆的炭黑的感光性树脂组合物时,容易形成遮光性及绝缘性优异、表面反射率低的遮光性固化膜。需要说明的是,通过利用树脂进行的被覆处理,不会对使用感光性树脂组合物形成的遮光性固化膜的介电常数产生特别的不良影响。作为可用于被覆炭黑的树脂的例子,可举出酚醛树脂、三聚氰胺树脂、二甲苯树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、甘酞(glyptal)树脂、环氧树脂、烷基苯树脂等热固性树脂;聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、改性聚苯醚、聚砜、聚对苯二甲酰对苯二胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚氨基双马来酰亚胺、聚醚砜聚亚苯基砜、聚芳酯、聚醚醚酮等热塑性树脂。相对于炭黑的质量和树脂的质量的总计,炭黑上的树脂的被覆量优选为1质量%以上30质量%以下。
另外,作为遮光剂,还优选苝系颜料。作为苝系颜料的具体例,可举出下述式(d-1)表示的苝系颜料、下述式(d-2)表示的苝系颜料及下述式(d-3)表示的苝系颜料。市售品中,可优选使用BASF公司制的制品名K0084及K0086、颜料黑21、30、31、32、33及34等作为苝系颜料。
[化学式40]
式(d-1)中,Rd1及Rd2各自独立地表示碳原子数为1以上3以下的亚烷基,Rd3及Rd4各自独立地表示氢原子、羟基、甲氧基、或乙酰基。
[化学式41]
式(d-2)中,Rd5及Rd6各自独立地表示碳原子数为1以上7以下的亚烷基。
[化学式42]
式(d-3)中,Rd7及Rd8各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上22以下的烷基,可包含N、O、S、或P这样的杂原子。Rd7及Rd8为烷基的情况下,该烷基可以为直链状,也可以为支链状。
上述的式(d-1)表示的化合物、式(d-2)表示的化合物、及式(d-3)表示的化合物例如可利用日本特开昭62-1753号公报、日本特公昭63-26784号公报中记载的方法合成。即,将苝-3,5,9,10-四甲酸或其二酐和胺类作为原料,在水或有机溶剂中进行加热反应。而后,将得到的粗制物在硫酸中进行再沉淀,或者在水、有机溶剂或它们的混合溶剂中进行重结晶,由此可得到目标物。
为了使苝系颜料在感光性树脂组合物中良好地分散,苝系颜料的平均粒径优选为10nm以上1000nm以下。
另外,作为遮光剂,还可包含内酰胺系颜料。作为内酰胺系颜料,可举出例如下述式(d-4)表示的化合物。
[化学式43]
式(d-4)中,Xd表示双键,作为几何异构体,各自独立地为E体或Z体,Rd9各自独立地表示氢原子、甲基、硝基、甲氧基、溴原子、氯原子、氟原子、羧基、或磺基,Rd10各自独立地表示氢原子、甲基、或苯基,Rd11各自独立地表示氢原子、甲基、或氯原子。
式(d-4)表示的化合物可单独使用或组合2种以上而使用。
从容易制造式(d-4)表示的化合物方面考虑,Rd9优选键合于二氢吲哚酮环的6位,Rd11优选键合于二氢吲哚酮环的4位。从同样的观点考虑,Rd9、Rd10、及Rd11优选为氢原子。
式(d-4)表示的化合物具有EE体、ZZ体、EZ体作为几何异构体,但其可以是它们中任一种的单一化合物,也可以是这些几何异构体的混合物。
式(d-4)表示的化合物例如可利用国际公开第2000/24736号、国际公开第2010/081624号中记载的方法制造。
为了使内酰胺系颜料在组合物中良好地分散,内酰胺系颜料的平均粒径优选为10nm以上1000nm以下。
此外,以银锡(AgSn)合金为主成分的微粒(以下,称为“AgSn合金微粒”。)也优选作为遮光剂使用。对于该AgSn合金微粒而言,只要AgSn合金为主成分即可,也可包含例如Ni、Pd、Au等作为其他金属成分。
该AgSn合金微粒的平均粒径优选为1nm以上300nm以下。
AgSn合金由化学式AgxSn表示时,可得到化学性质稳定的AgSn合金的x的范围为1≤x≤10,可同时得到化学稳定性和黑度的x的范围为3≤x≤4。
此处,在上述x的范围内,求出AgSn合金中的Ag的质量比,结果,
x=1时,Ag/AgSn=0.4762
x=3时,3·Ag/Ag3Sn=0.7317
x=4时,4·Ag/Ag4Sn=0.7843
x=10时,10·Ag/Ag10Sn=0.9008。
因此,对于该AgSn合金而言,含有47.6质量%以上90质量%以下的Ag时,化学性质稳定,含有73.17质量%以上78.43质量%以下的Ag时,可对应于Ag量而有效地得到化学稳定性和黑度。
该AgSn合金微粒可利用通常的微粒合成法制作。作为微粒合成法,可举出气相反应法、喷雾热解法、喷散法、液相反应法、冷冻干燥法、水热合成法等。
AgSn合金微粒虽然绝缘性高,但根据感光性树脂组合物的用途,为了进一步提高绝缘性,也可用绝缘膜被覆表面。作为这样的绝缘膜的材料,优选金属氧化物或有机高分子化合物。
作为金属氧化物,可合适地使用具有绝缘性的金属氧化物,例如氧化硅(二氧化硅)、氧化铝(alumina,三氧化二铝)、氧化锆(zirconia,二氧化锆)、氧化钇(yttria,三氧化二钇)、氧化钛(titania,二氧化钛)等。
另外,作为有机高分子化合物,可合适地使用具有绝缘性的树脂,例如聚酰亚胺、聚醚、聚丙烯酸酯、聚胺化合物等。
对于绝缘膜的膜厚而言,为了充分提高AgSn合金微粒的表面的绝缘性,优选为1nm以上100nm以下的厚度,更优选为5nm以上50nm以下。
绝缘膜可利用表面改性技术或表面的涂覆技术而容易地形成。尤其是,若使用四乙氧基硅烷、三乙醇铝等醇盐,则可在较低温度下形成膜厚均匀的绝缘膜,因而优选。
作为遮光剂,可单独使用上述的苝系颜料、内酰胺系颜料、AgSn合金微粒,也可将它们组合而使用。
此外,出于调节色调的目的等,遮光剂可不仅含有上述的黑色颜料、紫色颜料,还含有红色、蓝色、绿色、黄色等色调的色素。黑色颜料、紫色颜料之外的色调的色素可从已知的色素中适当选择。例如,作为黑色颜料、紫色颜料之外的色调的色素,可使用上述各种颜料。关于黑色颜料、紫色颜料之外的其他色调的色素的使用量,相对于遮光剂的总质量而言,优选为15质量%以下,更优选为10质量%以下。
为了使上述的着色剂在组合物中均匀地分散,也可进一步使用分散剂。作为这样的分散剂,优选使用聚乙烯亚胺系、聚氨酯树脂系、丙烯酸树脂系的高分子分散剂。尤其是,使用炭黑作为着色剂时,优选使用丙烯酸树脂系的分散剂作为分散剂。
需要说明的是,有时由于分散剂的分解而导致由感光性树脂组合物的固化膜产生腐蚀性的气体。因此,在不使用分散剂的情况下对着色剂进行分散处理也是优选的。
另外,无机颜料和有机颜料可分别单独使用或并用2种以上,在并用的情况下,相对于无机颜料与有机颜料的总量100质量份,优选以10质量份以上80质量份以下的范围使用有机颜料,更优选以20质量份以上40质量份以下的范围使用有机颜料。
需要说明的是,对于感光性树脂组合物而言,作为着色剂(D),除了颜料以外,还可使用染料。该染料从已知的材料中适当选择即可。
作为可应用于本实施方式的感光性树脂组合物的染料,例如,可举出偶氮染料、金属配位偶氮染料、蒽醌染料、三苯基甲烷染料、呫吨染料、花菁染料、萘醌染料、醌亚胺染料、甲川染料、酞菁染料等。
另外,对于这些染料,可通过进行色淀化(成盐化)而使其分散于有机溶剂等中,从而将其作为着色剂(D)使用。
除了这些染料以外,例如,还可优选使用日本特开2013-225132号公报、日本特开2014-178477号公报、日本特开2013-137543号公报、日本特开2011-38085号公报、日本特开2014-197206号公报等中记载的染料等。
另外,这些染料还可与上述的颜料(例如苝系颜料、内酰胺系颜料、AgSn合金微粒等)组合使用。
关于感光性树脂组合物中的着色剂(D)的使用量,可在不妨碍本发明的目的的范围内适当选择,典型地,相对于感光性树脂组合物的全部固态成分的质量而言,优选为5质量%以上70质量%以下,更优选为25质量%以上60质量%以下。
对于着色剂(D)而言,优选的是,在存在或不存在分散剂的条件下使其以适当的浓度分散而制成分散液后,添加到感光性树脂组合物中。
需要说明的是,本说明书中,关于上述的着色剂(D)的使用量,可定义为将上述存在的分散剂也包含在内的值。
<有机溶剂(S)>
通常,出于调节涂布性等目的,感光性树脂组合物包含有机溶剂(S)。作为有机溶剂(S),只要能将树脂(A)、光聚合引发剂(B)、及光聚合性单体(C)等成分溶解,就没有特别限制。
作为有机溶剂(S),可举出例如N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)、N,N-二甲基异丁酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二乙基甲酰胺、N-甲基己内酰胺、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)、吡啶、及N,N,N’,N’-四甲基脲(TMU)等含氮极性溶剂;β-丙内酯、γ-丁内酯、γ-戊内酯、δ-戊内酯、γ-己内酯、及ε-己内酯等内酯系极性溶剂;二甲基亚砜;六甲基磷酰三胺;乙腈;乳酸乙酯、乳酸丁酯及乙酸甲酯、乙酸乙酯等脂肪酸酯类;二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二氧杂环己烷、四氢呋喃、甲基溶纤剂乙酸酯、及乙基溶纤剂乙酸酯、甘醇二甲醚等醚类;苯、甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂。
这些中,从树脂(A)的溶解性等观点考虑,优选N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二甲基异丁酰胺、N-甲基己内酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲等含氮极性有机溶剂、或乳酸乙酯、乳酸丁酯等脂肪酸酯类。另外,也可将这些有机溶剂组合使用。
有机溶剂(S)的使用量在不妨碍本发明的目的的范围内没有特别限制。典型地,以感光性树脂组合物的固态成分浓度为3质量%以上50质量%以下、优选5质量%以上40质量%以下、更优选10质量%以上35质量%以下的量使用有机溶剂(S)。
<其他成分>
根据需要,可使感光性树脂组合物中含有表面活性剂、防腐蚀剂、热交联剂、密合性提高剂、热聚合阻止剂、消泡剂、硅烷偶联剂等添加剂。所有添加剂均可使用现有已知的物质。
从特别容易形成对基板的密合性优异的固化膜方面考虑,感光性树脂组合物可包含硅烷偶联剂。作为硅烷偶联剂,可没有特别限制地使用现有已知的物质。
作为表面活性剂,可举出阴离子系、阳离子系、非离子系等的化合物,作为热聚合阻止剂,可举出氢醌、氢醌单乙基醚等,作为消泡剂,可举出聚硅氧烷系、氟系化合物等。
对于防腐蚀剂而言,可根据作为防腐蚀对象的物质的种类,从现有已知的各种防腐蚀剂中适当选择使用。
热交联剂是通过加热而进一步使树脂(A)交联、或其本身进行交联的成分。通过使感光性树脂组合物包含热交联剂,从而可形成耐热性及耐化学药品性特别优异的固化膜。
作为热交联剂,可优选使用例如氨基树脂及其衍生物。其中,可合适地使用尿素树脂、甘脲树脂、羟基乙烯脲树脂、三聚氰胺树脂、苯并胍胺树脂、及它们的衍生物。
特别优选使用烷氧基甲基化尿素化合物、及烷氧基甲基化三聚氰胺化合物。
相对于树脂(A)的质量而言,热交联剂的使用量优选为0.1质量%以上30质量%以下,更优选为0.5质量%以上20质量%以下,特别优选为2质量%以上10质量%以下。
<感光性树脂组合物的制备方法>
以上说明的感光性树脂组合物可通过在将分别为规定量的上述各成分混合后、用搅拌机均匀混合而得到。需要说明的是,为了使得到的混合物更均匀,也可使用过滤器进行过滤。
《固化膜的制造方法》
以下,对本发明的第6方式所述的固化膜的制造方法、和第7方式所述的固化膜进行说明。第6方式所述的固化膜的制造方法是使用上述的第1方式所述的感光性树脂组合物的方法。
而且,第7方式所述的固化膜是使第1方式所述的感光性树脂组合物固化而形成的固化膜。
作为固化膜的制造方法,只要能使树脂(A)中包含的聚酰胺树脂的分子彼此、或树脂(A)中包含的聚酰胺树脂的分子与光聚合性单体(C)良好地聚合即可,可从现有已知的固化膜的制造方法中适当选择。
作为固化膜的优选的制造方法,可举出包括下述工序的方法:
涂布上述的感光性树脂组合物而形成涂布膜的工序,和
将涂布膜曝光的工序。
为了使用感光性树脂组合物形成固化膜,首先,将感光性树脂组合物涂布于根据固化膜的用途而选择的基板上从而形成涂布膜。涂布膜的形成方法没有特别限制,例如,可使用辊涂机、逆式涂布机、棒涂机等接触转印型涂布装置、旋涂机(旋转式涂布装置)、帘流式涂布机等非接触型涂布装置进行。
对于涂布的感光性树脂组合物,根据需要进行干燥,构成涂布膜。干燥方法没有特别限制,例如,可举出下述方法:(1)利用加热板,于80℃以上120℃以下、优选90℃以上100℃以下的温度,以60秒以上120秒以下的时间进行干燥的方法;(2)在室温下放置数小时以上且数天以下的时间的方法;(3)放入到热风加热器、红外线加热器中经过数十分钟以上且数小时以下的时间而除去有机溶剂的方法;等等。
接下来,进行针对涂布膜的曝光。曝光可通过照射紫外线、准分子激光等活性能量射线而进行。对于曝光而言,例如可利用隔着负型的掩模进行曝光的方法等,位置选择性地进行。照射的能量射线量根据感光性树脂组合物的组成而不同,例如优选为40mJ/cm2以上200mJ/cm2以下的程度。
需要说明的是,在对涂布膜整面进行曝光的情况下,可形成具有与涂布膜的形状对应的形状的未被图案化的固化膜。
在以位置选择性方式对涂布膜进行曝光的情况下,通过利用显影液对曝光后的膜进行显影,从而可将未曝光部溶解于显影液而将其除去,从而形成经图案化的固化膜。显影方法没有特别限制,可使用例如浸渍法、喷雾法等。显影液可根据感光性树脂组合物的组成适当选择。
作为显影液,可优选使用有机溶剂、碱性显影液。
可作为显影液使用的有机溶剂只要是使未曝光部溶解而不使曝光部溶解的溶剂,就没有特别限制。
作为优选用作显影液的有机溶剂,可举出N-甲基-2-吡咯烷酮、N-环己基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二甲基异丁酰胺、环戊酮、环己酮、γ-丁内酯、α-乙酰基-γ-丁内酯、N-甲基己内酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲等。这些有机溶剂可组合2种以上而使用。
显影液优选为上述的优选的有机溶剂与难以使感光性树脂组合物溶解的不良溶剂的混合溶剂。通过调节不良溶剂的种类及使用量,从而可调节曝光部及未曝光部在显影液中的溶解性。
作为不良溶剂,可举出例如甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、异丙醇、乳酸乙酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、及水等。可将这些不良溶剂中的2种以上组合使用。
作为碱性显影液,可使用含有选自无机碱性化合物及有机碱性化合物中的1种以上的碱性化合物的水溶液。对于显影液中的碱性化合物的浓度而言,只要能将曝光后的涂膜或成型体良好地显影即可,没有特别限制。典型地,显影液中的碱性化合物的浓度优选为1质量%以上10质量%以下。
作为无机碱性化合物的例子,可举出氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、磷酸氢二铵、磷酸氢二钾、磷酸氢二钠、硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾、硼酸锂、硼酸钠、硼酸钾、及氨等。作为有机碱性化合物的例子,可举出四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基羟基乙基氢氧化铵、甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、单乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、正丙基胺、二正丙基胺、异丙基胺、二异丙基胺、甲基二乙基胺、二甲基乙醇胺、乙醇胺、及三乙醇胺等。
此外,根据需要,可在碱性显影液中添加适量的甲醇、乙醇、丙醇、或乙二醇等水溶性有机溶剂、表面活性剂、保存稳定剂、及树脂的溶解抑制剂等。
针对根据需要而进行了显影的固化膜,根据需要用水等进行漂洗后,使其干燥,可得到固化膜。
如上所述地使用上述的感光性树脂组合物得到的固化膜与基板良好地密合,可在各种用途中合适地使用。尤其是在感光性树脂组合物不包含着色剂的情况下,可使用感光性树脂组合物形成透明性优异的固化膜。
固化膜的透明性没有特别限制,对于在以下的条件下形成的固化膜而言,优选的是,波长380nm以上780nm以下的范围内的全部区域的光线的透过率为80%以上,更优选为90%以上。
<固化条件>
在玻璃基板上涂布感光性树脂组合物,得到膜厚为10μm的涂布膜。接下来,以100mJ/cm2的曝光量对形成的涂布膜进行曝光。曝光后,在氮气气氛下,于300℃进行2小时烘烤,形成固化膜。
《聚酰胺树脂》
以下,对本发明的第2方式所述的聚酰胺树脂进行说明。第2方式所述的聚酰胺树脂为包含下述式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂。
[化学式44]
(式(a1)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Y1为2价的有机基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为氢原子的情况下,-COORa1或-COORa2表示的羧基可形成酰卤,也可形成盐,
[化学式45]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式46]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
对于第2方式所述的聚酰胺树脂而言,在式(a1)中的Ra1及Ra2中的至少一方为氢原子的情况下,-COORa1或-COORa2表示的羧基可形成酰卤,也可形成盐,除此之外,与作为感光性树脂组合物的成分而在上文中说明的聚酰胺树脂同样。
作为酰卤,优选为酰氯及酰溴,更优选为酰氯。
形成羧酸盐的阳离子可以是无机阳离子,也可以是有机阳离子。作为羧酸盐,可举出锂、钠、钾等碱金属、镁、钙、锶等第2族金属等的金属盐、与氨、三乙基胺、吡啶等有机碱形成的盐。
将羧基转化为酰卤的方法没有特别限制,可按照常规方法进行。例如,对于酰氯而言,通过使羧基与亚硫酰氯、草酰氯、磷酰氯、硫酰氯(sulfuryl chloride)、三氯化磷、五氯化磷、及氧氯化磷等试剂反应而生成。
《聚酰胺树脂的制造方法》
以下,对本发明的第3方式所述的聚酰胺树脂的制造方法进行说明。本发明的第3方式是第2方式所述的聚酰胺树脂的制造方法,所述方法包括使下述式(I)表示的多元羧酸化合物及/或上述的多元羧酸化合物的酰卤、与下述式(II)表示的二胺化合物缩合的步骤。
[化学式47]
(式(I)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,
[化学式48]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式49]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
H2N-Y1-NH2···(II)
(式(II)中,Y1为2价的有机基团。)
对于第3方式所述的聚酰胺树脂的制造方法而言,在作为制造对象的第2方式所述的聚酰胺树脂中,式(a1)中的Ra1及Ra2中的至少一方为氢原子的情况下,-COORa1或-COORa2表示的羧基可形成酰卤,也可形成盐,除此之外,与作为感光性树脂组合物的成分而在上文中说明的聚酰胺树脂的优选的制造方法同样。
关于酰卤、羧酸盐,如针对第2方式所述的聚酰胺树脂而说明的那样。
《化合物及化合物的制造方法》
以下,对本发明的第4方式所述的化合物、和作为第4方式所述的化合物的优选制造方法的本发明的第5方式所述的化合物的制造方法进行说明。
第4方式所述的化合物例如可合适地用于制造作为第1方式所述的感光性树脂组合物中的必需成分的包含式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂。
第4方式所述的化合物是下述式(I)表示的化合物,所述化合物所具有的羧基可形成酰卤,也可形成盐。
[化学式50]
(式(I)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为式(a3)表示的基团,
[化学式51]
式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式52]
式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
如上所述,式(I)表示的化合物具有羧基的情况下,羧基可形成酰卤,也可形成盐。
作为酰卤,优选酰氯及酰溴,更优选酰氯。
形成羧酸盐的阳离子可以是无机阳离子,也可以是有机阳离子。作为羧酸盐,可举出锂、钠、钾等碱金属、镁、钙、锶等第2族金属等的金属盐、与氨、三乙基胺、吡啶等有机碱形成的盐。
将羧基转化为酰卤的方法没有特别限制,可按照常规方法进行。例如,对于酰氯而言,通过使羧基与亚硫酰氯、草酰氯、磷酰氯、硫酰氯、三氯化磷、五氯化磷、及氧氯化磷等试剂反应而生成。
第4方式所述的化合物的制造方法没有特别限制。作为优选的方法,可举出以下说明的、本发明的第5方式所述的化合物的制造方法。
本发明的第5方式所述的化合物的制造方法是包括使下述式(a4)表示的四羧酸二酐、与下述式(a5)表示的不饱和羧酸酯反应的步骤的方法。
[化学式53]
(式(a4)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数。)
[化学式54]
(式(a5)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。)
作为式(a4)表示的四羧酸二酐,可举出例如降冰片烷-2-螺-α-环戊酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐(别名为“降冰片烷-2-螺-2’-环戊酮-5’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐”)、甲基降冰片烷-2-螺-α-环戊酮-α’-螺-2”-(甲基降冰片烷)-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环己酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐(别名为“降冰片烷-2-螺-2’-环己酮-6’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐”)、甲基降冰片烷-2-螺-α-环己酮-α’-螺-2”-(甲基降冰片烷)-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环丙酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环丁酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环庚酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环辛酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环壬酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环癸酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环十一烷酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环十二烷酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环十三烷酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环十四烷酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-环十五烷酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-(甲基环戊酮)-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐、降冰片烷-2-螺-α-(甲基环己酮)-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐等。
另外,作为式(a4)表示的四羧酸二酐,从调节使用感光性树脂组合物形成的固化膜的膜特性、热物性、机械物性、光学特性、电气特性的观点考虑,优选的是,含有下述式(a1-I)表示的化合物(A1-I)及下述式(a1-II)表示的化合物(A1-II)中的至少1种,并且化合物(A1-I)和化合物(A1-II)的总量相对于四羧酸二酐的总摩尔数而言为30摩尔%以上。
[化学式55]
(式(a1-I)中,Ra3、Ra4、Ra5、n与式(a2)中的Ra3、Ra4、Ra5、n的含义相同。)
[化学式56]
(式(a1-II)中,Ra3、Ra4、Ra5、n与式(a2)中的Ra3、Ra4、Ra5、n的含义相同。)
式(a1-I)表示的化合物(A1-I)为:2个降冰片烷基以反式配置、并且环烷酮的羰基相对于这2个降冰片烷基分别成为内向(endo)的立体构型的式(a4)表示的四羧酸二酐的异构体。
式(a1-II)表示的化合物(A1-II)为:2个降冰片烷基以顺式配置、并且环烷酮的羰基相对于这2个降冰片烷基分别成为内向的立体构型的式(a4)表示的四羧酸二酐的异构体。
需要说明的是,以上述比率含有这样的异构体的四羧酸二酐的制造方法也没有特别限制,可适当采用已知的方法,例如,可适当采用国际公开第2014/034760号中记载的方法等。
作为式(a5)表示的不饱和羧酸酯的优选例,可举出丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸3-羟基正丙酯、甲基丙烯酸3-羟基正丙酯、丙烯酸4-羟基正丁酯、及甲基丙烯酸4-羟基正丁酯。
对于式(a4)表示的四羧酸二酐的使用量与式(a5)表示的不饱和羧酸酯的使用量的比率而言,只要能合成所期望的结构的化合物即可,没有特别限制。
关于式(a5)表示的不饱和羧酸酯的使用量,相对于式(a4)表示的四羧酸二酐1.0摩尔而言,优选为2.0摩尔以下,更优选为0.1摩尔以上且2.0摩尔以下,进一步优选为0.5摩尔以上且2.0摩尔以下,特别优选为1.0摩尔以上且2.0摩尔以下。通过使用上述的量的式(a5)表示的不饱和羧酸酯,从而容易在防止羧基的过度酯化的同时得到所期望的结构的化合物。
作为第4方式所述的化合物的式(I)表示的化合物中,有时Ra1及Ra2不是氢原子或式(a3)表示的基团,而是碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基。
在这种情况下,使式(a4)表示的四羧酸二酐1.0摩尔、与低于2.0摩尔的式(a5)表示的不饱和羧酸酯进行反应后,与所期望的量的由Ra1-OH或Ra2-OH表示、且Ra1或Ra2为碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、或碳原子数为7以上20以下的芳烷基的含羟基化合物进行反应,由此,可得到所期望的结构的式(I)表示的化合物。
另外,使式(a4)表示的四羧酸二酐1.0摩尔、与1.0摩尔以下的由Ra1-OH或Ra2-OH表示、且Ra1或Ra2为碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、或碳原子数为7以上20以下的芳烷基的含羟基化合物进行反应后,与所期望的量的式(a5)表示的不饱和羧酸酯进行反应,由此,可得到所期望的结构的式(I)表示的化合物。
式(a4)表示的四羧酸二酐、与式(a5)表示的不饱和羧酸酯、或由Ra1-OH或Ra2-OH表示的羟基化合物的反应优选在可催化酸酐基的开环和酯化的催化剂化合物的存在下进行。通过使用所述催化剂,即使不是在原料化合物或产物发生热分解这样的严苛的条件下,也能使酯化反应良好地进行。
作为所述催化剂,例如,可使用包含咪唑环的咪唑化合物。
作为在合成式(I)表示的化合物时可使用的有机溶剂,可考虑合成反应中的反应速度、化合物的溶解性、操作性等而适当选择。
作为这样的有机溶剂,优选N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基异丁酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N-甲基己内酰胺、及N,N,N’,N’-四甲基脲等含氮极性有机溶剂。
使式(a4)表示的四羧酸二酐与式(a5)表示的不饱和羧酸酯反应的温度没有特别限制,优选为0℃以上80℃以下,更优选为10℃以上70℃以下。反应时间没有特别限制,优选为0.5小时以上30小时以下,更优选为1小时以上20小时以下。
在上述条件下进行反应的情况下,容易在抑制因副反应而导致的凝胶化的同时生成所期望的结构的化合物。
[实施例]
以下,示出实施例进一步具体地说明本发明,但本发明的范围不受这些实施例的限制。
〔实施例1〕
(四羧酸二酐的制备)
按照国际公开第2011/099518号的合成例1、实施例1及实施例2中记载的方法,制备下述式表示的四羧酸二酐(降冰片烷-2-螺-α-环戊酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐)。
[化学式57]
以固态成分浓度成为40质量%的方式,向N-甲基-2-吡咯烷酮中装入上述结构的四羧酸二酐1摩尔份、甲基丙烯酸2-羟基甲酯1摩尔份、和作为催化剂的咪唑化合物0.03摩尔份,一边搅拌一边在60℃、10小时的条件下进行反应。
利用HPLC/LC-MS对反应后的反应液进行分析。LC-MS分析的结果确认到,生成了相当于m/z=550的化合物、和相当于m/z=662的化合物。
m/z=550与下述结构的化合物的分子量一致。以下,也将下式的化合物记为单酯。需要说明的是,本实施例1中的以四羧酸二酐的装料量为基准的单酯的收率为2.3%。
[化学式58]
m/z=662与下述结构的化合物的分子量一致。以下,也将下式的化合物记为二酯。需要说明的是,本实施例1中的以四羧酸二酐的装料量为基准的二酯的收率为95.4%。
[化学式59]
〔实施例2〕
首先,对玻璃制的反应容器进行加热,使其充分干燥。使反应容器的内部成为氮气气氛,然后,在反应容器内装入实施例1中得到的反应液。接下来,在室温条件下,向反应容器内装入4,4’-二氨基苯酰替苯胺1.0摩尔份、和N,N-二甲基-4-氨基吡啶2.0摩尔份。需要说明的是,此处的摩尔份是以上述的二酯为1.0摩尔份时的换算值。
接下来,在冰浴条件下将反应容器冷却至0℃,一边搅拌,一边缓缓滴加(2,3-二氢-2-硫代-3-苯并噁唑基)膦酸二苯酯2.0摩尔份,开始缩合反应。缩聚反应在下述条件下进行:于0℃进行30分钟,于室温进行30分钟,接着于40℃进行20小时。
反应结束后,通过向反应液中添加甲醇,从而使聚酰胺树脂析出,将其回收。聚酰胺树脂的收率相对于二酯的量而言为95.0%。
得到的聚酰胺树脂的利用GPC测得的按照聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)为10,300,分散度(重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn))为2.50。
〔参考例1〕
将降冰片烷-2-螺-α-环戊酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四甲酸二酐变更为3,3’,4,4’-二苯基醚四甲酸二酐,除此之外,与实施例1同样地操作,得到下述3种二酯的混合物。
[化学式60]
将利用与实施例1同样的方法得到的二酯变更为参考例1中得到的二酯的混合物,并且,将4,4’-二氨基苯酰替苯胺变更为4,4’-二氨基二苯基醚,并适当地调节反应条件,除此之外,利用与实施例2同样的方法,得到聚酰胺树脂。
得到的聚酰胺树脂的利用GPC测得的按照聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)为20,000。
〔实施例3~6、及比较例1〕
以固态成分浓度成为25质量%的方式,使表1中记载的种类的树脂(A)100质量份、作为光聚合引发剂(B)的后述的化合物4质量份、作为光聚合性单体(C)的四乙二醇二甲基丙烯酸酯8质量份、作为热交联剂的N,N’-双甲氧基甲基脲(N,N’-dimethoxymethylurea)4质量份、作为敏化剂的N-苯基二乙醇胺4质量份、和作为防腐蚀剂的1,3,5-三(3-羟基-4-叔丁基-2,6-二甲基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮1.5质量份溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮中,得到实施例3~6、及比较例1的感光性树脂组合物。
作为树脂(A),分别使用作为聚酰胺树脂的以下的PA1~PA5。需要说明的是,PA1~PA4的重均分子量可通过对缩合反应的温度、搅拌条件及时间进行微调而进行调节。
PA1:使用利用实施例1的方法得到的反应液、以按照二酯换算为等摩尔的比率缩合4,4’-二氨基苯酰替苯胺从而得到的聚酰胺树脂(重均分子量11,000)
PA2:使用利用实施例1的方法得到的反应液、以按照二酯换算为等摩尔的比率缩合4,4’-二氨基-2,2’-双(三氟甲基)联苯从而得到的聚酰胺树脂(重均分子量10,000)
PA3:使用利用实施例1的方法得到的反应液、以按照二酯换算为等摩尔的比率缩合4,4’-二氨基二苯基醚从而得到的聚酰胺树脂(重均分子量15,000)
PA4:使用利用实施例1的方法得到的反应液、以按照二酯换算为等摩尔的比率缩合2,2-双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷从而得到的聚酰胺树脂(重均分子量12,000)
PA5:参考例1中得到的包含来自3,3’,4,4’-二苯基醚四甲酸二酐的骨架的聚酰胺树脂(重均分子量20,000)
作为光聚合引发剂(B),使用了下述结构的化合物。
[化学式61]
使用得到的感光性树脂组合物,按照以下的方法,对图案剥落、和形成的膜的透明性进行评价。将它们的评价结果记载于表1。
(图案剥落评价)
在玻璃基板上涂布各实施例、比较例的感光性树脂组合物,然后,于90℃进行120秒的烘烤,得到膜厚为10μm的涂布膜。
在形成的涂布膜上,隔着负型的掩模,以形成线宽为5μm的线图案的方式,使用镜面投影对准曝光器(mirror projection aligner)(制品名:MPA-600FA,Canon Inc.制)而以100mJ/cm2的曝光量进行曝光。
曝光后,使用环戊酮作为显影液,在23℃、60秒的条件下进行显影。利用显微镜观察显影后得到的线宽为5μm的线图案,对有无图案剥落进行评价。将观察到图案剥落的情况记为×,将未观察到图案剥落的情况记为○。
(透明性评价)
对涂布膜整面进行曝光,除此之外,利用与图案剥落评价同样的方法,得到感光性树脂组合物的固化膜。对于得到的固化膜,在氮气气氛下,于300℃进行2小时烘烤。测定烘烤后的固化膜的透光率,按照以下的基准,评价固化膜的透明性。
◎:波长380nm以上780nm以下的范围内的全部区域的光线的透过率为90%以上。
○:波长380nm以上780nm以下的范围内的全部区域的光线的透过率为80%以上。
×:在波长380nm以上780nm以下的范围内的光线中,某个波长处的透过率低于80%。
[表1]
通过实施例3~6与比较例1的比较可知,通过包含来自特定结构的脂环式四羧酸二酐的结构单元作为聚酰胺树脂的母核,从而能够使得到的固化膜与基板良好地密合、且透明性优异。
〔实施例7~9〕
以固态成分浓度成为25质量%的方式,使表2中记载的种类的树脂(A)100质量份、作为光聚合引发剂(B)的上述的化合物4质量份、作为光聚合性单体(C)的四乙二醇二甲基丙烯酸酯8质量份、作为热交联剂的N,N’-双甲氧基甲基脲4质量份、作为敏化剂的N-苯基二乙醇胺4质量份、和作为防腐蚀剂的1,3,5-三(3-羟基-4-叔丁基-2,6-二甲基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮1.5质量份溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮中,得到实施例7~9的感光性树脂组合物。
关于表2中记载的树脂中的PA4,如上文所述。关于PA6及PA7,如下文所述。
PA6:使用利用实施例1的方法得到的反应液、以按照二酯换算为等摩尔的比率缩合3,3’-二羟基-4,4’-二氨基联苯从而得到的聚酰胺树脂(重均分子量19,000)
PA7:使用利用实施例1的方法得到的反应液、以按照二酯换算为等摩尔的比率缩合2,2-双(3-羟基-4-氨基苯基)丙烷从而得到的聚酰胺树脂(重均分子量19,500)
对于实施例7~9中的图案剥落的评价方法和透过率的评价方法而言,除了显影方法之外,与实施例3~6同样。
实施例7~9中,代替实施例3~6中的利用环戊酮进行的显影,而利用浓度为2.38质量%的四甲基氢氧化铵的水溶液进行了显影。
将实施例7~9的感光性树脂组合物的图案剥落的评价结果和透过率的评价结果示于表2。
[表2]
根据实施例3~6和实施例7~9可知,通过包含来自特定结构的脂环式四羧酸二酐的结构单元作为聚酰胺树脂的母核,从而不论显影方法是利用有机溶剂进行的显影、还是利用碱性显影液进行的显影,均能够使得到的固化膜与基板良好地密合、且透明性优异。

Claims (13)

1.感光性树脂组合物,其包含树脂(A)和光聚合引发剂(B),所述树脂(A)含有包含下述式(a1)表示的结构单元的聚酰胺树脂,
[化学式1]
式(a1)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Y1为2价的有机基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为下述式(a3)表示的基团,
[化学式2]
所述式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式3]
所述式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。
2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述聚酰胺树脂为下述式(I)表示的多元羧酸化合物及/或所述多元羧酸化合物的酰卤、与下述式(II)表示的二胺化合物的缩合物,
[化学式4]
式(I)中,X1、Ra1、及Ra2的含义与所述式(a1)同样,
H2N-Y1-NH2···(II)
式(II)中,Y1的含义与所述式(a1)同样。
3.如权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,所述感光性树脂组合物还包含光聚合性单体(C)。
4.如权利要求1~3中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述聚酰胺树脂的重均分子量为50000以下。
5.聚酰胺树脂,其包含下述式(a1)表示的结构单元,
[化学式5]
式(a1)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Y1为2价的有机基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为下述式(a3)表示的基团,所述Ra1及所述Ra2中的至少一方为氢原子的情况下,-COORa1或-COORa2表示的羧基可形成酰卤,也可形成盐,
[化学式6]
所述式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式7]
所述式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。
6.如权利要求5所述的聚酰胺树脂,其是下述式(I)表示的多元羧酸化合物与下述式(II)表示的二胺化合物的缩合物,
[化学式8]
式(I)中,X1、Ra1、及Ra2的含义与所述式(a1)同样,
H2N-Y1-NH2···(II)
式(II)中,Y1的含义与所述式(a1)同样,
Ra1及Ra2中的至少一方为氢原子、所述缩合物具有-COORa1或-COORa2表示的羧基的情况下,所述羧基可形成酰卤,也可形成盐。
7.如权利要求5或6所述的聚酰胺树脂,所述聚酰胺树脂的重均分子量为50000以下。
8.权利要求5~7中任一项所述的聚酰胺树脂的制造方法,所述方法包括下述步骤:使下述式(I)表示的多元羧酸化合物及/或所述多元羧酸化合物的酰卤、与下述式(II)表示的二胺化合物缩合,[化学式9]
(式(I)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为下述式(a3)表示的基团,
[化学式10]
所述式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式11]
所述式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数,
H2N-Y1-NH2···(II)
式(II)中,Y1为2价的有机基团。
9.下述式(I)表示的化合物,所述化合物所具有的羧基可形成酰卤,也可形成盐,
[化学式12]
式(I)中,X1为下述式(a2)表示的4价的基团,Ra1及Ra2各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上20以下的饱和脂肪族烃基、碳原子数为6以上20以下的芳基、碳原子数为7以上20以下的芳烷基、或下述式(a3)表示的基团,Ra1及Ra2中的至少一方为下述式(a3)表示的基团,
[化学式13]
所述式(a2)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式14]
所述式(a3)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。
10.权利要求9所述的化合物的制造方法,所述方法包括下述步骤:使下述式(a4)表示的四羧酸二酐、与下述式(a5)表示的不饱和羧酸酯反应,
[化学式15]
式(a4)中,Ra3、Ra4、及Ra5各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1以上10以下的烷基及氟原子组成的组中的1种,n为0以上12以下的整数,
[化学式16]
式(a5)中,Ra6、Ra7、及Ra8各自独立地为氢原子或碳原子数为1以上3以下的有机基团,m为2以上10以下的整数。
11.固化膜的制造方法,所述方法包括下述工序:
涂布权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂组合物而形成涂布膜的工序,和
将所述涂布膜曝光的工序。
12.如权利要求11所述的固化膜的制造方法,其中,以位置选择性方式进行对所述涂布膜的曝光,
所述制造方法还包括将经曝光的所述涂布膜显影的工序。
13.固化膜,其是使权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂组合物固化而形成的。
CN201710813526.5A 2016-09-13 2017-09-11 感光性树脂组合物、聚酰胺树脂及其制造方法、化合物及其制造方法、固化膜及其制造方法 Active CN107817649B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-179000 2016-09-13
JP2016179000 2016-09-13
JP2017-151972 2017-08-04
JP2017151972A JP6909093B2 (ja) 2016-09-13 2017-08-04 感光性樹脂組成物、ポリアミド樹脂、ポリアミド樹脂の製造方法、化合物、化合物の製造方法、硬化膜の製造方法、及び硬化膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107817649A true CN107817649A (zh) 2018-03-20
CN107817649B CN107817649B (zh) 2022-09-16

Family

ID=61601628

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710813526.5A Active CN107817649B (zh) 2016-09-13 2017-09-11 感光性树脂组合物、聚酰胺树脂及其制造方法、化合物及其制造方法、固化膜及其制造方法

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102472822B1 (zh)
CN (1) CN107817649B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110431483A (zh) * 2019-01-23 2019-11-08 律胜科技股份有限公司 感光性树脂组合物及其应用
CN113126431A (zh) * 2019-12-30 2021-07-16 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光敏双马来酰亚胺组合物

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102382661A (zh) * 2010-08-27 2012-03-21 Jsr株式会社 液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件、聚酰胺酸以及聚酰亚胺
US20120310013A1 (en) * 2010-02-09 2012-12-06 Jx Nippon Oil & Energy Corporation 5-NORBORNENE-2-SPIRO-a-CYCLOALKANONE-a'-SPIRO-2''-5''-NORBORNENE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
WO2014034760A1 (ja) * 2012-08-31 2014-03-06 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 ポリイミド及びその製造に用いる脂環式テトラカルボン酸二無水物
JP2014237820A (ja) * 2014-06-09 2014-12-18 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 ポリイミドフィルム、並びに、それを用いたガスバリアフィルム、フレキシブル配線基板及び透明電極基板
CN104285184A (zh) * 2012-05-07 2015-01-14 旭化成电子材料株式会社 负型感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、及半导体装置
US20150086753A1 (en) * 2012-09-26 2015-03-26 Jx Nippon Oil & Energy Corporation NORBORNANE-2-SPIRO-a-CYCLOALKANONE-a'-SPIRO-2"-NORBORNANE-5,5",6,6"-TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, NORBORNANE-2-SPIRO-a- CYCLOALKANONE-a'-SPIRO-2"-NORBORNANE-5,5",6,6"-TETRACARBOXYLIC ACID AND ESTER THEREOF, METHOD FOR PRODUCING NORBORNANE-2-SPIRO-a-CYCLOALKANONE-a'-SPIRO-2"-NORBORNANE-5,5",6,6"-TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, POLYIMIDE OBTAINED BY USING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE
CN105764990A (zh) * 2013-11-27 2016-07-13 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺的制造方法、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜和基板

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120310013A1 (en) * 2010-02-09 2012-12-06 Jx Nippon Oil & Energy Corporation 5-NORBORNENE-2-SPIRO-a-CYCLOALKANONE-a'-SPIRO-2''-5''-NORBORNENE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
CN102382661A (zh) * 2010-08-27 2012-03-21 Jsr株式会社 液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件、聚酰胺酸以及聚酰亚胺
CN104285184A (zh) * 2012-05-07 2015-01-14 旭化成电子材料株式会社 负型感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、及半导体装置
WO2014034760A1 (ja) * 2012-08-31 2014-03-06 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 ポリイミド及びその製造に用いる脂環式テトラカルボン酸二無水物
US20150218317A1 (en) * 2012-08-31 2015-08-06 Jx Nippon Oil & Energy Corporation Polyimide and alicyclic tetracarboxylic dianhydride used for producing the same
US20150086753A1 (en) * 2012-09-26 2015-03-26 Jx Nippon Oil & Energy Corporation NORBORNANE-2-SPIRO-a-CYCLOALKANONE-a'-SPIRO-2"-NORBORNANE-5,5",6,6"-TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, NORBORNANE-2-SPIRO-a- CYCLOALKANONE-a'-SPIRO-2"-NORBORNANE-5,5",6,6"-TETRACARBOXYLIC ACID AND ESTER THEREOF, METHOD FOR PRODUCING NORBORNANE-2-SPIRO-a-CYCLOALKANONE-a'-SPIRO-2"-NORBORNANE-5,5",6,6"-TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, POLYIMIDE OBTAINED BY USING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE
CN105764990A (zh) * 2013-11-27 2016-07-13 宇部兴产株式会社 聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺的制造方法、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜和基板
JP2014237820A (ja) * 2014-06-09 2014-12-18 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 ポリイミドフィルム、並びに、それを用いたガスバリアフィルム、フレキシブル配線基板及び透明電極基板

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110431483A (zh) * 2019-01-23 2019-11-08 律胜科技股份有限公司 感光性树脂组合物及其应用
WO2020150918A1 (zh) * 2019-01-23 2020-07-30 律胜科技股份有限公司 感光性树脂组合物及其应用
US20210364919A1 (en) * 2019-01-23 2021-11-25 Microcosm Technology Co., Ltd. Photosensitive resin composition and application thereof
CN110431483B (zh) * 2019-01-23 2022-02-11 律胜科技股份有限公司 感光性树脂组合物及其应用
CN113126431A (zh) * 2019-12-30 2021-07-16 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光敏双马来酰亚胺组合物

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180029873A (ko) 2018-03-21
CN107817649B (zh) 2022-09-16
KR102472822B1 (ko) 2022-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102203136B (zh) 光敏引发剂混合物
CN101414121B (zh) 用于形成着色层的放射线敏感性组合物、滤色器以及液晶显示元件
CN107817650A (zh) 潜伏性添加剂以及含有该添加剂的组合物
CN106104381A (zh) 感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、以及半导体装置
TWI739898B (zh) 感光性樹脂組合物、聚醯胺樹脂、聚醯胺樹脂之製造方法、化合物、化合物之製造方法、硬化膜之製造方法、及硬化膜
CN101324753B (zh) 用于形成着色层的放射线敏感性组合物、滤色器和彩色液晶显示元件
CN107561860A (zh) 感光性树脂组合物及其应用
CN108047749A (zh) 着色树脂组合物、滤色片、液晶显示装置及有机el显示装置
TW201001069A (en) Polymerizable composition, color filter, method of producing color filter and solid state image sensor
CN107955450A (zh) 防焊油墨
CN106604912A (zh) 肟磺酸酯衍生物
CN105992801B (zh) 着色树脂组合物、滤色片、液晶显示装置及有机el显示装置
TW202014401A (zh) 胺甲醯肟化合物及含有該化合物之聚合起始劑、以及聚合性組合物
CN110515269A (zh) 感光树脂组合物及其制备方法、高分子膜及覆铜板
CN103309155B (zh) 着色固化性树脂组合物
CN110419001A (zh) 感光性树脂组合物、感光性树脂组合物膜、绝缘膜及电子部件
CN109689697A (zh) 着色树脂组合物、固化物及图像显示装置
CN107976867A (zh) 感光性组合物及固化膜的形成方法
CN103309158A (zh) 滤色器用着色树脂组合物、滤色器、液晶显示装置及有机el显示装置
CN107817649A (zh) 感光性树脂组合物、聚酰胺树脂及其制造方法、化合物及其制造方法、固化膜及其制造方法
CN107976866A (zh) 感光性组合物、感光性组合物的制造方法、光聚合引发剂、及光聚合引发剂的制备方法
JP7043977B2 (ja) カラーフィルタ用赤色着色組成物、及びカラーフィルタ
CN107783373A (zh) 着色固化性树脂组合物、滤色器和显示装置
CN108473611A (zh) 感光性组合物
CN107614477A (zh) 新型化合物、潜伏性添加剂和含有该添加剂的组合物

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant