CN107793028B - 一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品及制备工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及陶瓷制造技术领域，具体涉及一种一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品及制备工艺。该种一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品，包括陶瓷坯体，陶瓷坯体上设有凸出于陶瓷坯体的釉浮雕层，所述釉浮雕层组成包括陶瓷坯体、长石、石英、高岭土、蛙目土、锂辉石、二氧化钛、氧化锆、色料，其中陶瓷坯体与陶瓷坯体的组分相同。本发明提供的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品及制备工艺，通过浮雕釉在陶瓷表面形成凸起的浮雕造型，釉浮雕造型一次烧成，成本低、生产效率高；釉浮层与陶瓷坯体结合紧密，牢固，浮雕效果立体感强。

Description

一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品及制备工艺
技术领域
本发明涉及陶瓷制造技术领域，具体涉及一种一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品及制备工艺。
背景技术
传统的陶瓷釉面，其图案平滑，缺乏立体感；而通常采用手工或机械方法在陶瓷坯体上加工浮雕形状，再施釉，釉烧形成有立体浮雕的陶瓷，但这种做法工艺复杂，加工成本高。改变传统浮雕的加工方法，提供一种高效、成本低的浮雕的加工方法是陶瓷生产企业所关注的问题，如申请号为03114204.4的发明专利申请公开了一种在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法及其所使用的花纸涂料，使用该种方法制作存在如下问题：一是制作凸起的浮雕造型时，则需将陶瓷的大部分表面都贴上花纸，才能实现将纹路凸出陶瓷表面，生产成本高、工艺难度大；二是花纸表面的涂料与不同陶瓷坯体的结合程度肯定不同，适用性差，容易导致浮雕脱落、结合不紧密；三是印刷的花纸需要排膜、施釉、再釉烧，后施釉的方式容易影响浮雕图案的纹路，对细小的纹路表达不清晰。
为了解决上述问题，本案申请人发明了一种具有浅浮雕图案的陶瓷制品及制备工艺(申请号为：CN201611192478.4)该种方法制备的浅浮雕图案的陶瓷制品上依次设有底层釉和浅浮雕釉层，该种陶瓷制品制作时需将吸水介质浸入浅浮雕釉浆中，再将吸收浅浮雕釉浆的浮雕吸水介质固定于陶瓷坯体上。该种具有浅浮雕图案的陶瓷，制方法尤其适合对浅浮雕图案有精细要求的陶瓷制品，随着市场的变化，继续一种生产效率快的浮雕陶瓷制品。
发明内容
为克服现有技术中的不足，本发明提供一种一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品及制备工艺。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品，包括陶瓷坯体，其特征在于，陶瓷坯体上设有凸出于陶瓷坯体的釉浮雕层，所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体30-35份、长石25-30份、石英10-15份、高岭土10-15份、蛙目土5-10份、锂辉石5-10份、二氧化钛0.5-1份、氧化锆0.5-1份、色料0-5份，其中陶瓷坯体与陶瓷坯体的组分相同。
优化的，釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体33份、长石28份、石英12份、高岭土11份、蛙目土6份、锂辉石8份、二氧化钛1份、氧化锆1份。
优化的，釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体31份、长石26份、石英13份、高岭土13份、蛙目土8份、锂辉石6份、二氧化钛0.5份、氧化锆0.5份、色料2份。
优化的，釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体34份、长石29份、石英11份、高岭土12份、蛙目土6份、锂辉石5份、二氧化钛0.5份、氧化锆0.5份、色料2份。
一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制作工艺，制备上述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品，具体步骤如下：
步骤一，制作陶瓷坯体，将陶瓷坯体素烧成型，制成陶瓷坯体；
步骤二，按照釉料原料配方称重配比，将陶瓷坯体、长石、石英、高岭土、蛙目土、锂辉石粉碎混合加入湿球磨机中均匀球磨；
步骤三，将混合球磨后的混合物中按照原料份数加入二氧化钛、氧化锆和色料；
步骤四，在陶瓷坯体上确定浮雕图案的轮廓，并在所需浮雕图案的轮廓处放空，而在轮廓以外的全部表面涂上憎水剂；
步骤五，待憎水剂干燥后，在步骤四所制得的陶瓷坯体上施釉，使浮雕图案的轮廓充分吸收浅浮雕釉浆，并形成一定的厚度；
步骤六，等待陶瓷坯体干燥后入窑经烧制成型，烧制温度为1310-1320℃，获得一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品。
进一步的，步骤四中在陶瓷坯体所需浮雕图案的轮廓表面贴上防水纸，在将陶瓷坯体浸入憎水剂，待憎水剂干燥后揭去防水纸，在陶瓷坯体上形成防空的所图案轮廓。
进一步的，步骤五中浅浮雕釉浆的厚度为2-3mm。
进一步的，步骤五所述施釉分两次，第一次施釉采用浸釉工艺、第二次施釉采用高压喷釉或涂釉。
进一步的，步骤五所述浸釉时釉浆的波美计浓度为60-70°，喷釉或涂釉时釉浆的波美计浓度为40-50°。
进一步的，步骤六中的烧成时间为12-15小时。
由上述对本发明的描述可知，与现有技术相比，本发明提供的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品及制备工艺，通过浮雕釉在陶瓷表面形成凸起的浮雕造型，釉浮雕造型一次烧成，成本低、生产效率高；釉浮层与陶瓷坯体结合紧密，牢固，浮雕效果立体感强。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本发明作进一步的描述。
一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品，包括陶瓷坯体，其特征在于，陶瓷坯体上设有凸出于陶瓷坯体的釉浮雕层，所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体30-35份、长石25-30份、石英10-15份、高岭土10-15份、蛙目土5-10份、锂辉石5-10份、二氧化钛0.5-1份、氧化锆0.5-1份、色料0-5份。
一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制作工艺，制备上述的局部釉浮雕陶瓷制品，具体步骤如下：
步骤一，制作陶瓷坯体，将陶瓷坯体素烧成型，制成陶瓷坯体；
步骤二，按照釉料原料配方称重配比，将陶瓷坯体、长石、石英、高岭土、蛙目土、锂辉石粉碎混合加入湿球磨机中均匀球磨；
步骤三，将混合球磨后的混合物中按照原料份数加入二氧化钛、氧化锆和色料；
步骤四，在陶瓷坯体上确定浮雕图案的轮廓，并在所需浮雕图案的轮廓处放空，而在轮廓以外的全部表面涂上憎水剂，在陶瓷坯体所需浮雕图案的轮廓表面贴上防水纸，在将陶瓷坯体浸入憎水剂，待憎水剂干燥后揭去防水纸，在陶瓷坯体上形成防空的所图案轮廓；
步骤五，待憎水剂干燥后，在步骤四所制得的陶瓷坯体上施釉，使浮雕图案的轮廓充分吸收浅浮雕釉浆，并形成一定的厚度，浅浮雕釉浆的厚度为2-3mm，施釉分两次，第一次施釉采用浸釉工艺，浸釉时釉浆的波美计浓度为60-70°、第二次施釉采用高压喷釉或涂釉，喷釉或涂釉时釉浆的波美计浓度为40-50°；
步骤六，等待陶瓷坯体干燥后入窑经烧制成型，烧制温度为1310-1320℃，烧成时间为12-15小时，获得一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品。
具体实施例一：
一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品，其特征在于：所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体33份、长石28份、石英12份、高岭土11份、蛙目土6份、锂辉石8份、二氧化钛1份、氧化锆1份。
具体实施例二：
一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品，其特征在于：所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体31份、长石26份、石英13份、高岭土13份、蛙目土8份、锂辉石6份、二氧化钛0.5份、氧化锆0.5份、色料2份。
具体实施例三：
一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品，其特征在于：所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体34份、长石29份、石英11份、高岭土12份、蛙目土6份、锂辉石5份、二氧化钛0.5份、氧化锆0.5份、色料2份。
由上述对本发明的描述可知，与现有技术相比，本发明的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品及制备工艺，尤其适合制作陶瓷表面凸起的浮雕造型，具有如下有优点：一是使用特殊配制的浅浮雕釉，该浅浮雕釉可塑性好、易于成型，釉浆中引入了与陶瓷坯体的组分相同的素坯，使烧制出的浮雕纹理与陶瓷坯体结合紧密，牢固；二是制造艺难度低，成品率高；三是浅浮雕釉使用时吸附于吸水介质上，釉面纹路和浮雕厚度都可通过吸水介质的饱和度进行调整；四是即使是细小的纹路也能清晰的表达，而且可以通过后期修补，所制成的浮雕效果立体感强。
上述仅为本发明的若干具体实施方式，但本发明的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动，均应属于侵犯本发明保护范围的行为。

Claims (9)

1.一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备工艺，包括陶瓷坯体，其特征在于，陶瓷坯体上设有凸出于陶瓷坯体的釉浮雕层，所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体30-35份、长石25-30份、石英10-15份、高岭土10-15份、蛙目土5-10份、锂辉石5-10份、二氧化钛0.5-1份、氧化锆0.5-1份、色料0-5份；
具体步骤如下：
步骤一，制作陶瓷坯体，将陶瓷坯体素烧成型，制成陶瓷坯体；
步骤二，按照釉料原料配方称重配比，将陶瓷坯体、长石、石英、高岭土、蛙目土、锂辉石粉碎混合加入湿球磨机中均匀球磨；
步骤三，将混合球磨后的混合物中按照原料份数加入二氧化钛、氧化锆和色料；
步骤四，在陶瓷坯体上确定浮雕图案的轮廓，并在所需浮雕图案的轮廓处放空，而在轮廓以外的全部表面涂上憎水剂；
步骤五，待憎水剂干燥后，在步骤四所制得的陶瓷坯体上施釉，使浮雕图案的轮廓充分吸收浅浮雕釉浆，并形成一定的厚度；
步骤六，等待陶瓷坯体干燥后入窑经烧制成型，烧制温度为1310-1320℃，获得一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品。
2.根据权利要求1所述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备工艺，其特征在于：所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体33份、长石28份、石英12份、高岭土11份、蛙目土6份、锂辉石8份、二氧化钛1份、氧化锆1份。
3.根据权利要求1所述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备工艺，其特征在于：所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体31份、长石26份、石英13份、高岭土13份、蛙目土8份、锂辉石6份、二氧化钛0.5份、氧化锆0.5份、色料2份。
4.根据权利要求1所述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备工艺，其特征在于：所述釉浮雕层组成按照重量份计如下：陶瓷坯体34份、长石29份、石英11份、高岭土12份、蛙目土6份、锂辉石5份、二氧化钛0.5份、氧化锆0.5份、色料2份。
5.根据权利要求1所述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备 工艺，其特征在于：步骤四中在陶瓷坯体所需浮雕图案的轮廓表面贴上防水纸，将陶瓷坯体浸入憎水剂，待憎水剂干燥后揭去防水纸，在陶瓷坯体上形成放空的图案轮廓。
6.根据权利要求1所述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备 工艺，其特征在于：步骤五中浅浮雕釉浆的厚度为2-3mm。
7.根据权利要求1或6所述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备 工艺，其特征在于：步骤五所述施釉分两次，第一次施釉采用浸釉工艺、第二次施釉采用高压喷釉或涂釉。
8.根据权利要求7所述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备 工艺，其特征在于：步骤五所述浸釉时釉浆的波美计浓度为60-70°，喷釉或涂釉时釉浆的波美计浓度为40-50°。
9.根据权利要求1所述的一次烧成的局部釉浮雕陶瓷制品的制备 工艺，其特征在于：步骤六中的烧成时间为12-15小时。
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