CN107759195A - 一种青瓷及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种青瓷及其制备方法，采用矿物质原料和高分子材料制备胚料和釉料，所述胚料包括组分A、组分B及组分C,所述组分A包括按重量份数比计的白云石20‑30份、高铝矾土10‑20份；所述组分B包括按重量份数比计的菱镁石10‑20份；所述组分C包括按重量份数计的环氧树脂3‑5份、有机硅树脂3‑5份；所述釉料包括按重量份数比计的硅灰石10‑20份、白云母10‑15份；其制备方法包括胚料的浆料制备、釉料制备、胚体成型、素烧、上釉、釉烧。本发明的青瓷具有高强度、耐高温、耐腐蚀的优点，且本发明的制备方法成本低、成品率高、适合批量生产。

Description

一种青瓷及其制备方法
技术领域
本发明属于瓷器技术领域，尤其是涉及一种青瓷及其制备方法。
背景技术
龙泉青瓷是非常具有中国特色传统瓷器珍品，南北朝时期，浙江龙泉人利用当地优越的自然条件，制造青瓷，龙泉青瓷以其釉色青如玉、明如镜、声如磬而被誉为瓷苑的一颗明珠，受到世界各国青瓷爱好者喜爱。
然而目前的龙泉青瓷，在使用中极易磨损、破碎，另外制备青瓷的方法不仅成本高而且成品率低，不适合批量生产。
发明内容
本发明为了克服现有技术的不足，提供一种强度高、不易碎的青瓷；本发明还公开了一种该青瓷的制备方法，该制备方法具有生产成本低、成品率高、适合批量生产的优点。
为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种青瓷，采用矿物质原料和高分子材料制备胚料和釉料，所述胚料包括组分A、组分B及组分C,所述组分A包括按重量份数比计的白云石20-30份、高铝矾土10-20份；所述组分B包括按重量份数比计的菱镁石10-20份；所述组分C包括按重量份数计的环氧树脂3-5份、有机硅树脂3-5份；所述釉料包括按重量份数比计的硅灰石10-20份、白云母10-15份。
本发明通过在胚料中合理添加白云石、高铝矾土和菱镁石来调整镁铝比，进而提高了胎体的强度和韧性，使得胎体在使用中不易磨损、破碎，通过添加环氧树脂和有机硅树脂，在胚体成型过程中，两者的分子能在胎体颗粒之间相互架桥，进而形成网状结构，将胎体的颗粒紧紧包裹住，进而增强了胎体的整体稳定性；另外通过在釉料中合理加入硅灰石和白云母来调整铝硅比，使得产生出来的青瓷具有稳定性好、耐腐蚀、耐高温的优点。
进一步的，所述组分A还包括按重量份数比计的高岭土100-120 份、熟滑石10-20份；所述组分B还包括按重量份数比计的石英 40-50份、方解石40-50份；所述釉料还包括按重量份数比计的高岭土60-80份、黏土20-30份、石英30-40份、釉灰20-30份；所述组分C还包括按重量份数计的长链脂肪酸酯5-8份、聚乙烯蜡 8-12份、聚酰亚胺5-8份；长链脂肪酸酯、聚乙烯蜡、聚酰亚胺能和环氧树脂、有机硅树脂相配合达到一协调增效作用，进一步增强了胎体的整体稳定性。
本发明还提供了一种青瓷的制备方法，包括如下步骤：S1：组分A、组分B及组分C的制备；S2：胚料的浆料制备；S3：胚体成型；将S4制得的浆料通过注浆成型制得胚体，将胚体放置在通风的环境中晾干4-6天，期间保持温度20-28°；S4：胚体素烧：所述素烧包括第一阶段、第二阶段及第三阶段；所述第二阶段温度区间为200°-600°，期间升温速度为1-2°/min，窑内气压保持在 0.2-0.3MPa，升至600°时保温20-30分钟；S5：釉料的釉浆制备；S6：上釉；S7:釉烧：所述釉烧包括第一、第二、第三、第四及第五阶段，所述第三阶段温度区间为950°-1000°，期间升温速度 0.5-1°/min，窑内气压为0.3-0.5MPa，升温至1000°时保温1.5-2 个小时。
本发明的制备方法使得胚体的各种原料充分溶合在一起，进而烧结后的胚体结构更紧密、稳定，另外制备的釉浆细度适中、悬浮性好，烧结后的青瓷釉层厚度均匀、瓷质细腻，并且本制备方法成本低，适合企业批量生产，素烧的第二阶段温度区间设置为 200-600°，这一阶段坯体中固体颗粒的晶粒出现长大的现象，经无数次的试验后得知，当升温速度低于1°/min，窑内气压低于 0.2MPa时，素烧后的胚体结构致密性差，易磨损，成品率低；而当升温速度高于2°/min，窑内气压高于0.3MPa时，素烧后的胚体强度低，易破碎；只有当升温速度控制在1-2°/min，窑内气压保持在0.2-0.3MPa时，固体颗粒的晶粒能够均匀生长，晶体缺陷少，素烧后的胚体结构致密性好、强度高、不易破碎；釉烧的第三阶段温度区间为950°-1000°，窑内气压控制在一较高的值，不仅利于釉层中的物质发生氧化还利于碳酸盐分解，另外由于升温速度较慢，利于釉层中各种固体颗粒晶粒均匀生长，进而利于晶型的转变，且经无数次的试验后得知，当窑内气压低于0.3MPa时，升温速度低于0.5/min时，釉烧后的青瓷瓷质粗糙，瓷层表面缺陷多；而当窑内气压高于0.5MPa时，升温速度高于1°/min时，釉烧后的青瓷瓷层表面斑点、针孔多，韧性差，易破碎，只有当气压控制在0.3-0.5MPa，升温速度控制在0.5-1°/min，釉烧后的青瓷瓷质细腻、光泽度高、强度高、不易破碎；升温至1000°时保温1.5-2个小时，利于釉层内气体的排出。
进一步的，所述S2步骤中胚料的浆料制备包括将组分A、组分 B及组分C按重量比10:5:1混合均匀，并加入适量的硅酸钠和水一起放入搅拌机中进行搅拌，从而得到胚料的浆料；通过将组分A、组分B、组分C、硅酸钠及水一起放入搅拌机中搅拌，使得制得的胚料浆料中各原料能够充分混合均匀，使得制得的胚体结构更紧密、稳定。
进一步的，所述S4中素烧第一阶段温度区间为常温-200°，升温速度为0.5-1°/min，升至200°时保温20-30分钟，期间保持向窑内通入干燥的氮气，烟囱开启最大抽力；第三阶段温度区间为600°-1000°，升温速度为2-3°/min；升至1000°后保温30-40 分钟后自然冷却；第一阶段升温速度较慢，且在升温期间向窑内通入干燥的氮气，加快了窑内的气体流通速度，利于胎体内水分的蒸发，温度升至200°时保温20-30分钟保证了胚体内的水分被充分蒸发完；第三阶段由600°升至1000°，这一阶段坯体中固体颗粒的晶粒长大速度较快，晶粒间的空隙和晶界渐趋减少，胚体整体结构更紧密，升至1000°后保温30-40分钟利于晶粒的完全长大，整个烧结过程完成，从而制得致密多晶的胚体。
进一步的，所述S5步骤中釉料的釉浆制备包括将干燥处理后的高岭土、黏土、石英、硅灰石、白云母、釉灰分别碾碎，然后一起放入球磨机中加水进行球磨，磨至料浆过400目筛后制得釉浆。
进一步的，所述S6步骤中釉烧的第一阶段温度区间为常温 -250°，升温速度为0.5-1°/min，升温过程中向窑中通入干燥的氮气并保持烟囱调至最大的抽力，升温至200°时保温1-1.5个小时；第二阶段温度区间为250°-950°，升温速度3-4°/min，升温至950°时保温1-1.5个小时；第四阶段温度区间为1000° -1200°，升温速度3-4°/min，升温至1200°时保温1-1.5个小时；第五阶段温度区间为1200°-1280°，升温速度0.5-1°/min，期间窑内气压控制在0.03-0.05MPa；升温至1280°时保温2-2.5 小时后自然冷却及可得到成品；第一阶段由常温升至250°，并向窑中通入干燥的氮气，加快了窑中的气体流通速度，进而利于胚体、釉层中水分的蒸发，另外氮气的通入还能抑制釉层过早发生氧化，由于这一区间温度较低且含有水分，釉层中各物质并不能同时发生氧化，而一旦某些区域的物质提前发生氧化，极易在釉的表面产生凹陷，进而影响产品的美观度，另外在200°保温1-1.5个小时，利于排出胚体和釉层上的水分；第二阶段升温速度较快，利于釉层内的结晶水蒸发；第四阶段温度区间为1000°-1200°，利于釉层中生成稳定的氧化物，如氧化铝、氧化镁等；第五阶段温度区间为1200°-1280°，窑内气压较小，利于釉层中的三价铁充分还原成二价铁。
进一步的，所述搅拌机包括罐体、设于所述罐体内的转轴、用于驱动所述转轴转动的驱动电机及设于所述转轴上的搅拌轮，所述转轴上设有振动机构；通过振动机构对浆料的振动作用，能够有效的排出浆料中的气泡，进而使得制备得到胚体结构更加致密，强度更好。
进一步的，所述振动机构包括搅拌轴、设于所述搅拌轴上的活动腔、一端活动穿设于所述活动腔内的振动轴及用于驱动所述振动轴左右动作的驱动件；所述搅拌轴通过限位结构对所述振动轴进行限位；当转轴旋转时，振动轴被全部容纳在活动腔内随着转轴一起转动，当转轴停止转动后，振动轴在驱动件的作用下部分移动至活动腔外并开始振动，此时浆料中的气泡在振动的作用下能被排出至浆料外，这就使得制备出来的胚体结构更加致密、稳定，强度更高，另外通过设置限位结构防止振动轴在随转轴转动过程中发生脱落，保证了振动轴能够正常工作。
进一步的，所述限位结构包括一端活动连接于所述活动腔内壁上的翻转杆、设于所述翻转杆与活动腔内壁之间的复位件、设于所述翻转杆上的卡部及设于所述振动轴上与该卡部相配合的卡槽；当振动轴在随转轴转动时，翻转杆在复位件的作用下能使得卡部卡入振动轴的卡槽内，进而对振动轴起到一限位作用，防止了振动轴在转动过程中脱离出活动腔外。
进一步的，所述驱动件包括气缸、与气缸活塞杆相连接的连接柱及一端与所述连接柱连接的缓冲件，所述缓冲件另一端与振动轴连接；所述活动腔内壁上连接有按压杆，所述按压杆一端与活动腔内壁活动连接，另一端与气缸活塞杆相配合，当气缸活塞杆向外伸出时，所述按压杆一侧与气缸活塞杆相抵触，另一侧与所述翻转杆相抵触；通过设置缓冲件减小了气缸在振动轴振动过程中受到的冲击力，延长了整个装置的使用寿命，且在活塞杆向外推动振动轴的过程中，活塞杆与按压杆一端相抵触并推动按压杆进行翻转，进而使得按压杆的另一端向下按压翻转杆，使得卡部从卡槽中退出，振动轴在气缸的作用下可部分移动至活动腔外，进而能对罐体中的浆料起到一振动作用。
综上所述，本发明通过合理的配制胚料和釉料，采用优良的制备方法使得生产出来的青瓷具有强度高、耐高温、耐腐蚀的优点，在使用中不易磨损，且该制备方法生产成本低，成品率高。
附图说明
图1为本发明中搅拌机的结构示意图。
图2为本发明中搅拌机的振动结构剖视图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好的理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。
实施例一
一种青瓷，采用矿物质原料和高分子材料制备胚料和釉料，所述胚料包括组分A、组分B及组分C，所述组分A中各原料重量份数比为：高岭土110份、熟滑石15份、白云石25份、高铝矾土15 份；所述组分B中各原料重量份数比为：石英40份、菱镁石10份、方解石40份，具体的，所述组分C各原料重量份数比为：长链脂肪酸酯5份、聚乙烯蜡8份、环氧树脂3份、有机硅树脂3份、聚酰亚胺5份；所述釉料各组分重量份数比为：高岭土60份、黏土 20份、石英30份、硅灰石10份、白云母10份、釉灰20份。
按上述的原料配比制备2000个青瓷碗，具体的制备方法包括如下步骤：S1：组分A、组分B及组分C的制备；S2：胚料的浆料制备；S3：胚体成型；S4：胚体素烧；S5：釉料的釉浆制备；S6：上釉；S7:釉烧。
具体的，所述S1步骤中组分A的制备包括将白云石、高铝矾土、高岭土及熟滑石分别进行烘干、碾碎，然后一起放入球磨机中进行球磨，磨至过500目筛；组分B的制备包括将石英、菱镁石及方解石分别进行烘干、碾碎，然后一起放入球磨机中进行球磨，磨至过500目筛；组分C的制备包括：将长链脂肪酸酯、聚乙烯蜡、环氧树脂、有机硅树脂、聚酰亚胺加水混合，并加热搅拌至溶解得到混合溶液，然后将混合溶液进行烘干、碾碎。
具体的，所述S2步骤中胚料的浆料制备包括将组分A、组分B 及组分C按重量比10:5:1混合均匀，并加入适量的硅酸钠和水一起放入搅拌机中进行搅拌，从而得到胚料的浆料，具体的，如图1-2 所示，所述搅拌机包括罐体1、转轴2、驱动电机3及设于所述转轴上的搅拌轮4，所述驱动电机为市场上购买的电机，该驱动电机安装在罐体的顶盖上，转轴2与驱动电机的输出轴固连，为了便于将浆料中的气泡排出来制得结构更致密、强度更好的胚体，在所述转轴上设有振动机构5，具体的，所述振动机构包括两搅拌轴6、活动腔61、振动轴7及用于驱动所述振动轴左右动作的驱动件8，具体的，两搅拌轴对称连接在转轴的左右两侧，所述活动腔设置在搅拌轴上，所述活动腔呈台阶状结构，包括与罐体内部空间相连通的第一圆柱形腔和与第一圆柱形腔相连通的第二圆柱形腔，且第二圆柱形腔的半径大于第一圆柱形腔的半径，所述振动轴内部安装有振动器，所述振动器为市场上直接购买的激振器，在此不做赘述，所述驱动件8包括气缸81、连接柱83、缓冲件84，具体的，所述气缸端部固定在第二圆柱形腔内壁上，连接柱与气缸的活塞杆82 固定连接，该连接柱的半径小于气缸活塞杆的半径，所述缓冲件为一减震弹簧，该减震弹簧一端与连接柱固连，另一端与振动轴固连，所述罐体外还设有控制该驱动电机、气缸及振动器工作状态的控制器，具体的，所述控制器为现有技术，如PLC或单片机，所述控制器控制驱动电机、气缸及振动器的工作原理也为现有技术，在此不做赘述，当转轴转动时，振动轴被容纳在容纳槽里并随转轴一起转动，完成一次搅拌作业后，通过控制器停止驱动电机工作，然后控制驱动气缸将振动轴部分推出至活动腔外，最后控制振动器开始振动，进而就能对浆料达到一振动作用，通过振动能够将浆料中存在的气泡排出，从而使得制得的胚体结构更加致密、稳定，强度更高。
为了保证振动轴在随转轴转动过程中不会从活动腔内脱离出来，所述搅拌轴通过限位结构对所述振动轴进行限位，具体的，所述限位结构包括两翻转杆9、两复位件10、分别设于所述两翻转杆上的卡部91及设于所述振动轴7上与两卡部相配合的两卡槽71；所述翻转杆9为一金属杆，两金属杆的右端分别通过铰链铰接在第二圆柱形腔侧壁上下部，所述卡部为固连在该金属杆上表面的一卡块，所述复位件为一压缩弹簧，该弹簧上端与金属杆左端下表面固连，下端与第二圆柱形腔底壁固连，当振动轴被容纳在容纳腔内并随转轴转动时，卡块在弹簧的作用下被挤压入卡槽内，进而能对振动轴起到一限位作用，防止振动轴在转动过程中从活动腔内脱离而出。
进一步的，所述活动腔内壁上设有两按压杆62，该按压杆由金属材料制成，两按压杆的左端分别通过铰链铰接在第二圆柱形腔的内壁的顶部和底部，当振动轴被完全收放在活动腔内时，按压杆右端在翻转杆的支撑作用下与连接柱的表面相接触，当气缸活塞杆向外运动并压缩复位件10时，活塞杆的前端与按压杆右端上表面相抵触，并向下挤压按压杆，从而使得按压杆右端下表面向下挤压翻转杆的左端，导致卡部从卡槽中脱离出来，进而振动轴在复位件10 的挤压力作用下能向活动腔外移动，优选的，两金属杆中间部分分别通过一弹簧621与第二圆柱形腔底壁连接，该弹簧始终处于压缩状态，通过弹簧621的设置能防止金属杆在随转轴转动时发生脱落。
为了防止浆料进入到振动轴与活动腔内壁之间的空隙内，在振动轴与活动腔内壁之间设有一环状的弹性防尘垫63，该防尘垫63 由橡胶材料制成，防尘垫的内壁与振动轴的外壁固连，防尘垫的外壁与活动腔的内壁固连。
具体的，所述S3步骤为将S2制得的浆料通过注浆成型制得胚体，然后将胚体放置在通风的环境中晾干4天，期间保持温度20°。
具体的，所述S4中素烧包括如下阶段：第一阶段：常温升至 200°，升温速度为0.5°/min，升至200°时保温20分钟，期间保持向窑内通入干燥的氮气，烟囱开启最大抽力；第二阶段：200°升至600°，升温速度为1°/min；升至600°时保温20分钟；第三阶段：600°升至1000°，升温速度为2°/min；升至1000°后保温30分钟后自然冷却。
具体的，所述S5步骤中釉料的釉浆制备包括将干燥处理后的高岭土、黏土、石英、硅灰石、白云母、釉灰分别碾碎，然后一起放入球磨机中加水进行球磨，磨至料浆过400目筛后制得釉浆。
具体的，所述S6步骤中釉烧包括如下阶段：第一阶段：常温升至250°，升温速度为0.5°/min，升温过程中向窑中通入干燥的氮气并保持烟囱调至最大的抽力，升温至200°时保温1个小时；第二阶段：250°升温至950°，升温速度3°/min，升温至950°时保温1个小时；第三阶段：950°升温至1000°，升温速度0.5° /min，升温至1000°时保温1.5个小时，期间窑内气压控制在 0.3MPa；第四阶段：1000°升温至1200°，升温速度3°/min，升温至1200°时保温1个小时；第五阶段：1200°升温至1280°，升温速度0.5°/min，期间窑内气压控制在0.03MPa；升温至1280°时保温2小时后自然冷却及可得到青瓷碗成品。
具体的，经本发明的制备方法制得的2000个青瓷碗中，18个碗出现明显的色差；22个碗表面出现层裂的现象；10个碗出现明显的变形；26个碗出现开裂现象；8个碗出现凹面现象，所以本实施例最终青瓷碗的成品率为95.8％，明显高于现有制备方法制备出来产品的成品率。
取100个上述合格的青瓷碗，并使用MMW-1立式万能摩擦磨损试验机对这100个青瓷碗进行磨损试验，通过计算试验数据得到所述100个青瓷碗的平均磨损率为1.75nm/min；另购买100个市场上的一般青瓷碗，使用同一个设备并采用相同的试验参数对这100个青瓷碗进行磨损试验，通过计算试验数据得到所述100个青瓷碗的平均磨损率为2.06nm/min，通过对比两组试验的平均磨损率可看出采用本发明的制备方法制备得到的青瓷碗磨损率明显小于市场上一般青瓷碗的磨损率，所以本发明的制备方法制备得到的青瓷碗耐磨性能更好。
具体的，本实施例中所使用的球磨机可直接在市场上购买得到，烟囱和窑都为现有技术，在此不做赘述。
实施例二
一种青瓷，采用矿物质原料和高分子材料制备胚料和釉料，所述胚料包括组分A、组分B及组分C，所述组分A中各原料重量份数比为：高岭土120份、熟滑石20份、白云石30份、高铝矾土20 份；所述组分B中各原料重量份数比为：石英50份、菱镁石20份、方解石50份、组分C10份，具体的，所述组分C各原料重量份数比为：长链脂肪酸酯8份、聚乙烯蜡12份、环氧树脂5份、有机硅树脂5份、聚酰亚胺8份；所述釉料各组分重量份数比为：高岭土80份、黏土30份、石英40份、硅灰石20份、白云母15份、釉灰30份。
按上述的原料配比制备2000个青瓷碗，具体的制备方法包括如下步骤：S1：组分A、组分B及组分C的制备；S2：胚料的浆料制备；S3：胚体成型；S4：胚体素烧；S5：釉料的釉浆制备；S6：上釉；S7:釉烧。
具体的，所述S1步骤中组分A的制备包括将白云石、高铝矾土、高岭土及熟滑石分别进行烘干、碾碎，然后一起放入球磨机中进行球磨，磨至过500目筛；组分B的制备包括将石英、菱镁石及方解石分别进行烘干、碾碎，然后一起放入球磨机中进行球磨，磨至过500目筛；组分C的制备包括：将长链脂肪酸酯、聚乙烯蜡、环氧树脂、有机硅树脂、聚酰亚胺加水混合，并加热搅拌至溶解得到混合溶液，然后将混合溶液进行烘干、碾碎。
具体的，所述S2步骤中胚料的浆料制备包括将组分A、组分B 及组分C按重量比10:5:1混合均匀，并加入适量的硅酸钠和水一起放入搅拌机中进行搅拌，从而得到胚料的浆料，具体的，所述搅拌机结构和实施例一相同，在此不做赘述。
具体的，所述S3步骤为将S2制得的浆料通过注浆成型制得胚体，然后将胚体放置在通风的环境中晾干5天，期间保持温度24°。
具体的，所述S4中素烧包括如下阶段：第一阶段：常温升至 200°，升温速度为1°/min，升至200°时保温30分钟，期间保持向窑内通入干燥的氮气，烟囱开启最大抽力；第二阶段：200°升至600°，升温速度为2°/min，升至600°时保温30分钟，期间窑内气压保持在0.3MPa；第二阶段：600°升至1000°，升温速度为3°/min；升至1000°后保温40分钟后自然冷却。
具体的，所述S5步骤中釉料的釉浆制备包括将干燥处理后的高岭土、黏土、石英、硅灰石、白云母、釉灰分别碾碎，然后一起放入球磨机中加水进行球磨，磨至料浆过400目筛后制得釉浆。
具体的，所述S6步骤中釉烧包括如下阶段：第一阶段：常温升至250°，升温速度为1°/min，升温过程中向窑中通入干燥的氮气并保持烟囱调至最大的抽力，升温至200°时保温1.5个小时；第二阶段：250°升温至950°，升温速度4°/min，升温至950°时保温1.5个小时；第三阶段：950°升温至1000°，升温速度1° /min，升温至1000°时保温2个小时，期间窑内气压控制在0.5MPa；第四阶段：1000°升温至1200°，升温速度4°/min，升温至1200°时保温1-1.5个小时；第五阶段：1200°升温至1280°，升温速度 1°/min，期间窑内气压控制在0.05MPa；升温至1280°时保温2.5 小时后自然冷却及可得到青瓷碗成品。
具体的，经本发明的制备方法制得的2000个青瓷碗中，12个碗出现明显的色差；16个碗表面出现层裂的现象；14个碗出现明显的变形；18个碗出现开裂现象；12个碗出现凹面现象，所以本实施例最终青瓷碗的成品率为96.4％，明显高于现有制备方法制备出来产品的成品率。
取100个上述合格的青瓷碗，并使用MMW-1立式万能摩擦磨损试验机对这100个青瓷碗进行磨损试验，通过计算试验数据得到所述100个青瓷碗的平均磨损率为1.82nm/min；另购买100个市场上的一般青瓷碗，使用同一个设备并采用相同的试验参数对这100个青瓷碗进行磨损试验，通过计算试验数据得到所述100个青瓷碗的平均磨损率为2.12nm/min，通过对比两组试验的平均磨损率可看出采用本发明的制备方法制备得到的青瓷碗磨损率明显小于市场上一般青瓷碗的磨损率，所以本发明的制备方法制备得到的青瓷碗耐磨性能更好。
具体的，本实施例中所使用的球磨机可直接在市场上购买得到，烟囱和窑都为现有技术，在此不做赘述。
实施例三
一种青瓷，采用矿物质原料和高分子材料制备胚料和釉料，所述胚料包括组分A、组分B及组分C，所述组分A中各原料重量份数比为：高岭土115份、熟滑石18份、白云石28份、高铝矾土16 份；所述组分B中各原料重量份数比为：石英45份、菱镁石16份、方解石44份，具体的，所述组分C各原料重量份数比为：长链脂肪酸酯7份、聚乙烯蜡9份、环氧树脂4份、有机硅树脂4份、聚酰亚胺7份；所述釉料各组分重量份数比为：高岭土66份、黏土 26份、石英35份、硅灰石18份、白云母12份、釉灰25份。
所述组分C各原料重量份数比为：长链脂肪酸酯7份、聚乙烯蜡9 份、环氧树脂4份、有机硅树脂4份、聚酰亚胺7份。
按上述的原料配比制备2000个青瓷碗，具体的制备方法包括如下步骤：S1：组分A、组分B及组分C的制备；S2：胚料的浆料制备；S3：胚体成型；S4：胚体素烧；S5：釉料的釉浆制备；S6：上釉；S7:釉烧。
具体的，所述S1步骤中组分A的制备包括将白云石、高铝矾土、高岭土及熟滑石分别进行烘干、碾碎，然后一起放入球磨机中进行球磨，磨至过500目筛；组分B的制备包括将石英、菱镁石及方解石分别进行烘干、碾碎，然后一起放入球磨机中进行球磨，磨至过500目筛；组分C的制备包括：将长链脂肪酸酯、聚乙烯蜡、环氧树脂、有机硅树脂、聚酰亚胺加水混合，并加热搅拌至溶解得到混合溶液，然后将混合溶液进行烘干、碾碎。
具体的，所述S2步骤中胚料的浆料制备包括将组分A、组分B 及组分C按重量比10:5:1混合均匀，并加入适量的硅酸钠和水一起放入搅拌机中进行搅拌，从而得到胚料的浆料，具体的，所述搅拌机结构和实施例一中相同，在此不做赘述。
具体的，所述S3步骤为将S2制得的浆料通过注浆成型制得胚体，然后将胚体放置在通风的环境中晾干8天，期间保持温度27°。
具体的，所述S4中素烧包括如下阶段：第一阶段：常温升至 200°，升温速度为0.8°/min，升至200°时保温25分钟，期间保持向窑内通入干燥的氮气，烟囱开启最大抽力；第二阶段：200°升至600°，升温速度为1.8°/min，升至600°时保温25分钟，期间窑内气压保持在0.25MPa；第二阶段：600°升至1000°，升温速度为2.5°/min；升至1000°后保温38分钟后自然冷却。
具体的，所述S5步骤中釉料的釉浆制备包括将干燥处理后的高岭土、黏土、石英、硅灰石、白云母、釉灰分别碾碎，然后一起放入球磨机中加水进行球磨，磨至料浆过400目筛后制得釉浆。
具体的，所述S6步骤中釉烧包括如下阶段：第一阶段：常温升至250°，升温速度为0.7°/min，升温过程中向窑中通入干燥的氮气并保持烟囱调至最大的抽力，升温至200°时保温1.2个小时；第二阶段：250°升温至950°，升温速度3.5°/min，升温至 950°时保温1.2个小时；第三阶段：950°升温至1000°，升温速度0.8°/min，升温至1000°时保温1.6个小时，期间窑内气压控制在0.35MPa；第四阶段：1000°升温至1200°，升温速度3.5° /min，升温至1200°时保温1.2个小时；第五阶段：1200°升温至 1280°，升温速度0.8°/min，期间窑内气压控制在0.04MPa；升温至1280°时保温2.2小时后自然冷却及可得到青瓷碗成品。
具体的，经本发明的制备方法制得的2000个青瓷碗中，8个碗出现明显的色差；12个碗表面出现层裂的现象；10个碗出现明显的变形；16个碗出现开裂现象；16个碗出现凹面现象，所以本实施例最终青瓷碗的成品率为96.9％，明显高于现有制备方法制备出来产品的成品率。
取100个上述合格的青瓷碗，并使用MMW-1立式万能摩擦磨损试验机对这100个青瓷碗进行磨损试验，通过计算试验数据得到所述100个青瓷碗的平均磨损率为1.71nm/min；另购买100个市场上的一般青瓷碗，使用同一个设备并采用相同的试验参数对这100个青瓷碗进行磨损试验，通过计算试验数据得到所述100个青瓷碗的平均磨损率为2.14nm/min，通过对比两组试验的平均磨损率可看出采用本发明的制备方法制备得到的青瓷碗磨损率明显小于市场上一般青瓷碗的磨损率，所以本发明的制备方法制备得到的青瓷碗耐磨性能更好。
具体的，本实施例中所使用的球磨机可直接在市场上购买得到，烟囱和窑都为现有技术，在此不做赘述。
显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

Claims (10)

1.一种青瓷，采用矿物质原料和高分子材料制备胚料和釉料，其特征在于：
所述胚料包括组分A、组分B及组分C,所述组分A包括按重量份数比计的白云石20-30份、高铝矾土10-20份；所述组分B包括按重量份数比计的菱镁石10-20份；所述组分C包括按重量份数计的环氧树脂3-5份、有机硅树脂3-5份；所述釉料包括按重量份数比计的硅灰石10-20份、白云母10-15份。
2.根据权利要求1所述的青瓷，其特征在于：所述组分A还包括按重量份数比计的高岭土100-120份、熟滑石10-20份；所述组分B还包括按重量份数比计的石英40-50份、方解石40-50份；所述釉料还包括按重量份数比计的高岭土60-80份、黏土20-30份、石英30-40份、釉灰20-30份；所述组分C还包括按重量份数计的长链脂肪酸酯5-8份、聚乙烯蜡8-12份、聚酰亚胺5-8份。
3.一种如权利要求1所述的青瓷的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
S1：组分A、组分B及组分C的制备；
S2：胚料的浆料制备；
S3：胚体成型；
S4：胚体素烧：所述素烧包括第一阶段、第二阶段及第三阶段；所述第二阶段温度区间为200°-600°，期间升温速度为1-2°/min，窑内气压保持在0.2-0.3MPa，升至600°时保温20-30分钟；
S5：釉料的釉浆制备；
S6：上釉；
S7:釉烧：所述釉烧包括第一、第二、第三、第四及第五阶段，所述第三阶段温度区间为950°-1000°，期间升温速度0.5-1°/min，窑内气压为0.3-0.5MPa，升温至1000°时保温1.5-2个小时。
4.根据权利要求3所述的青瓷的制备方法，其特征在于：所述S5步骤中胚料的浆料制备包括将组分A、组分B及组分C按重量比10:5:1混合均匀，并加入适量的硅酸钠和水一起放入搅拌机中进行搅拌，从而得到胚料的浆料。
5.根据权利要求3所述的青瓷的制备方法，其特征在于：所述S4中素烧第一阶段温度区间为常温-200°，升温速度为0.5-1°/min，升至200°时保温20-30分钟，期间保持向窑内通入干燥的氮气，烟囱开启最大抽力；第三阶段温度区间为600°-1000°，升温速度为2-3°/min；升至1000°后保温30-40分钟后自然冷却。
6.根据权利要求3所述的青瓷的制备方法，其特征在于：所述S6步骤中釉烧的第一阶段温度区间为常温-250°，升温速度为0.5-1°/min，升温过程中向窑中通入干燥的氮气并保持烟囱调至最大的抽力，升温至200°时保温1-1.5个小时；第二阶段温度区间为250°-950°，升温速度3-4°/min，升温至950°时保温1-1.5个小时；第四阶段温度区间为1000°-1200°，升温速度3-4°/min，升温至1200°时保温1-1.5个小时；第五阶段温度区间为1200°-1280°，升温速度0.5-1°/min，期间窑内气压控制在0.03-0.05MPa；升温至1280°时保温2-2.5小时后自然冷却及可得到成品。
7.根据权利要求4所述的青瓷的制备方法，其特征在于：所述搅拌机包括罐体(1)、设于所述罐体内的转轴(2)、用于驱动所述转轴转动的驱动电机(3)及设于所述转轴上的搅拌轮(4)，所述转轴上设有振动机构(5)。
8.根据权利要求7所述的青瓷的制备方法，其特征在于：所述振动机构包括搅拌轴(6)、设于所述搅拌轴上的活动腔(61)、一端活动穿设于所述活动腔内的振动轴(7)及用于驱动所述振动轴左右动作的驱动件(8)；所述搅拌轴通过限位结构对所述振动轴进行限位。
9.根据权利要求8所述的青瓷的制备方法，其特征在于：所述限位结构包括一端活动连接于所述活动腔内壁上的翻转杆(9)、设于所述翻转杆与活动腔内壁之间的复位件(10)、设于所述翻转杆上的卡部(91)及设于所述振动轴(7)上与该卡部相配合的卡槽(71)。
10.根据权利要求9所述的青瓷的制备方法，其特征在于：所述驱动件(8)包括气缸(81)、与气缸活塞杆(82)相连接的连接柱(83)及一端与所述连接柱连接的缓冲件(84)，所述缓冲件另一端与振动轴(7)连接；所述活动腔内壁上连接有按压杆(62)，所述按压杆一端与活动腔内壁活动连接，另一端与气缸活塞杆相配合，当气缸活塞杆向外伸出时，所述按压杆一侧与气缸活塞杆(82)相抵触，另一侧与所述翻转杆(9)相抵触。
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