CN107713776A

CN107713776A - 生产微晶玻璃烤盘的方法

Info

Publication number: CN107713776A
Application number: CN201710912555.7A
Authority: CN
Inventors: 陈仲樑
Original assignee: Foshan Mankai Sheng Technology Co Ltd
Current assignee: Foshan Mankai Sheng Technology Co Ltd
Priority date: 2017-09-29
Filing date: 2017-09-29
Publication date: 2018-02-23

Abstract

本发明揭示了生产微晶玻璃烤盘的方法，包括步骤1，添加玻璃基材至窑炉滚道内的烤盘模具；步骤2，调节步骤1中窑炉滚道内的温度至800～850度，玻璃基材软化；步骤3，步骤2中软化的玻璃于步骤1中的烤盘模具内热弯成型；步骤4，逐步增加步骤2中窑炉滚道内的温度至851～1000度，并保持30～50分钟，步骤3中的成型玻璃于烤盘模具内晶化；步骤5，同步移出步骤4中的晶化玻璃以及烤盘模具，并使用常温气流降温；步骤6，步骤5中的晶化玻璃与烤盘模具脱离。本申请的发明生产出来的微晶玻璃烤盘轻便、耐高温、耐酸耐碱好、无需镀层也不会生锈，更好的保护环境以及人体的健康。

Description

生产微晶玻璃烤盘的方法

技术领域

本发明涉及生产微晶玻璃技术领域，具体的涉及一种生产微晶玻璃烤盘的方法。

背景技术

现代生活中，烤盘的使用越来越频繁，而现有的烤盘普遍采用金属材料压铸而成并镀上涂层让烤盘在使用过程中不生锈以及粘黏食物，或者采用石料制作成烤盘，但金属烤盘的镀层在高温使用时会析出对人体有害物质，石料烤盘较为笨重而且传热效率低，无法满足人们对高品质烤盘的需求。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供两种生产微晶玻璃烤盘的方法。

一种生产微晶玻璃烤盘的方法，包括以下步骤：

步骤1：添加玻璃基材至窑炉滚道内的烤盘模具；

步骤2：调节步骤1中窑炉滚道内的温度至800～850度，玻璃基材软化；

步骤3：步骤2中软化的玻璃于步骤1中的烤盘模具内热弯成型；

步骤4：逐步增加步骤2中窑炉滚道内的温度至851～1000度，并保持30～50 分钟，步骤3中的成型玻璃于烤盘模具内晶化；

步骤5：同步移出步骤4中的晶化玻璃以及烤盘模具，并使用常温气流降温；

步骤6：步骤5中的晶化玻璃与烤盘模具脱离。

根据本发明一实施方式，步骤3中的烤盘模具包括以下重量份数的原料：镍40份、铬35份以及铁40～45份。

根据本发明一实施方式，步骤3中的烤盘模具为矩形凹槽或者圆形凹槽。

根据本发明一实施方式，步骤4中的窑炉滚道内的温度以8～15度每分钟的速度逐步增加。

根据本发明一实施方式，步骤3中软化玻璃在真空压力的作用下于烤盘模具内热弯成型。

另一种生产微晶玻璃烤盘的方法，包括以下步骤：

步骤1：添加玻璃基材至第一段窑炉滚道内的烤盘模具；

步骤2：调节步骤1中第一段窑炉滚道内的温度至800～850度，玻璃基材软化；

步骤3：步骤2中软化的玻璃于步骤1中的烤盘模具内压制成型；

步骤4：调节第一段窑炉滚道内的温度至600～700度，步骤3中的成型的玻璃硬化；

步骤5：加热第二段窑炉滚道内的温度至851～1000度；

步骤6：步骤4中的硬化玻璃与烤盘模具脱离，并移动硬化玻璃至步骤5 中的第二段窑炉滚道内，并保持45～180分钟，硬化玻璃于步骤5中第二段窑炉滚道内晶化；

步骤7：移出步骤6中的晶化玻璃，并使用常温气流降温。

根据本发明一实施方式，步骤3中的烤盘模具包括以下重量份数的原料：镍35份、铬40份以及铁40～45份。

根据本发明一实施方式，步骤3中的软化玻璃通过与烤盘模具对应的压铸件于烤盘模具内压制成型。

同现有技术相比，本申请的生产微晶玻璃烤盘的方法的有益效果在于：利用此种方法生产出来的微晶玻璃烤盘轻便、耐高温、耐酸耐碱好、无需镀层也不会生锈，更好的保护环境以及人体的健康。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1为实施例一中生产微晶玻璃烤盘的流程图；

图2为实施例二中生产微晶玻璃烤盘的流程图。

具体实施方式

以下将以图式揭露本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明的部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单的示意的方式绘示之。

需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，并非特别指称次序或顺位的意思，亦非用以限定本发明，其仅仅是为了区别以相同技术用语描述的组件或操作而已，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

为能进一步了解本发明的内容、特点及功效，兹例举以下二个实施例，并配合附图详细说明如下：

实施例一：

参照图1和图2，图1为实施例一中生产微晶玻璃烤盘的流程图，图2为实施例一中微晶玻璃烤盘主要性能表；本实施例中生产微晶玻璃烤盘的方法，包括以下步骤：步骤1，添加玻璃基材至窑炉滚道内的烤盘模具；烤盘模具置于窑炉的滚道内，普通钢制的烤盘模具膨胀系数较高，在后面微晶烤盘脱模时会在玻璃上呈现痕迹，为克服这一缺陷，本实施例中的烤盘模具包括以下主要重量份数的原料：镍40份、铬35份以及铁40～45份，以此制成的烤盘模具，其膨胀系数小，不会在加热高温以及冷却降温时出现较大形变，于烤盘模具内成型的微晶烤盘不会出现烤盘模具的痕迹，玻璃基材是用普通玻璃切割制成矩形或者圆形的玻璃板，烤盘模具对应玻璃板为底面形状为矩形或者圆形的凹槽，且凹槽的底面四边以及槽口的四边均为光滑的弧形边，矩形的玻璃板对应放置于底面相应为矩形的凹槽烤盘模具的槽口上，且玻璃板的矩形边长大于凹槽底面的边长，圆形的玻璃板对应放置于底面相应为圆形的凹槽烤盘模具的槽口上，且玻璃板的圆形直径大于凹槽底面的直径，在烤盘模具的凹槽底面的下方还设有真空泵，真空泵的输出端与凹槽底面连通；步骤2，调节步骤1中窑炉滚道内的温度至800～850度，玻璃软化，玻璃具有软化点，根据玻璃板的厚度不同其软化点略有不同，窑炉滚道内的温度在 800～850区间内玻璃板软化，软化的玻璃具有可塑性；步骤3，步骤2中软化的玻璃于步骤1中的烤盘模具内热弯成型，在玻璃板软化后，位于烤盘模具凹槽底面下方的真空泵吸空凹槽内的空气，烤盘模具凹槽外的大气压大于凹槽内的气压形成气压差，烤盘模具外部的大气压按压软化玻璃陷入烤盘模具内并成型为凹槽状的玻璃板；步骤4，以8～15度每分钟的速度逐步增加步骤 2中窑炉滚道内的温度从800～850度至851～1000度，并保持30～50分钟，在 851～1000度的温度下玻璃分子的晶体会重组形成有序排列组合，凹槽状的玻璃板在30～50分钟的时间内逐渐完全晶化，转变为微晶玻璃凹槽板；步骤5，同步移出步骤4中的微晶玻璃凹槽板以及烤盘模具，并提供外部的常温气流对两者进行降温并达到常温；步骤6：步骤5中的微晶玻璃凹槽板与烤盘模具脱离，微晶玻璃与烤盘模具为两种完全不同的材质，可以轻松分离开来，获得的微晶玻璃凹槽板即是微晶玻璃烧烤盘。

利用上述实施例生产出来的微晶玻璃烧烤烤盘主要性能指标如下表所示：

项目	单位	检测结果
			耐热冲击强度温差	摄氏度	560
机械冲击强度	焦耳	0.5

实施例二：

参照图1和图2，图1为实施例一中生产微晶玻璃烤盘的流程图，图2为实施例一中微晶玻璃烤盘主要性能表；本实施例中的生产微晶玻璃烤盘的方法，包括以下步骤：步骤1，添加玻璃基材至第一段窑炉滚道内的烤盘模具，烤盘模具置于第一窑炉的滚道内，普通钢制的烤盘模具膨胀系数较高，在后面微晶烤盘脱模时会在玻璃上呈现痕迹，为克服这一缺陷，本实施例中的烤盘模具包括以下主要重量份数的原料：镍35份、铬40份以及铁40～45份，以此制成的烤盘模具，其膨胀系数小，不会在加热高温以及冷却降温时出现较大形变，于烤盘模具内成型的微晶烤盘不会出现烤盘模具的痕迹，玻璃基材是用普通玻璃切割制成矩形或者圆形的玻璃板，烤盘模具对应玻璃板为底面形状为矩形或者圆形的凹槽，且凹槽的底面四边以及槽口的四边均为光滑的弧形边，矩形的玻璃板对应放置于底面相应为矩形的凹槽烤盘模具的槽口

利用上述实施例生产出来的微晶玻璃烧烤烤盘主要性能指标与实施例一种一致。

综上同现有技术相比，本申请的生产微晶玻璃烤盘的方法的有益效果在于：利用此种方法生产出来的微晶玻璃烤盘轻便、耐高温、耐酸耐碱好、无需镀层也不会生锈，更好的保护环境以及人体的健康。

上所述仅为本发明的实施方式而已，并不用于限制本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原理的内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包括在本发明的权利要求范围之内。

Claims

1.一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：添加玻璃基材至窑炉滚道内的烤盘模具；

步骤2：调节所述步骤1中窑炉滚道内的温度至800～850度，玻璃基材软化；

步骤3：所述步骤2中软化的玻璃于所述步骤1中的烤盘模具内热弯成型；

步骤4：逐步增加所述步骤2中窑炉滚道内的温度至851～1000度，并保持30～50分钟，所述步骤3中的成型玻璃于烤盘模具内晶化；

步骤5：同步移出所述步骤4中的晶化玻璃以及烤盘模具，并使用常温气流降温；

步骤6：所述步骤5中的晶化玻璃与烤盘模具脱离。

2.根据权利要求1所述的一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，所述步骤3中的烤盘模具包括以下重量份数的原料：镍40份、铬35份以及铁40～45份。

3.根据权利要求1所述的一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，所述步骤3中的烤盘模具为矩形凹槽或者圆形凹槽。

4.根据权利要求1所述的一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，所述步骤4中的窑炉滚道内的温度以8～15度每分钟的速度逐步增加。

5.根据权利要求1所述的一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，所述步骤3中软化玻璃在真空压力的作用下于烤盘模具内热弯成型。

6.一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：添加玻璃基材至第一段窑炉滚道内的烤盘模具；

步骤2：调节所述步骤1中第一段窑炉滚道内的温度至800～850度，玻璃基材软化；

步骤3：所述步骤2中软化的玻璃于所述步骤1中的烤盘模具内压制成型；

步骤4：调节第一段窑炉滚道内的温度至600～700度，所述步骤3中的成型的玻璃硬化；

步骤5：加热第二段窑炉滚道内的温度至851～1000度；

步骤6：所述步骤4中的硬化玻璃与烤盘模具脱离，并移动硬化玻璃至所述

步骤5中的第二段窑炉滚道内，并保持45～180分钟，硬化玻璃于所述步骤5中第二段窑炉滚道内晶化；

步骤7：移出所述步骤6中的晶化玻璃，并使用常温气流降温。

7.根据权利要求6所述的一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，所述步骤3中的烤盘模具包括以下重量份数的原料：镍35份、铬40份以及铁40～45份。

8.根据权利要求6所述的一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，所述步骤3中的烤盘模具为矩形凹槽或者圆形凹槽。

9.根据权利要求6所述的一种生产微晶玻璃烤盘的方法，其特征在于，所述步骤3中的软化玻璃通过与烤盘模具对应的压铸件于烤盘模具内压制成型。