CN107694791A - 坩埚喷涂方法及系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种坩埚喷涂方法及系统，方法包括：查询本地存储的预设成分及对应的预设量，预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，并将预设成分和对应的预设量发送至喷枪，以得到氮化硅浆料；获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断当前温度是否大于预设温度；若是，则查询本地存储的喷洒数据，并根据喷洒数据对喷枪进行对应调节；查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据预设喷洒轨迹控制喷枪依序对待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒。本发明通过对当前温度的判断、喷洒数据的查询和预设轨迹的查询设计，以使自动控制喷枪对待喷涂坩埚进行氮化硅浆料的喷涂，进而对氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，提高了硅锭的生产品质。

Description

坩埚喷涂方法及系统

技术领域

本发明涉及坩埚技术领域，特别涉及一种坩埚喷涂方法及系统。

背景技术

光伏行业中，尤其是在太阳能电池硅片制造领域中，在进行硅锭铸造时，每天都需要使用大量的坩埚，而在坩埚的使用前都必须对其表面进行喷涂处理，通过对坩埚喷涂氮化硅涂层以阻隔硅锭和坩埚在铸锭过程中发生反应，以达到降低氧含量、降低粘埚率和提高硅锭品质的效果。

现有的坩埚喷涂方法采用的是人工手动喷涂的方式，通过工作人员手动的抓取喷枪后对待喷涂的坩埚进行氮化硅涂层的喷涂操作。

现有的坩埚喷涂方法中由于采用人工手动喷涂的方式使得喷涂的氮化硅涂层的均匀性，致密性和牢固性难以保证，进而影响了硅锭品质，且工作人员长期处在喷涂环境中对其身体健康不益。

发明内容

基于此，本发明实施例的目的在于提供一种通过系统控制喷枪自动进行坩埚喷涂的坩埚喷涂方法及系统。

一种坩埚喷涂方法，所述方法包括：

查询本地存储的预设成分及所述预设成分分别对应的预设量，所述预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，并将所述预设成分和对应的所述预设量发送至喷枪，以控制所述喷枪进行所述预设成分的获取和搅拌，得到氮化硅浆料；

获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度；

若是，则查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节；

查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒；

获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度；

若是，则查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节；

查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒。

上述坩埚喷涂方法，通过判断所述当前温度是否大于所述预设温度的设计，以防止在所述待喷涂坩埚温度过低时对其喷涂所述氮化硅浆料，防止了喷涂上去的所述氮化硅浆料出现分层的现象，进而防止所述待喷涂坩埚表面上出现粘埚的现象，通过查询所述喷洒数据后，控制所述喷枪进行对应的数据调节，以使将所述喷枪的当前喷洒状态调节为最佳状态，进而提高了喷涂效率且对所述喷枪喷涂出的所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，通过查询所述预设喷洒轨迹的设计，以使控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧边进行喷涂，进而降低了所述待喷涂坩埚的粘埚率，提高了所述待喷涂坩埚铸造出的硅锭的品质，上述坩埚喷涂方法通过对所述当前温度的判断、所述喷洒数据的查询和所述预设轨迹的查询设计，以使自动控制所述喷枪对所述待喷涂坩埚进行所述氮化硅浆料的喷涂，进而对所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，提高了硅锭的生产品质，且由于无需采用人工喷涂的方式防止了对工作人员的健康造成影响。

进一步地，所述则查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节的步骤包括：

查询预设喷枪流量值，并根据所述预设喷枪流量值调节所述喷枪的喷洒流量值；

查询预设喷枪雾形值，并根据所述预设喷枪雾形值调节所述喷枪的喷洒雾形值；

查询预设喷枪雾化值，并根据所述预设喷枪雾化值调节所述喷枪的喷洒雾化值。

进一步地，所述方法还包括：

获取所述喷枪的当前喷涂次数，并判断所述当前喷涂次数是否大于预设次数；

若是，则分别获取所述喷枪的当前流量值、当前雾形值和当前雾化值，并分别判断所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值是否在对应的预设范围值内；

当判断到所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值中至少有一个值不在对应的所述预设范围值内时，重新根据所述喷洒数据对所述喷枪进行对应调节，并对所述喷枪进行清洗，将所述当前喷涂次数清零。

进一步地，所述硅溶胶体对应的所述预设量为300g至500g，所述氮化硅粉对应的所述预设量为600g至900g，所述纯水对应的所述预设量为1700ml至2200ml，所述当前流量值对应的所述预设范围值为30ml至70ml、所述当前雾形值对应的所述预设范围值为20cm至35cm，所述当前雾化值对应的所述预设范围值为5cm至10cm。

进一步地，所述方法还包括：

查询所述喷枪内所述氮化硅浆料的当前剩余容量，并判断所述当前剩余容量是否小于预设容量；

若是，则发出提示报警。

一种坩埚喷涂系统，包括控制模块和分别与所述控制模块电性连接的驱动模块和喷枪，所述控制模块包括：

配置模块，用于查询本地存储的预设成分及所述预设成分分别对应的预设量，所述预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，并将所述预设成分和对应的所述预设量发送至喷枪，以控制所述喷枪进行所述预设成分的获取和搅拌，得到氮化硅浆料；

第一判断模块，用于获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度；

第一调节模块，用于当所述第一判断模块判断到所述当前温度大于所述预设温度时，查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节；

查询模块，用于查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒。

上述机器人，通过所述第一判断模块的设计，以防止在所述待喷涂坩埚温度过低时对其喷涂所述氮化硅浆料，防止了喷涂上去的所述氮化硅浆料出现分层的现象，进而防止所述待喷涂坩埚表面上出现粘埚的现象，通过所述第一调节模块的设计，以控制对所述喷枪进行对应的数据调节，以使将所述喷枪的当前喷洒状态调节为最佳状态，进而提高了所述喷枪的喷涂效率且对所述喷枪喷涂出的所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，通过所述查询模块的设计，以使控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧边进行喷涂，进而降低了所述待喷涂坩埚的粘埚率，提高了所述待喷涂坩埚铸造出的硅锭的品质，上述坩埚喷涂系统通过对所述当前温度的判断、所述喷洒数据的查询和所述预设轨迹的查询设计，以使自动控制所述喷枪对所述待喷涂坩埚进行所述氮化硅浆料的喷涂，进而对所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，提高了硅锭的生产品质，且由于无需采用人工喷涂的方式防止了对工作人员的健康造成影响。

进一步地，所述第一调节模块包括：

第一子调节模块，用于查询预设喷枪流量值，并根据所述预设喷枪流量值调节所述喷枪的喷洒流量值；

第二子调节模块，用于查询预设喷枪雾形值，并根据所述预设喷枪雾形值调节所述喷枪的喷洒雾形值；

第三子调节模块，查询预设喷枪雾化值，并根据所述预设喷枪雾化值调节所述喷枪的喷洒雾化值。

进一步地，所述控制模块还包括：

第二判断模块，用于获取所述喷枪的当前喷涂次数，并判断所述当前喷涂次数是否大于预设次数；

第三判断模块，用于当所述第二判断模块判断到所述当前喷涂次数大于所述预设次数时，分别获取所述喷枪的当前流量值、当前雾形值和当前雾化值，并分别判断所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值是否在对应的预设范围值内；

第二调节模块，用于当所述第三判断模块判断到所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值中至少有一个值不在对应的所述预设范围值内时，重新根据所述喷洒数据对所述喷枪进行对应调节，并对所述喷枪进行清洗，将所述当前喷涂次数清零。

进一步地，所述控制模块还包括：

第四判断模块，用于查询所述喷枪内所述氮化硅浆料的当前剩余容量的当前剩余容量，并判断所述当前剩余容量是否小于预设容量；

报警模块，用于当所述第四判断模块判断到所述当前剩余容量小于所述预设容量时，发出提示报警。

附图说明

图1为本发明第一实施例提供的坩埚喷涂方法的流程图；

图2为本发明第二实施例提供的坩埚喷涂方法的流程图；

图3为本发明第三实施例提供的坩埚喷涂系统的结构示意图；

图4为本发明第四实施例提供的坩埚喷涂系统的结构示意图；

主要元素符号说明

坩埚喷涂系统	100，100a	喷枪	10
				驱动模块	20	控制模块	30，30a
配置模块	31	第一判断模块	32
				第一调节模块	33	第一子调节模块	331
第二子调节模块	332	第三子调节模块	333
				查询模块	34	第二判断模块	35
第三判断模块	36	第二调节模块	37
				第四判断模块	38	报警模块	39

具体实施方式

为了便于更好地理解本发明，下面将结合相关实施例附图对本发明进行进一步地解释。附图中给出了本发明的实施例，但本发明并不仅限于上述的优选实施例。相反，提供这些实施例的目的是为了使本发明的公开面更加得充分。

请参阅图1，为本发明第一实施例提供的坩埚喷涂方法的流程图，包括步骤S10至S40。

步骤S10，查询本地存储的预设成分及所述预设成分分别对应的预设量，并将所述预设成分和对应的所述预设量发送至喷枪，以控制所述喷枪进行所述预设成分的获取和搅拌，得到氮化硅浆料；

其中，所述预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，本实施例中所述硅溶胶体对应的所述预设量为300g至500g之间，所述氮化硅粉对应的所述预设量为600g至900g之间，所述纯水对应的所述预设量为1700ml至2200ml之间，并在进行所述氮化硅浆料制备的过程中时刻伴随着搅拌，所述氮化硅浆料用于阻隔硅锭和坩埚在铸锭过程中发生反应，降低氧含量，降低粘埚率，提高硅锭品质，当将所述预设成分和对应的所述预设量发送至所述喷枪时，控制所述喷枪末端的容器内的电磁阀打开，以进行所述预设成分的获取，并将所述预设成本输送至搅拌容器进行搅拌，以得到所述氮化硅浆料。

步骤S20，获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度；

其中，所述预设温度为70℃，即当检测到所述当前温度大于70℃时才会进行后续的步骤。

当所述步骤S20判断到所述当前温度大于预设温度时，执行步骤S30。

步骤S30，查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节；

其中，本地预先存储有工作人员设置好的所述喷洒数据，通过所述喷洒数据的查询，以使将所述喷枪的当前喷洒状态调节为最佳状态，进而提高了喷涂效率且对所述喷枪喷涂出的所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障。

步骤S40，查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒；

其中，本地预先存储有工作人员设置好的运行轨迹，所述运行轨迹为往复运动、圆弧运行或直线运动等轨迹，通过所述预设喷洒轨迹的查询，以使控制所述喷枪进行移动喷洒，且通过先对所述待喷涂坩埚的底部喷洒后对侧部进行喷洒的设计，以使降低了所述待喷涂坩埚的粘埚率，提高了喷涂效率。

本实施例的坩埚喷涂方法，通过判断所述当前温度是否大于所述预设温度的设计，以防止在所述待喷涂坩埚温度过低时对其喷涂所述氮化硅浆料，防止了喷涂上去的所述氮化硅浆料出现分层的现象，进而防止所述待喷涂坩埚表面上出现粘埚的现象，通过查询所述喷洒数据后，控制所述喷枪进行对应的数据调节，以使将所述喷枪的当前喷洒状态调节为最佳状态，进而提高了喷涂效率且对所述喷枪喷涂出的所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，通过查询所述预设喷洒轨迹的设计，以使控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧边进行喷涂，进而降低了所述待喷涂坩埚的粘埚率，提高了所述待喷涂坩埚铸造出的硅锭的品质，上述坩埚喷涂方法通过对所述当前温度的判断、所述喷洒数据的查询和所述预设轨迹的查询设计，以使自动控制所述喷枪对所述待喷涂坩埚进行所述氮化硅浆料的喷涂，进而对所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，提高了硅锭的生产品质，且由于无需采用人工喷涂的方式防止了对工作人员的健康造成影响。

请参阅图2，为本发明第二实施例提供的坩埚喷涂方法的流程图，所述方法包括步骤S11至S91。

步骤S11，查询本地存储的预设成分及所述预设成分分别对应的预设量，并将所述预设成分和对应的所述预设量发送至喷枪，以控制所述喷枪进行所述预设成分的获取和搅拌，得到氮化硅浆料；

其中，所述预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，本实施例中所述硅溶胶体对应的所述预设量为300g至500g之间，所述氮化硅粉对应的所述预设量为600g至900g之间，所述纯水对应的所述预设量为1700ml至2200ml之间，并在进行所述氮化硅浆料制备的过程中时刻伴随着搅拌，所述氮化硅浆料用于阻隔硅锭和坩埚在铸锭过程中发生反应，降低氧含量，降低粘埚率，提高硅锭品质，当将所述预设成分和对应的所述预设量发送至所述喷枪时，控制所述喷枪末端的容器内的电磁阀打开，以进行所述预设成分的获取，并将所述预设成本输送至搅拌容器进行搅拌，以得到所述氮化硅浆料。

步骤S21，获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度；

其中，所述预设温度为70℃，即当检测到所述当前温度大于70℃时才会进行后续的步骤。

当所述步骤S21判断到所述当前温度大于所述预设温度时，执行步骤S31。

步骤S31，分别查询本地存储的预设喷枪流量值、预设喷枪雾形值和预设喷枪雾化值，并根据查询结果分别对所述喷枪的喷洒流量值、喷洒雾形值和喷洒雾化值进行对应调节；

其中，所述预设喷枪流量值在30ml至70ml之间、所述预设喷枪雾形值在20cm至35cm之间，所述预设喷枪雾化值在5cm至10cm之间，通过所述预设喷枪流量值、所述预设喷枪雾形值和所述预设喷枪雾化值的查询，以使将所述喷枪的当前喷洒状态调节为最佳状态，进而提高了喷涂效率且对所述喷枪喷涂出的所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障。

步骤S41，查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒；

其中，本地预先存储有工作人员设置好的运行轨迹，所述运行轨迹为往复运动、圆弧运行或直线运动等轨迹，通过所述预设喷洒轨迹的查询，以使控制所述喷枪进行移动喷洒，且通过先对所述待喷涂坩埚的底部喷洒后对侧部进行喷洒的设计，以使降低了所述待喷涂坩埚的粘埚率，提高了喷涂效率，本实施例中对所述待喷涂坩埚的底部和侧部均要保证喷涂8至10遍，以保证涂层的均匀性。

步骤S51，获取所述喷枪的当前喷涂次数，并判断所述当前喷涂次数是否大于预设次数；

其中，当控制所述喷枪对所述待喷涂坩埚完成喷涂操作时，记录喷涂次数，并当后续依序完成喷涂操作时将所述喷涂次数加1，以得到所述当前喷涂次数。

当所述步骤S51判断到所述当前喷涂次数大于所述预设次数时，执行步骤S61。

步骤S61，分别获取所述喷枪的当前流量值、当前雾形值和当前雾化值，并分别判断所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值是否在对应的预设范围值内；

其中，通过所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值的获取和判断，以使判断所述喷枪的当前状态是否是最佳状态，也可对判断所述喷枪是否发生了堵枪或漏液等情况，进而提高了对所述喷枪状态的监控，提高了对所述待喷涂坩埚的喷涂质量，本实施例中所述当前流量值对应的所述预设范围值为30ml至70ml、所述当前雾形值对应的所述预设范围值为20cm至35cm，所述当前雾化值对应的所述预设范围值为5cm至10cm。

当所述步骤S61判断到所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值中至少有一个值不在对应的所述预设范围值内时，执行步骤S71。

步骤S71，重新根据所述喷洒数据对所述喷枪进行对应调节，并对所述喷枪进行清洗，将所述当前喷涂次数清零；

其中，通过重新对所述喷枪进行对应调节和对所述喷枪进行清洗，以使将所述喷枪的状态重新控制到最佳状态，以使提高了对所述待喷涂坩埚的喷涂效率。

步骤S81，查询所述氮化硅浆料的当前剩余容量，并判断所述当前剩余容量是否小于预设容量；

其中，通过所述喷枪中所述当前剩余容量的查询和判断，以防止喷涂过程中出现喷涂量不足的现象，保障了所述氮化硅浆料喷涂的均匀性。

当所述步骤S81判断到所述当前剩余容量小于所述预设容量时，执行步骤S91。

步骤S91，发出提示报警。

其中，发出所述提示报警的方式可为电信号报警、声音信号报警或震动报警灯方式。

本实施例的坩埚喷涂方法，通过对所述当前温度的判断、所述预设喷枪流量值、所述预设喷枪雾形值、所述预设喷枪雾化值和所述预设轨迹的查询设计，以使自动控制所述喷枪对所述待喷涂坩埚进行所述氮化硅浆料的喷涂，进而对所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，提高了硅锭的生产品质，且由于无需采用人工喷涂的方式防止了对工作人员的健康造成影响，通过对所述当前喷涂次数、所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值的判断设计，以使判断所述喷枪的当前状态是否是最佳状态，也可对判断所述喷枪是否发生了堵枪或漏液等情况，进而提高了对所述喷枪状态的监控，提高了对所述待喷涂坩埚的喷涂质量。

请参阅图3，为本发明第三实施例提供的坩埚喷涂系统100的结构示意图，包括控制模块30和分别与所述控制模块30电性连接的驱动模块20和喷枪10，所述驱动模块20用于对所述喷枪10的位置进行移动，所述控制模块30用于控制所述驱动模块20的工作状态以使控制所述喷枪10的移动，且所述控制模块30可控制所述喷枪10的工作状态和工作数据，所述控制模块30包括：

配置模块31，用于查询本地存储的预设成分及所述预设成分分别对应的预设量，所述预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，并将所述预设成分和对应的所述预设量发送至所述喷枪10，以控制所述喷枪10进行所述预设成分的获取和搅拌，以得到氮化硅浆料，本实施例中所述喷枪10末端设有多个成分容器和一个搅拌容器，所述成分容器内设有电磁阀，当所述配置模块31将查询到的所述预设成分和对应的所述预设量发送至所述喷枪10时，所述电磁阀打开以进行所述硅溶胶体、所述氮化硅粉和所述纯水的获取，并再通过所述搅拌容器进行搅拌，以得到所述氮化硅浆料，所述硅溶胶体对应的所述预设量为300g至500g之间，所述氮化硅粉对应的所述预设量为600g至900g之间，所述纯水对应的所述预设量为1700ml至2200ml之间，并在进行所述氮化硅浆料制备的过程中时刻伴随着搅拌，以得到氮化硅浆料，所述氮化硅浆料用于阻隔硅锭和坩埚在铸锭过程中发生反应，降低氧含量，降低粘埚率，提高硅锭品质。

第一判断模块32，用于获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度，所述第一判断模块32通过温度传感器去获取所述当前温度，所述温度传感器内的所述预设温度为70℃，即当所述温度传感器检测到所述当前温度大于70℃时发送信号至所述第一判断模块32。

第一调节模块33，所述第一调节模块33与所述喷枪10电性连接，用于当所述第一判断模块32判断到所述当前温度大于所述预设温度时，查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对所述喷枪10进行对应调节，本地预先存储有工作人员设置好的所述喷洒数据，通过所述喷洒数据的查询，以使将所述喷枪10的当前喷洒状态调节为最佳状态，进而提高了喷涂效率且对所述喷枪10喷涂出的所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障。

查询模块34，所述查询模块34与所述驱动模块20电性连接，用于查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪10依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒，本地预先存储有工作人员设置好的运行轨迹，所述运行轨迹为往复运动、圆弧运行或直线运动等轨迹，通过所述预设喷洒轨迹的查询，以使发送控制指令至所述驱动模块20，以控制所述喷枪10进行相应的移动喷洒，且通过先对所述待喷涂坩埚的底部喷洒后对侧部进行喷洒的设计，以使降低了所述待喷涂坩埚的粘埚率，提高了喷涂效率，所述驱动模块20包括舵机、电机、转轴和机械伸缩杆等。

所述第一调节模块33包括：

第一子调节模块331，用于查询预设喷枪流量值，并根据所述预设喷枪流量值调节所述喷枪10的喷洒流量值，所述预设喷枪流量值在30ml至70ml之间；

第二子调节模块332，用于查询预设喷枪雾形值，并根据所述预设喷枪雾形值调节所述喷枪10的喷洒雾形值，所述预设喷枪雾形值在20cm至35cm之间；

第三子调节模块333，查询预设喷枪雾化值，并根据所述预设喷枪雾化值调节所述喷枪10的喷洒雾化值，所述预设喷枪雾化值在5cm至10cm之间。

所述控制模块30还包括：

第二判断模块35，用于获取所述喷枪10的当前喷涂次数，并判断所述当前喷涂次数是否大于预设次数，本实施例中当控制所述喷枪10对所述待喷涂坩埚完成喷涂操作时，记录喷涂次数，并当后续依序完成喷涂操作时将所述喷涂次数加1，以得到所述当前喷涂次数。

第三判断模块36，用于当所述第二判断模块35判断到所述当前喷涂次数大于所述预设次数时，分别获取所述喷枪10的当前流量值、当前雾形值和当前雾化值，并分别判断所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值是否在对应的预设范围值内，通过所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值的获取和判断，以使判断所述喷枪10的当前状态是否是最佳状态，也可对判断所述喷枪10是否发生了堵枪或漏液等情况，进而提高了对所述喷枪10状态的监控，提高了对所述待喷涂坩埚的喷涂质量，本实施例中所述当前流量值对应的所述预设范围值为30ml至70ml、所述当前雾形值对应的所述预设范围值为20cm至35cm，所述当前雾化值对应的所述预设范围值为5cm至10cm。

第二调节模块37，用于当所述第三判断模块36判断到所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值中至少有一个值不在对应的所述预设范围值内时，重新根据所述喷洒数据对所述喷枪10进行对应调节，并对所述喷枪10进行清洗，将所述当前喷涂次数清零，通过重新对所述喷枪10进行对应调节和对所述喷枪10进行清洗，以使将所述喷枪10的状态重新控制到最佳状态，以使提高了对所述待喷涂坩埚的喷涂效率。

本实施例中，通过所述第一判断模块32的设计，以防止在所述待喷涂坩埚温度过低时对其喷涂所述氮化硅浆料，防止了喷涂上去的所述氮化硅浆料出现分层的现象，进而防止所述待喷涂坩埚表面上出现粘埚的现象，通过所述第一调节模块33的设计，以控制对所述喷枪10进行对应的数据调节，以使将所述喷枪10的当前喷洒状态调节为最佳状态，进而提高了所述喷枪10的喷涂效率且对所述喷枪10喷涂出的所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，通过所述查询模块34的设计，以使控制所述喷枪10依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧边进行喷涂，进而降低了所述待喷涂坩埚的粘埚率，提高了所述待喷涂坩埚铸造出的硅锭的品质，上述坩埚喷涂系统100通过对所述当前温度的判断、所述喷洒数据的查询和所述预设轨迹的查询设计，以使自动控制所述喷枪10对所述待喷涂坩埚进行所述氮化硅浆料的喷涂，进而对所述氮化硅浆料的均匀性，致密性和牢固性得到了保障，提高了硅锭的生产品质，且由于无需采用人工喷涂的方式防止了对工作人员的健康造成影响。

请参阅图4，为本发明第四实施例提供的坩埚喷涂系统100a的结构示意图，该第四实施例与第三实施例的结构大抵相同，其区别在于，本实施例中所述控制模块30a还包括：

第四判断模块38，与所述喷枪10电性连接，用于查询所述喷枪10中所述氮化硅浆料的当前剩余容量，并判断所述当前剩余容量是否小于预设容量。

报警模块39，用于当所述第四判断模块38判断到所述当前剩余容量小于所述预设容量时，发出提示报警，发出所述提示报警的方式可为电信号报警、声音信号报警或震动报警灯方式。

本实施例中通过所述第四判断模块38和所述报警模块39的设计，以使通过所述当前剩余容量的查询和判断，防止了喷涂过程中出现喷涂量不足的现象，保障了所述氮化硅浆料喷涂的均匀性，且当判断到所述当前剩余容量小于所述预设容量时，能及时的发出报警以提醒工作人员进行所述氮化硅浆料的材料的添加和制作。

本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，所述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，包括如下步骤：

查询本地存储的预设成分及所述预设成分分别对应的预设量，所述预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，并将所述预设成分和对应的所述预设量发送至喷枪，以控制所述喷枪进行所述预设成分的获取和搅拌，得到氮化硅浆料；

获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度；

若是，则查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节；

查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒。所述的存储介质，如：ROM/RAM、磁碟、光盘等。

上述实施例描述了本发明的技术原理，这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其他具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围内。

Claims (9)

1.一种坩埚喷涂方法，其特征在于，所述方法包括：

查询本地存储的预设成分及所述预设成分分别对应的预设量，所述预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，并将所述预设成分和对应的所述预设量发送至喷枪，以控制所述喷枪进行所述预设成分的获取和搅拌，得到氮化硅浆料；

获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度；

若是，则查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节；

查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒。

2.根据权利要求1所述的坩埚喷涂方法，其特征在于，所述则查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节的步骤包括：

查询预设喷枪流量值，并根据所述预设喷枪流量值调节所述喷枪的喷洒流量值；

查询预设喷枪雾形值，并根据所述预设喷枪雾形值调节所述喷枪的喷洒雾形值；

查询预设喷枪雾化值，并根据所述预设喷枪雾化值调节所述喷枪的喷洒雾化值。

3.根据权利要求2所述的坩埚喷涂方法，其特征在于，所述方法还包括：

获取所述喷枪的当前喷涂次数，并判断所述当前喷涂次数是否大于预设次数；

若是，则分别获取所述喷枪的当前流量值、当前雾形值和当前雾化值，并分别判断所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值是否在对应的预设范围值内；

当判断到所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值中至少有一个值不在对应的所述预设范围值内时，重新根据所述喷洒数据对所述喷枪进行对应调节，并对所述喷枪进行清洗，将所述当前喷涂次数清零。

4.根据权利要求3所述的坩埚喷涂方法，其特征在于，所述硅溶胶体对应的所述预设量为300g至500g，所述氮化硅粉对应的所述预设量为600g至900g，所述纯水对应的所述预设量为1700ml至2200ml，所述当前流量值对应的所述预设范围值为30ml至70ml、所述当前雾形值对应的所述预设范围值为20cm至35cm，所述当前雾化值对应的所述预设范围值为5cm至10cm。

5.根据权利要求1所述的坩埚喷涂方法，其特征在于，所述方法还包括：

查询所述喷枪内所述氮化硅浆料的当前剩余容量，并判断所述当前剩余容量是否小于预设容量；

若是，则发出提示报警。

6.一种坩埚喷涂系统，包括控制模块和分别与所述控制模块电性连接的驱动模块和喷枪，其特征在于，所述控制模块包括：

配置模块，用于查询本地存储的预设成分及所述预设成分分别对应的预设量，所述预设成分包括硅溶胶体、氮化硅粉和纯水，并将所述预设成分和对应的所述预设量发送至喷枪，以控制所述喷枪进行所述预设成分的获取和搅拌，得到氮化硅浆料；

第一判断模块，用于获取待喷涂坩埚的当前温度，并判断所述当前温度是否大于预设温度；

第一调节模块，用于当所述第一判断模块判断到所述当前温度大于所述预设温度时，查询本地存储的喷洒数据，并根据所述喷洒数据对喷枪进行对应调节；

查询模块，用于查询本地存储的预设喷洒轨迹，并根据所述预设喷洒轨迹控制所述喷枪依序对所述待喷涂坩埚的底部和侧部进行喷洒。

7.根据权利要求6所述的坩埚喷涂系统，其特征在于，所述第一调节模块包括：

第一子调节模块，用于查询预设喷枪流量值，并根据所述预设喷枪流量值调节所述喷枪的喷洒流量值；

第二子调节模块，用于查询预设喷枪雾形值，并根据所述预设喷枪雾形值调节所述喷枪的喷洒雾形值；

第三子调节模块，查询预设喷枪雾化值，并根据所述预设喷枪雾化值调节所述喷枪的喷洒雾化值。

8.根据权利要求7所述的坩埚喷涂系统，其特征在于，所述控制模块还包括：

第二判断模块，用于获取所述喷枪的当前喷涂次数，并判断所述当前喷涂次数是否大于预设次数；

第三判断模块，用于当所述第二判断模块判断到所述当前喷涂次数大于所述预设次数时，分别获取所述喷枪的当前流量值、当前雾形值和当前雾化值，并分别判断所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值是否在对应的预设范围值内；

第二调节模块，用于当所述第三判断模块判断到所述当前流量值、所述当前雾形值和所述当前雾化值中至少有一个值不在对应的所述预设范围值内时，重新根据所述喷洒数据对所述喷枪进行对应调节，并对所述喷枪进行清洗，将所述当前喷涂次数清零。

9.根据权利要求6所述的坩埚喷涂系统，其特征在于，所述控制模块还包括：

第四判断模块，用于查询所述喷枪内所述氮化硅浆料的当前剩余容量的当前剩余容量，并判断所述当前剩余容量是否小于预设容量；

报警模块，用于当所述第四判断模块判断到所述当前剩余容量小于所述预设容量时，发出提示报警。