CN107671694A - 一种纳米抗污抛光机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种纳米抗污抛光机，包括机架，所述机架上设有输送机构，所述机架包括有工作平台，所述工作平台上设有输送带，所述机架上还设有支撑架，所述支撑架的横梁上安装有抛光系统，所述抛光系统包括旋转平台，所述旋转平台相对于横梁做旋转运动；所述旋转平台上安装有多个抛刷装置，多个抛刷装置分布在旋转平台的端面上，所述抛刷装置包括有公转盘，所述公转盘上安装有多个的抛光机构，所述抛光机构包括安装基板与磨轮。本发明通过利用旋转平台以及公转盘带动磨轮做两级的回旋运动，而磨轮本身又做高速的自转运动，由于取消了导致停留时间不均的摆动机构，且磨轮执行的是较为复杂的公转与自转的运动，从而使得抛刷更加均匀。
Description
技术领域
本发明涉及一种建筑材料的表面加工设备，特别是抛光机。
背景技术
纳米抗污抛光机主要工艺特点是将粒度在10nm以下的纳米粒子填塞进陶瓷或石材开放于表面的微细孔隙和裂缝中，并最终反应生成稳定的价键结构，从而封堵各种污染源的渗入。该类设备主要用于改善陶瓷或石材表面的抗污性能和质感。通常地，在此类设备中，被加工板材的上方设置有一个梁，梁上设置多组抛刷磨头，梁可以横向于板材供应方向做直线的往复移动，以便抛刷磨头的作业区域能够覆盖板材的整个宽度。移动的幅度随着板材的宽度尺寸而变化。随着宽度尺寸变得越来越大，现有摆动式纳米抗污抛光机的缺点越发明显，由于待加工的板材非常宽，梁的移动幅度会很大，为了保证均匀的加工效果，就需要降低供应方向的速度，从而整体的加工效率变得低下；同时由于往复移动时，当移动方向需要变换的时候，梁需要有一定的停留时间，摆动停留时间的不均匀性会导致被加工工件表面产生色带，影响装饰效果。针对该不足，中国专利CN201710004750.X公开了一种用于大面积瓷砖表面抛刷制膜的设备，虽然可以减少梁的移动幅度，但是仍然无法克服抛刷的不均匀问题，而且现有的抛光机在更换磨轮的时候，操作十分不便，增加了工人的劳动强度。
发明内容
本发明要解决的技术问题是：提供一种可以大范围加工的高效的而且均匀性好的抛光机。
本发明解决其技术问题的解决方案是：一种纳米抗污抛光机，包括机架，所述机架上设有输送机构，所述机架包括有工作平台，所述工作平台上设有输送带，所述输送机构驱动输送带循环往复运动，所述机架上还设有支撑架，所述支撑架横跨在工作台的两端，所述支撑架的横梁上安装有抛光系统，所述抛光系统包括旋转平台，所述旋转平台相对于横梁做旋转运动；所述旋转平台上安装有多个抛刷装置，多个抛刷装置分布在旋转平台的端面上，所述抛刷装置包括有公转盘，所述公转盘上安装有多个的抛光机构，所述抛光机构包括安装基板与磨轮。
作为上述技术方案的进一步改进，所述抛刷装置还包括升降机构，所述升降机构安装在旋转平台上，所述公转盘安装在升降机构上。
作为上述技术方案的进一步改进，所述升降机构包括滑动套、主轴与驱动气缸，所述驱动气缸带动主轴沿着滑动套上下移动，所述公转盘与主轴的下端固定连接。
作为上述技术方案的进一步改进，所述升降机构还包括限位块，所述限位块固定在滑动套上。
作为上述技术方案的进一步改进，所述安装基板与磨轮之间通过搭扣方式安装。
作为上述技术方案的进一步改进，所述安装基板与磨轮之间还设有减震垫片。
作为上述技术方案的进一步改进，所述支撑架与抛光系统均有两个，两个抛光系统沿着输送带的前进方向前后分布，两个抛光系统的旋转平台的转动方向相反。
作为上述技术方案的进一步改进，位于前方的抛光系统的磨轮的颗粒度大于后方的抛光系统的磨轮的颗粒度。
本发明的有益效果是：本发明通过利用旋转平台以及公转盘带动磨轮做两级的回旋运动，而磨轮本身又做高速的自转运动，由于取消了导致停留时间不均的摆动机构，且磨轮执行的是较为复杂的公转与自转的运动，从而使得抛刷更加均匀。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单说明。显然，所描述的附图只是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他设计方案和附图。
图1是本发明的正视图；
图2是本发明的局部仰视图；
图3是本发明的抛刷装置的结构示意图。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本发明的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本发明的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本发明保护的范围。另外，文中所提到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本发明创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
参照图1～图3，一种纳米抗污抛光机，包括机架1，所述机架1上设有输送机构2，所述机架1包括有工作平台，所述工作平台上设有输送带，所述输送机构2驱动输送带循环往复运动，所述机架1上还设有支撑架11，所述支撑架11横跨在工作台的两端，所述支撑架11的横梁上安装有抛光系统3，所述抛光系统3包括旋转平台31，所述旋转平台31相对于横梁做旋转运动，旋转平台安装在了横梁的中间，而且旋转平台的直径与工作平台的宽度相当，可以保证放置在工作平台上的板材都能够得到充分的抛刷；所述旋转平台31上安装有多个抛刷装置32，多个抛刷装置32分布在旋转平台31的端面上，优选地，所述的抛刷装置有四个，四个的抛刷装置呈圆周均匀分布在旋转平台上，所述抛刷装置32包括有公转盘321，而为了使得抛刷更加均匀，四个抛刷装置的公转盘的旋转方向可以不相同，例如两个的公转盘是顺时针而两个的公转盘是逆时针，而且顺时针与逆时针的公转盘相互错开，这样可以使得抛刷的时候更加均匀，而且受力更好；所述公转盘321上安装有多个的抛光机构33，所述抛光机构33包括安装基板331与磨轮332。优选的，抛光机构包括了有六个，六个抛光机构也是圆周均匀分布在公转盘上。
工作的时候，待加工的板材放置在工作平台上，由输送带向前输送，当板材进入到了抛光系统的时候，板材的上表面与磨轮接触，磨轮本身高速旋转，同时抛刷装置带动公转盘匀速转动，而旋转平台又带动抛刷装置匀速转动，从而磨轮相对于板材就复杂的复合运动，而且由于磨轮一直都是做旋转运动，没有了往复运动，抛刷的时候可以保证磨轮与板材的接触面积与时间更均匀。
进一步作为优选的实施方式，所述抛刷装置32还包括升降机构322，所述升降机构322安装在旋转平台31上，所述公转盘321安装在升降机构322上。
进一步作为优选的实施方式，所述升降机构322包括滑动套、主轴与驱动气缸，所述驱动气缸带动主轴沿着滑动套上下移动，所述公转盘321与主轴的下端固定连接。
当输送带带动板材进入抛刷系统时，主轴下降，带动公转盘下降，使得磨轮接触板材，对板材进行抛刷；当停止抛刷或是更换磨轮时，抛刷磨头的主轴上升，磨轮脱离板材。而为了方便主轴上升复位，滑动套与主轴之间还设置了弹簧。而且由于主轴还会在工作的时候做回旋运动，因此滑动套与主轴之间设置有轴承。
进一步作为优选的实施方式，所述升降机构322还包括限位块，所述限位块设置在滑动套上。利用限位块，可以使主轴停置于给定位置，从而控制抛刷磨头的加工压力，以确保最佳的加工效果。当然了，为了实现限位块的自动控制，所述的限位块可以与电动机等的结构连接。
进一步作为优选的实施方式，所述安装基板331与磨轮332之间通过搭扣方式安装。通过将磨轮搭扣在安装基板上，从而使得拆装磨轮更加方便高效。
进一步作为优选的实施方式，所述安装基板331与磨轮332之间还设有减震垫片。通过减震垫片可以提高抛刷的效果。
进一步作为优选的实施方式，所述支撑架11与抛光系统3均有两个，两个抛光系统3沿着输送带的前进方向前后分布，两个抛光系统3的旋转平台31的转动方向相反。利用两个的抛光系统，不仅可以进一步提高工作效率，而且为了平衡受力，相邻的两个抛光系统的旋转平台被设置为相反旋向。
进一步作为优选的实施方式，位于前方的抛光系统3的磨轮332的颗粒度大于后方的抛光系统的磨轮332的颗粒度。在优选实施方式中，在后的抛光系统的磨轮研磨颗粒的尺寸小于在前所使用的磨轮研磨颗粒的尺寸，从而当板材在经过两次抛光后，表面光洁度得以增强。
以上对本发明的较佳实施方式进行了具体说明，但本发明创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可作出种种的等同变型或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (8)
1.一种纳米抗污抛光机，包括机架(1)，所述机架(1)上设有输送机构(2)，所述机架(1)包括有工作平台，所述工作平台上设有输送带，所述输送机构(2)驱动输送带循环往复运动，所述机架(1)上还设有支撑架(11)，所述支撑架(11)横跨在工作台的两端，所述支撑架(11)的横梁上安装有抛光系统(3)，其特征在于：所述抛光系统(3)包括旋转平台(31)，所述旋转平台(31)相对于横梁做旋转运动；所述旋转平台(31)上安装有多个抛刷装置(32)，多个抛刷装置(32)分布在旋转平台(31)的端面上，所述抛刷装置(32)包括有公转盘(321)，所述公转盘(321)上安装有多个的抛光机构(33)，所述抛光机构(33)包括安装基板(331)与磨轮(332)。
2.根据权利要求1所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述抛刷装置(32)还包括升降机构(322)，所述升降机构(322)安装在旋转平台(31)上，所述公转盘(321)安装在升降机构(322)上。
3.根据权利要求2所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述升降机构(322)包括滑动套、主轴与驱动气缸，所述驱动气缸带动主轴沿着滑动套上下移动，所述公转盘(321)与主轴的下端固定连接。
4.根据权利要求3所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述升降机构(322)还包括限位块，所述限位块设置在滑动套上。
5.根据权利要求1所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述安装基板(331)与磨轮(332)之间通过搭扣方式安装。
6.根据权利要求5所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述安装基板(331)与磨轮(332)之间还设有减震垫片。
7.根据权利要求1-6任意一项所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述支撑架(11)与抛光系统(3)均有两个，两个抛光系统(3)沿着输送带的前进方向前后分布，两个抛光系统(3)的旋转平台(31)的转动方向相反。
8.根据权利要求7所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：位于前方的抛光系统(3)的磨轮(332)的颗粒度大于后方的抛光系统的磨轮(332)的颗粒度。
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