CN107643554A - 减反膜镜片及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种减反膜镜片，包括：基材；减反膜，设置在所述基材的一个表面上；所述减反膜由在所述基材的一个表面上依次堆叠的十层结构层构成；所述依次堆叠的十层结构层中的前九层机构层由交替堆叠的低折射层和高折射率层构成，第十层为防水层；所述依次堆叠的十层结构层分别为：第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层、第四低折射率层、第四高折射率层、第五低折射率层和第一防水层。根据本发明的减反膜镜片的耐刮擦性能、机械性能以及防水性能好。
Description
技术领域
本发明涉及一种减反膜镜片及其制备方法。
背景技术
中国专利201110434960.5公开了一种高强度减反膜系结构。这种减反膜系结构适用于S-FPL51、S-BSM81和LAK10等玻璃基材，减反膜中镀制有中折射率的MgF2和AL2O3材料层。这种减反膜系结构构成的镜片膜层的耐刮擦性能和机械性能不够强，达不到塑胶镜片镀制减反膜对于机械性能的要求。
玻璃球面镜片超硬防水减反膜主要应用于可拍照手机摄像头、水下作业摄像头及车载摄像头等数码成像等领域。运动摄像机(SDV)光学模组。
为达到雨中或水下作业的成像清晰度及膜层表面的耐擦性，采用第一枚玻璃球面镜片镀制超硬防水减反膜取代普通的ARfilter(减反膜)，采取普通的ARfilter(减反膜)加工的产品：膜层耐刮擦性差，与防水性能差，膜层性能达不到使用要求，且使用寿命短，在雨中成像模糊等缺点。
发明内容
本发明的目的在于提供一种耐刮擦性能、机械性能以及防水性能好的减反膜镜片，以及这种减反膜镜片的制备方法。
为实现上述目的，本发明提供一种减反膜镜片，包括：
基材；
减反膜，设置在所述基材的一个表面上；
所述减反膜由在所述基材的一个表面上依次堆叠的十层结构层构成；
所述依次堆叠的十层结构层中的前九层机构层由交替堆叠的低折射层和高折射率层构成，第十层为防水层；
所述依次堆叠的十层结构层分别为：第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层、第四低折射率层、第四高折射率层、第五低折射率层和第一防水层。
根据本发明的一个方面，所述基材为玻璃球面镜片。
根据本发明的一个方面，所述低折射率层的材料为氟化镁。
根据本发明的一个方面，所述高折射率层的材料为镧钛混合物。
根据本发明的一个方面，所述防水层由防水药形成。
根据本发明的一个方面，所述第一低折射率层、所述第一高折射率层、所述第二低折射率层、所述第二高折射率层、所述第三低折射率层、所述第三高折射率层、所述第四低折射率层、所述第四高折射率层和所述第五低折射率层的厚度范围分别为：21.11-21.99nm、27.12-28.25nm、72.85-75.89nm、14.40-15.00nm、71.12-74.08nm、44.20-46.04nm、12.05-12.55nm、72.19-75.02nm、91.21-95.01nm；
所述第一防水层的厚度为15nm。
为实现上述目的，本发明提供一种制备减反膜镜片的方法，包括以下步骤：
(a)采用离子源清洗工艺清洗基材；
(b)真空状态下在基材的一个面上交替堆叠地镀制九层低折射率层和高折射率层，然后镀制防水层形成减反膜；
(c)持续真空状态后，完成镀膜。
根据本发明的一个方面，镀制减反膜的起始真空度为2.5×10-3Pa-3.0×10-3Pa，温度为340-350℃，恒温时间为15-20min。
根据本发明的一个方面，所述(a)步骤中，离子源清洗时间为1min。
根据本发明的一个方面，所述(a)步骤中，离子源清洗工艺的离子源参数设定为以下数值或者数值范围，
根据本发明的一个方面，所述(b)步骤中，各低折射率层的镀膜速率为/S，镀膜真空压力为2.5×10-3Pa；
各高折射率层的镀膜速率为/S，镀膜真空压力为8.0×10-3Pa；
防水层的镀膜速率为/S，镀膜真空压力为2.5×10-3Pa。
根据本发明的一个方面，所述(b)步骤中，采用离子源辅助的真空镀膜方法镀膜，离子源参数设定为以下数值或者数值范围，
根据本发明的一个方面，所述(c)步骤中，镀膜完成后需保持真空状态5min以上。
根据本发明的减反膜镜片，在玻璃球面镜片的一个表面上沿着远离镜片的方向，依次设置有不同厚度的第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层、第四低折射率层、第四高折射率层和第五低折射率层以及防水层，尤其是低折射率层采用氟化镁，高折射率层采用镧钛混合物以及防水层采用防水药时，相较于现有技术，大大提高了减反膜镜片的结构稳定性、耐刮擦性和机械性能以及膜层的牢固程度，同时大大地提高了防水性能。
根据本发明的制备减反膜镜片方法步骤(a)，采用离子源清洗工艺清洗基材，保证基材的洁净无污，便于后续步骤在基材表面上镀制减反膜。
根据本发明制备减反膜镜片方法步骤(b)，在恒温340°的真空中镀膜，避免镀膜时外界污染物对膜层造成污染，镀制低折射率层、高折射率层以及防水层时采用不同的镀膜速率和镀膜压力，提高镀制效率的同时，增加了膜层之间的牢固性，也提高了膜层的强度和耐刮擦性。
根据本发明的镀制减反膜的方法，通过在基材上交替镀制共九层厚度不同的低、高折射率层，再镀制防水层，并且首先镀制低折射率层，使得镀制膜层的强度和膜层之间牢固性大大增强，大幅度的提升了膜层的耐刮擦性。此外，镀膜过程中，采用特定范围参数的离子源辅助镀膜并充入不同流量的氧气和氩气，提高了镀膜的效率，也进一步提升了膜层的机械性能和耐刮擦性。
附图说明
图1是示意性表示根据本发明的一种实施方式的减反膜镜片的结构示意图；
图2是示意性表示根据本发明的一种实施方式的玻璃球面镜片减反膜的光谱特性图；
图3是示意性表示根据本发明的另一种实施方式的玻璃球面镜片减反膜的光谱特性图；
图4是示意性表示根据本发明的第三种实施方式的玻璃球面镜片减反膜的光谱特性图。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
在针对本发明的实施方式进行描述时，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本发明的限制。
下面结合附图和具体实施方式对本发明作详细地描述，实施方式不能在此一一赘述，但本发明的实施方式并不因此限定于以下实施方式。
图1是示意性表示根据本发明的一种实施方式的减反膜镜片的结构示意图。如图1所示，根据本发明的减反膜镜片包括基材1和减反膜2。减反膜2镀制在基材1的一个表面上，根据本发明的减反膜镜片，基材1的材料选用玻璃材料制成。在本实施方式中，基材1的材料为玻璃球面镜片。减反膜2镀制在如图1所示的基材1的上表面上。根据本发明的减反膜2由十层结构层构成，十层结构层分为低折射率层、高折射率层和防水层三种，并且十层结构层的前九层(即靠近基材1至远离基材1依次堆叠的九层)结构层是由低折射率层和高折射率层交替堆叠组成的，第十层是防水层。在本实施方式中，如图1所示，十层结构层沿着远离基材1的方向分别为第一低折射率层201、第一高折射率层202、第二低折射率层203、第二高折射率层204、第三低折射率层205、第三高折射率层206、第四低折射率层207、第四高折射率层208、第五低折射率层209和第一防水层210。换言之，减反膜2是按照第一低折射率层201、第一高折射率层202、第二低折射率层203、第二高折射率层204、第三低折射率层205、第三高折射率层206、第四低折射率层207、第四高折射率层208、第五低折射率层209和第一防水层210的顺序依次堆叠镀制在基材1的上表面上的。
在本发明中，减反膜2由低折射率层、高折射率层和防水层组成。其中所有低折射率层的材料为氟化镁，所有高折射率层的材料为镧钛混合物，防水层由防水药形成。在本实施方式中，防水层可由SH-HT防水药(Super Hydrophobic Tablet)形成，其具有低折射率。在本实施方式中，第一低折射率层201、第一高折射率层202、第二低折射率层203、第二高折射率层204、第三低折射率层205、第三高折射率层206、第四低折射率层207、第四高折射率层208和第五低折射率层209的厚度范围分别为21.11-21.99nm、27.12-28.25nm、72.85-75.89nm、14.40-15.00nm、71.12-74.08nm、44.20-46.04nm、12.05-12.55nm、72.19-75.02nm、91.21-95.01nm。第一防水层210的厚度为15nm。
根据本发明的减反膜镜片，在用玻璃球面镜片作为基材的情况下，在基材的一个表面上沿着远离基材的方向，依次镀制不同厚度的各低折射率层、高折射率层以及防水层，尤其是低折射率层采用氟化镁，高折射率层采用镧钛混合物以及防水层采用防水药时，使得可以大大提高根据本发明的减反膜镜片的机构稳定性、耐刮擦性、机械性能和防水性能，相应的镜片所能承受的温度也有所提高，表面硬度更高。
根据上述减反膜镜片，本发明还提供一种制备上述减反膜镜片的方法，包括以下步骤：
(a)采用离子源清洗工艺清洗基材(1)；
(b)真空状态下在基材(1)的一个面上交替镀制九层低折射率层和高折射率层，然后镀制防水层形成减反膜；
(c)持续真空状态后，完成镀膜。
根据本发明的一种实施方式，在上述(a)步骤中，离子源清洗工艺的离子源参数设定为以下表1中的数值或者数值范围，
表1
表1是上述步骤(a)中清洗基材1的离子源参数设定数据。利用表1中的条件对基材1进行时长为1min的清洗，使得真空环境中的基材1洁净无污，便于后续减反膜2的镀制，保证基材1的洁净度，能达到增加第一低折射率层201与基材1之间的附着力的效果。
在本实施方式中，经过离子源清洗工艺清洗基材1后，再利用镀膜机在基材1的一个表面上镀制减反膜2。机台温度设置为340°，并需持续20分钟，当镀膜真空室的真空度到达2.5×10-3Pa时，开始镀膜。镀膜时，各低折射率层的镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，各高折射率层的镀膜速率为/S，镀膜压力8.0×10-3Pa，防水层的镀膜速率为/S，镀膜压力为2.5×10-3Pa。
根据本发明步骤(b)在恒温340°的真空中镀膜，避免镀膜时外界污染物对膜层造成污染，低折射率层、高折射率层和防水层采用上述参数设置镀制，提高镀制效率的同时，增加了膜层之间的牢固性，也提高了膜层的强度和耐刮擦性，以及减反膜的防水性能。
在本实施方式中，步骤(b)在基材1的一个表面上镀制减反膜2的具体步骤如下：
1)镀制第一低折射率层201，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为44s，镀膜厚度为21.99nm。
2)镀制第一高折射率层202，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为71s，镀膜厚度为28.25nm。
3)镀制第二低折射率层203，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为152s，镀膜厚度为75.89nm。
4)镀制第二高折射率层204，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为38s，镀膜厚度为15.00nm。
5)镀制第三低折射率层205，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为148s，镀膜厚度为74.08nm。
6)镀制第三高折射率层206，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为115s，镀膜厚度为46.04nm。
7)镀制第四低折射率层207，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为25s，镀膜厚度为12.55nm。
8)镀制第四高折射率层208，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为188s，镀膜厚度为75.02nm。
9)镀制第五低折射率层209，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为190s，镀膜厚度为95.01nm。
10)镀制第一防水层210，镀膜速率为/S，镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为30s，镀膜厚度为15nm。
此外，在本实施方式中，镀膜工艺中还使用了离子源轰击辅助镀膜。离子源参数设定为以下表2中的数值或者数值范围，
表2
表2是高能离子源轰击辅助镀膜的参数设定数据。当镀膜真空室的真空度达到2.5×10-3Pa开始镀膜后，高能离子源开始辅助镀膜。由表2可知，镀制低折射率层和镀制高折射率层时的高能离子源的各项参数是不同的，在上述设定参数范围内镀膜，有利于增加结构层之间的致密性，也可以使得减反膜2的硬度得到提高。此外，由表2可知，在利用高能离子源辅助镀膜时，会向镀膜真空室中同时充入气体1、气体2和气体3，充入的气体1、气体2和气体3分别为氧气、氩气和氩气。同时充入氧气和氩气可以保证离子源正常启动，而充入气体的流量不同，有助于保证镀制膜层的机械性能。
根据本发明的镀制减反膜2的方法，通过在基材1上交替镀制九层厚度不同的低、高折射率层，然后再镀制一层防水层，而且在镀制过程中首先镀制低折射率层，使得镀制膜层的强度和牢固性大大增强，大幅度的提升了膜层的耐刮擦性。此外，镀膜过程中，采用上述参数的离子源辅助镀膜并充入不同流量的氧气和氩气，提高了镀膜的效率，也进一步提升了膜层的牢固程度、机械性能和耐刮擦性，而且大大提高了防水性能。
在本实施方式中，在基材1一个表面上完成镀制减反膜2后，至少需要保持真空状态5min，5min后往机台中充气，此时充入的气体为空气，使得真空环境的压力变为1个标准大气压，方便取出镀膜完成的镜片。
图2是示意性表示根据本发明一种实施方式的玻璃球面镜片减反膜的光谱特性图。图中横轴表示波长(nm),纵轴表示反射率(R％),由图2可知,波长420-680nm的反射率范围为0-0.2％，小于根据本发明的减反膜镜片的符合要求的0.6％的反射率，即根据本实施方式镀制的减反膜2的减反效果符合规格。
根据本发明的另一种实施方式，基材采用离子源清洗工艺清洗时的离子源参数设定数据如表3所示。
表3
表3是步骤(a)中清洗基材1的离子源参数设定数据。利用表3中的条件对基材1进行1min的清洗，使得真空环境中的基材1洁净无污，便于后续减反膜2的镀制。保证基材1的洁净度，能达到增加第一低折射率层201与基材1之间的附着力的效果。
在本实施方式中，经过离子源清洗工艺清洗基材1后，再利用镀膜机在基材1的一个表面上镀制减反膜2。机台温度设置为340°，并需持续20min，当镀膜真空室的真空度到达2.5×10-3Pa时，开始镀膜。镀膜时，各低折射率层的镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，各高折射率层的镀膜速率为/S，镀膜压力8.0×10-3Pa，防水层的镀膜速率为/S，镀膜压力为2.5×10-3Pa。
在本实施方式中，步骤(b)在基材1的一个表面上镀制减反膜2的具体步骤如下：
1)镀制第一低折射率层201，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为42s，镀膜厚度为21.11nm。
2)镀制第一高折射率层202，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为68s，镀膜厚度为27.12nm。
3)镀制第二低折射率层203，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为146s，镀膜厚度为72.85nm。
4)镀制第二高折射率层204，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为36s，镀膜厚度为14.40nm。
5)镀制第三低折射率层205，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为142s，镀膜厚度为71.12nm。
6)镀制第三高折射率层206，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为110s，镀膜厚度为44.20nm。
7)镀制第四低折射率层207，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为23s，镀膜厚度为12.05nm。
8)镀制第四高折射率层208，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为180s，镀膜厚度为72.19nm。
9)镀制第五低折射率层209，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为182s，镀膜厚度为91.21nm。
10)镀制第一防水层210，镀膜速率为/S，镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为28s，镀膜厚度为15nm。
此外，在本实施方式中，镀膜工艺中还使用了离子源轰击辅助镀膜。离子源参数设定为以下表4中的数值或者数值范围，
表4
表4是高能离子源轰击辅助镀膜的参数设定数据。当镀膜真空室的真空度达到2.5×10-3Pa开始镀膜后，高能离子源开始辅助镀膜。在本实施方式中，离子源参数与上述实施方式不同，但能够取得相似或者相同的技术效果，因此不再赘述。
图3是示意性表示根据本发明另一种实施方式的玻璃球面镜片减反膜的光谱特性图。图中纵轴表示波长(nm),横轴表示反射率(R％),由图3可知，波长400-680nm的反射率小于0.2％，根据本实施方式镀制的减反膜2的减反效果符合规格。
根据本发明的第三种实施方式，基材采用离子源清洗工艺清洗时的离子源参数设定数据如表5所示。
表5
表5是步骤(a)中清洗基材1的离子源参数设定数据。利用表5中的条件对基材1进行1min的清洗，使得真空环境中的基材1洁净无污，便于后续减反膜2的镀制。保证基材1的洁净度，能达到增加第一低折射率层201与基材1之间的附着力的效果。
在本实施方式中，经过离子源清洗工艺清洗基材1后，再利用镀膜机在基材1的一个表面上镀制减反膜2。机台温度设置为340°，并需持续20min，当镀膜真空室的真空度到达2.5×10-3Pa时，开始镀膜。镀膜时，各低折射率层的镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，各高折射率层的镀膜速率为/S，镀膜压力8.0×10-3Pa，防水层的镀膜速率为/S，镀膜压力为2.5×10-3Pa。
在本实施方式中，步骤(b)在基材1的一个表面上镀制减反膜2的具体步骤如下：
1)镀制第一低折射率层201，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为43s，镀膜厚度为21.55nm。
2)镀制第一高折射率层202，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为69s，镀膜厚度为27.69nm。
3)镀制第二低折射率层203，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为149s，镀膜厚度为74.37nm。
4)镀制第二高折射率层204，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为37s，镀膜厚度为14.70nm。
5)镀制第三低折射率层205，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为145s，镀膜厚度为72.60nm。
6)镀制第三高折射率层206，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为112s，镀膜厚度为45.12nm。
7)镀制第四低折射率层207，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为24s，镀膜厚度为12.30nm。
8)镀制第四高折射率层208，镀膜速率为/S，镀膜压力为8.0×10-3Pa，镀膜时间为184s，镀膜厚度为73.70nm。
9)镀制第五低折射率层209，镀膜速率为/S,镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为186s，镀膜厚度为93.11nm。
10)镀制第一防水层210，镀膜速率为/S，镀膜压力为2.5×10-3Pa，镀膜时间为29s，镀膜厚度为15nm。
此外，在本实施实施方式中，镀膜工艺中还使用了离子源轰击辅助镀膜。离子源参数设定为以下表6中的数值或者数值范围，
表6
表6是高能离子源轰击辅助镀膜的参数设定数据。当镀膜真空室的真空度达到2.5×10-3Pa开始镀膜后，高能离子源开始辅助镀膜。在本实施方式中，离子源参数与上述实施方式不同，但能够取得相似或者相同的技术效果，因此不再赘述。
图4是示意性表示根据本发明第三种实施方式的玻璃球面镜片减反膜的光谱特性图。图中纵轴表示波长(nm),横轴表示反射率(R％),由图4可知，波长420-680nm的反射率小于0.2％，根据本实施方式镀制的减反膜2的减反效果符合规格。
根据本发明的上述实施方式，实际测定减反膜镜片的机械性能和防水性能的方法和标准如下表7所示：
表7
表7为根据本发明的减反膜镜片的机械性能测试评定表。如表7所示，根据本发明的制备减反膜镜片的方法，上述三种实施方式虽然在离子源参数设定、镀膜工艺参数设定上和充气参数设定方面存在差异，但通过表7中胶带法、擦拭法和铅笔硬度测试法、钢丝绒(#0000)硬度测试法、水锥角测量仪测试法测试后，根据发明三种实施方式的减反膜镜片均未出现掉膜和表面刮擦现象，而且水锥角大于105度，防水性能极佳，在雨中与水中可以清晰成像，因此均为合格产品。同样的，对根据本发明的三种实施方式的减反膜镜片进行分光性能测试，均符合规格。据此可以得出结论，为使减反膜2的膜层更为牢固，强度更高，耐刮擦性更好，防水性能更好，在步骤(a)、(b)中离子源的参数设定应为以下数值范围：
上述内容仅为本发明的具体实施方式的例举，对于其中未详尽描述的设备和结构，应当理解为采取本领域已有的通用设备及通用方法来予以实施。
以上所述仅为本发明的一个实施方式而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (13)
1.减反膜镜片，包括：
基材(1)；
减反膜(2)，设置在所述基材(1)的一个表面上；其特征在于，
所述减反膜(2)由在所述基材(1)的所述表面上依次堆叠的十层结构层构成；
所述依次堆叠的十层结构层中的前九层机构层由交替堆叠的低折射层和高折射率层构成，第十层为防水层；
所述依次堆叠的十层结构层分别为：第一低折射率层(201)、第一高折射率层(202)、第二低折射率层(203)、第二高折射率层(204)、第三低折射率层(205)、第三高折射率层(206)、第四低折射率层(207)、第四高折射率层(208)、第五低折射率层(209)和第一防水层(210)。
2.根据权利要求1所述的减反膜镜片，其特征在于，所述低折射率层的材料为氟化镁。
3.根据权利要求1所述的减反膜镜片，其特征在于，所述高折射率层的材料为镧钛混合物。
4.根据权利要求1所述的减反膜镜片，其特征在于，所述基材(1)为玻璃球面镜片。
5.根据权利要求4所述的减反膜镜片，其特征在于，所述防水层由防水药形成。
6.根据权利要求1至5之一所述的减反膜镜片，其特征在于，所述第一低折射率层(201)、所述第一高折射率层(202)、所述第二低折射率层(203)、所述第二高折射率层(204)、所述第三低折射率层(205)、所述第三高折射率层(206)、所述第四低折射率层(207)、所述第四高折射率层(208)和所述第五低折射率层(209)的厚度范围分别为：21.11-21.99nm、27.12-28.25nm、72.85-75.89nm、14.40-15.00nm、71.12-74.08nm、44.20-46.04nm、12.05-12.55nm、72.19-75.02nm、91.21-95.01nm；
所述第一防水层(210)的厚度为15nm。
7.制备减反膜镜片的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(a)采用离子源清洗工艺清洗基材(1)；
(b)真空状态下在基材(1)的一个面上交替堆叠地镀制九层低折射率层和高折射率层，然后镀制防水层形成减反膜；
(c)持续真空状态后，完成镀膜。
8.根据权利要求7所述的制备减反膜镜片的方法，其特征在于，镀制减反膜的起始真空度为2.5×10-3-3.0×10-3Pa，温度为340-350℃，恒温时间为15-20min。
9.根据权利要求8所述的制备减反膜镜片的方法，其特征在于，所述
(a)步骤中，离子源清洗时间为1min。
10.根据权利要求9所述的制备减反膜镜片的方法，其特征在于，所述(a)步骤中，离子源清洗工艺的离子源参数设定为以下数值或者数值范围，
11.根据权利要求7或8所述的制备减反膜镜片的方法，其特征在于，所述(b)步骤中，各低折射率层的镀膜速率为镀膜真空压力为2.5×10-3Pa；
各高折射率层的镀膜速率为镀膜真空压力为8.0×10-3Pa；
防水层的镀膜速率为镀膜真空压力为2.5×10-3Pa。
12.根据权利要求11所述的制备减反膜镜片的方法，其特征在于，所述(b)步骤中，采用离子源辅助的真空镀膜方法镀膜，离子源参数设定为以下数值或者数值范围，
13.根据权利要求7所述的制备减反膜镜片的方法，其特征在于，所述(c)步骤中，镀膜完成后需保持真空状态5min以上。
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