CN108761582A - 膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 - Google Patents
膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108761582A CN108761582A CN201810752961.6A CN201810752961A CN108761582A CN 108761582 A CN108761582 A CN 108761582A CN 201810752961 A CN201810752961 A CN 201810752961A CN 108761582 A CN108761582 A CN 108761582A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- refractive index
- material layer
- index material
- film layer
- lens barrel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 155
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 claims abstract description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 17
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 14
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 10
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- AZCUJQOIQYJWQJ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-) titanium(4+) trihydrate Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4].O.O.O AZCUJQOIQYJWQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 4
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 3
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- MEYZYGMYMLNUHJ-UHFFFAOYSA-N tunicamycin Natural products CC(C)CCCCCCCCCC=CC(=O)NC1C(O)C(O)C(CC(O)C2OC(C(O)C2O)N3C=CC(=O)NC3=O)OC1OC4OC(CO)C(O)C(O)C4NC(=O)C MEYZYGMYMLNUHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 229910052571 earthenware Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000006213 oxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明涉及一种膜层结构及包含该膜层结构的镜筒，包括：减反膜层，包括交替堆叠的高折射率材料层和低折射率材料层；第一防水膜层，沿远离所述镜筒的方向，所述第一防水膜层设置在所述减反膜层的外侧。本发明的膜层结构，镀制在镜筒表面，有利于降低镜筒表面的反射强度，同时能够起到防止擦伤、污染的作用，从而能够有效保证使用镀制有本发明膜层结构的镜筒组装的摄像模组具有良好的成像品质。
Description
技术领域
本发明属于镜筒镀膜技术领域，尤其涉及一种用于降低镜筒表面反射强度的膜层结构。
背景技术
随着手机行业的快速发展，手机摄像头已经从单摄发展到了三摄，强大的拍照功能已经成为手机的重要卖点，市场需求量庞大。然而市场对于摄像性能的要求也越来越高，传统的镜头，由于镜筒表面会反射光线必然会对光学系统形成一定的干扰，从而导致成像品质不佳。为了增加面板视觉的一致性，需要在镜筒表面进行镀膜。现有技术中对镜筒镀制的膜层降低镜筒表面反射的性能不佳，而且镀膜后的镜筒在和其他组件进行组装时容易对镜筒膜层造成擦伤、污染等情况，影响最终的成像品质。
发明内容
本发明的目的在于提供一种膜层结构和包含该膜层结构的镜筒，降低镜筒表面反射强度同时解决膜层易擦伤污染的问题。
为实现上述目的，本发明提供一种膜层结构，镀制在镜筒表面，包括：
减反膜层，包括交替堆叠的高折射率材料层低折射率材料层；
防水膜层，沿远离所述镜筒的方向，所述防水膜层设置在所述减反膜层的外侧。
根据本发明的一个方面，所述防水膜层镀制在所述低折射率材料层上。
根据本发明的一个方面，沿着远离所述镜筒的方向，所述减反膜层的结构可以表示为L(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。
根据本发明的一个方面，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层的结构可以表示为(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。
根据本发明的一个方面，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层依次包括第一高折射率材料层、第二低折射率材料层、第三高折射率材料层、第四低折射率材料层、第五高折射率材料层和第六低折射率材料层。
根据本发明的一个方面，所述第一高折射率材料层的厚度为5-25nm，第二低折射率材料层的厚度为10-55nm，第三高折射率材料层的厚度为20-90nm，第四低折射率材料层的厚度为4-25nm，第五高折射率材料层的厚度为15-80nm，第六低折射率材料层的厚度为30-150nm。
根据本发明的一个方面，所述高折射率材料层为折射率高于2.0的材料层，选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或钛酸镧中的一种或多种；
所述低折射率材料层为折射率小于1.8的材料层，选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种。
根据本发明的一个方面，所述减反膜层的厚度为150-600nm，反射波长为400-700nm，反射率小于0.7％。
根据本发明的一个方面，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层依次包括第一铬的氧化物材料层和第二二氧化硅材料层，
所述第一铬的氧化物材料层的厚度为30-500nm；
所述第二二氧化硅材料层的厚度为10-200nm。
根据本发明的一个方面，所述防水膜层由氟化物制成，水接触角大于110°，厚度为4-20nm。
为实现上述目的，本发明提供一种镜筒，包括镜筒本体和镀制在所述镜筒本体表面上的膜层结构。
根据本发明的一个方案，本发明的膜层结构设有减反膜层，减反膜层的厚度为150-600nm，减反膜层由选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或者钛酸镧中的一种或多种的高折射率材料层和选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种的低折射率材料层交替镀制而成，通过调整不同波长对应的反射强度改变其表面颜色，使其呈现黑色，能够降低镜筒的反射强度，使波长为400-700nm的可见光的反射率小于0.7％，从而有利于提高成像品质。
根据本发明的一个方案，减反膜层依次由第一铬的氧化物材料层和第二二氧化硅材料层镀制而成，使减反膜层本身呈现黑色，提升美感的同时降低镜筒表面的反射强度，提升产品的生产良率。
根据本发明的一个方案，防水膜层由氟化物制成，厚度为4-20nm，水接触角大于110°，具有硬度高、防水性好的优点，可以对减反膜层起到一定的保护作用，避免镀制有本发明的膜层结构的镜筒在与其他组件组装时对已经镀制好的膜层造成擦伤、污染的情况发生。
附图说明
图1是示意性表示根据本发明一种实施方式的膜层结构的结构示图；
图2是示意性表示根据本发明第二种实施地方的膜层结构的结构示图；
图3是示意性表示镀有本发明膜层结构的镜筒的俯视图。
附图中各标号所代表的含义如下：
A、膜层结构。1、减反膜层。2、防水膜层。11、第一高折射率材料层。12、第二低折射率材料层。13、第三高折射率材料层。14、第四低折射率材料层。15、第五高折射率材料层。16、第六低折射率材料层。1a、第一铬的氧化物材料层。1b、第二二氧化硅材料层。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
在针对本发明的实施方式进行描述时，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本发明的限制。
下面结合附图和具体实施方式对本发明作详细地描述，实施方式不能在此一一赘述，但本发明的实施方式并不因此限定于以下实施方式。
结合图1和图3所示，根据本发明的膜层结构A包括减反膜层1和防水膜层2。本发明的膜层结构镀制在镜筒本体表面上，沿着远离镜筒的方向，减反膜层1和防水膜层2依次设置，即减反膜层1镀制在镜筒表面上，防水膜层2镀制减反膜层1上。
本发明的减反膜层1是由高折射率材料层和低折射率材料交替堆叠制成的。具体地，根据本发明减反膜层1的一种实施方式，减反膜层1的结构可以表示为(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示沿着远离镜筒的方向，高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。在根据本发明减反膜层1的另一种实施方式中，减反膜层1的结构还可以表示为L(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示沿着远离所述镜筒的方向，高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。
由上述可知，沿着远离镜筒表面的方向，减反膜层1最靠近镜筒表面的膜层可以为高折射率材料层或者低折射率材料层，当减反膜层1共包括膜层数为偶数时，贴近镜筒表面的膜层为高折射率材料层，当减反膜层1共包括膜层数为奇数时，贴近镜筒表面的膜层为低折射率材料层。需要注意的是，无论最贴近镜筒表面的膜层时高折射率材料层还是低折射率材料层，减反膜层1的最外侧必须是低折射率材料层，即与防水膜层2接触的是低折射率材料层，防水膜层2镀制低折射率材料层上。
如图1所示，图1是示意示意性表示当本发明的减反膜层1的结构为(HL)*n时的一种实施方式，在本实施方式中，n＝3，即减反膜层1包括6个膜层，沿着远离镜筒表面的方向由内到外依次为第一高折射率材料层11、第二低折射率材料层12、第三高折射率材料层13、第四低折射率材料层14、第五高折射率材料层15和第六低折射率材料层16。在本实施方式中，第一高折射率材料层11的厚度为5-25nm、第二低折射率材料层12的厚度为10-55nm、第三高折射率材料层13的厚度为20-90nm、第四低折射率材料层14的厚度为4-25nm、第五高折射率材料层15的厚度为15-80nm、第六低折射率材料层16的厚度为30-150nm。本发明的减反膜层1局限于上述实施方式，可以根据实际需要来相应增加膜层个数，例如可以共包括4-8层膜层等。
在本实施方式中，减反膜层1中高折射率材料层为折射率高于2.0的材料层，高折射率材料可以选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或者钛酸镧中的一种或多种，即减反膜层1中的所有高折射率材料层可以都是一种材料制成的材料层，也可以是多种材料制成的材料层，例如如图1所示，减反膜层1有六层膜层时，第一高折射率材料层11、第三高折射率材料层13和第五高折射率材料层15可以都是五氧化三钛材料层，也可以选自上述材料中的任一种。
同样地，在本实施方式中，减反膜层1中的低折射率材料层为折射率低于1.8的材料层，低折射率材料可以选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种。
本发明的膜层结构，设有减反膜层1，减反膜层1按照上述布置形式进行设置，保证减反膜层1的厚度为150-600nm，通过调整不同波长对应的反射强度改变其表面颜色，最终本发明的减反膜层1呈现黑色，能够降低镜筒的反射强度，使波长为400-700nm的可见光的反射率小于0.7％，从而有利于提高成像品质。
如图1所示，本发明的防水膜层2镀制在减反膜层1的外侧，防水膜层2由氟化物制成，厚度为4-20nm，水接触角大于110°。本发明的防水膜层2具有硬度高、防水性好的优点，可以对减反膜层1起到一定的保护作用，避免镀制有本发明的膜层结构的镜筒在与其他组件组装时对已经镀制好的造成擦伤、污染的情况发生。
如图2所示，根据本发明的第二种实施方式中，本发明的减反膜层1由高折射率材料层和低折射率材料交替镀制而成，沿着远离镜筒的方向，减反膜层包括第一铬的氧化物材料层1a和第二二氧化硅材料层1b，即第一铬的氧化物材料层1a镀制在镜筒表面上，第二二氧化硅材料层1b镀制在第一铬的氧化物材料层1a上，防水膜层2镀制在第二二氧化硅材料层1b。在本实施方式中，第一铬的氧化物材料层1a的厚度为30-500nm，第二二氧化硅材料层1b的厚度为10-200nm。当然，根据本实施方式的构思，减反膜层1可以包括2-4个膜层，例如，减反膜层1可以包括三个膜层，沿着远离镜筒的方向，分别为二氧化硅材料、铬的氧化物材料层、和二氧化硅材料层。总之，无论减反膜层1包括多少个膜层，需要保证减反膜层1的最外层为低折射率材料层。
在本发明的第二种实施方式中，将减反膜层1采用上述材料层进行设置，使减反膜层1本身呈现黑色，有利于降低镜筒表面的反射强度，提升产品的生产良率。
根据本发明的构思，在对镜筒镀制本发明的镜筒膜层还可以有以下实施方式，例如，按照上述第一种实施方式，将第一高折射率材料层11、第二低折射率材料层12、第三高折射率材料层13、第四低折射率材料层14、第五高折射率材料层15和第六低折射率材料层16依次镀制在镜筒表面上，高折射率材料可以选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或者钛酸镧中的一种或多种，低折射率材料可以选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种。然后再继续镀制第一铬的氧化物材料层1a和第二二氧化硅材料层1b，最外层镀制防水膜层2。
此种实施方式同样可以起到降低镜筒表面反射强度，提升产品良率的作用。此外，第一铬的氧化物材料层1a和第二二氧化硅材料层1b对已经镀制的在前膜层具有修复作用，可以有效避免和防止膜层擦伤污染，提高产品良率。
本发明的膜层结构的镀制方法如下：
在镜筒注塑成像之后使用排料机装入专用的镀膜治具，专用镀膜治具为方形板状体结构，尺寸大小为100*100mm。然后将需要镀膜的区域漏出，其余位置进行遮挡以防止污染。之后装入镀膜工件盘，需要镀膜面向下对准蒸发源。将所需镀膜材料分别放在固定的坩埚位，设定特定的背景正空度、镀膜温度、充氧流量等，利用磁场偏转电子束加热蒸发材料，在程序中输入设定的厚度，交替完成镀膜(此时包括完成减反膜层1和防水膜层2的镀制)。其中防水膜层2可以使用电子束和阻蒸的方式蒸镀。镀制的减反膜层1可以有两种结构，一种是上述第一种实施方式的减反膜层1的结构，另一种是上述第二种实施方式的结构。
此外，如果在镜筒1表面按照第一种实施方式镀制减反膜层1和防水膜层2，在镜筒与其他组件进行组装时，若镀制的膜层出现了损伤，可以将防水膜层2去掉，在已经镀制膜层上镀制第一铬的氧化物材料1a和第二二氧化硅材料层1b进行修复，之后再镀制防水膜层2。在对膜层修复时，需要使用一种特殊的溶于水的胶水涂在不需要修复处，防止污染，镀膜后使用水浸泡洗掉胶水，达到只在需要的特定位置上镀膜的需求。
以上所述仅为本发明的一个方案而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (11)
1.一种膜层结构，镀制在镜筒表面，其特征在于，包括：
减反膜层(1)，包括交替堆叠的高折射率材料层和低折射率材料层；
防水膜层(2)，沿远离所述镜筒的方向，所述防水膜层(2)设置在所述减反膜层(1)的外侧。
2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述防水膜层(2)镀制在所述低折射率材料层上。
3.根据权利要求2所述的膜层结构，其特征在于，沿着远离所述镜筒的方向，所述减反膜层(1)的结构可以表示为L(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示沿着远离所述镜筒的方向，高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。
4.根据权利要求2所述的膜层结构，其特征在于，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层(1)的结构可以表示为(HL)*n，其中H表示高折射率材料层，L表示低折射率材料，(HL)*n表示高折射率材料层和低折射率材料层交替设置n次，n为大于等于1的整数。
5.根据权利要求4所述的膜层结构，其特征在于，沿远离所述镜筒的方向，所述减反膜层(1)依次包括第一高折射率材料层(11)、第二低折射率材料层(12)、第三高折射率材料层(13)、第四低折射率材料层(14)、第五高折射率材料层(15)和第六低折射率材料层(16)。
6.根据权利要求5所述的膜层结构，其特征在于，所述第一高折射率材料层(11)的厚度为5-25nm、所述第二低折射率材料层(12)的厚度为10-55nm、所述第三高折射率材料层(13)的厚度为20-90nm、所述第四低折射率材料层(14)的厚度为4-25nm、所述第五高折射率材料层(15)的厚度为15-80nm、所述第六低折射率材料层(16)的厚度为30-150nm。
7.根据权利要求1-6任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述高折射率材料层为折射率高于2.0的材料层，选自氧化锆、氧化钽、五氧化三钛或钛酸镧中的一种或多种；
所述低折射率材料层为折射率小于1.8的材料层，选自一氧化硅、二氧化硅、氧化铝、硅铝混合物、氟化镁或氧化铬中的一种或多种。
8.根据权利要求7所述的膜层结构，其特征在于，所述减反膜层(1)的厚度为150-600nm，反射波长为400-700nm，反射率小于0.7％。
9.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，沿远离所述镜筒方向，所述减反膜层(1)依次包括第一铬的氧化物材料层(1a)和第二二氧化硅材料层(1b)，
所述第一铬的氧化物材料层(1a)的厚度为30-500nm；
所述第二二氧化硅材料层(1b)的厚度为10-200nm。
10.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述防水膜层(2)由氟化物制成，水接触角大于110°，厚度为4-20nm。
11.一种包含权利要求1-10任一项所述膜层结构的镜筒，包括镜筒本体和镀制在所述镜筒本体表面上的膜层结构。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810752961.6A CN108761582A (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810752961.6A CN108761582A (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108761582A true CN108761582A (zh) | 2018-11-06 |
Family
ID=63973030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810752961.6A Withdrawn CN108761582A (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108761582A (zh) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110161595A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-08-23 | 浙江舜宇光学有限公司 | 镀有减反膜系的光学镜片及光学镜头 |
| CN110174718A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-08-27 | 浙江舜宇光学有限公司 | 镀膜镜片及光学成像装置 |
| CN111225534A (zh) * | 2020-02-24 | 2020-06-02 | 维沃移动通信有限公司 | 一种盖板上色方法、盖板及电子设备 |
| CN111897034A (zh) * | 2020-08-21 | 2020-11-06 | 福建福特科光电股份有限公司 | 一种超大角度减反镜片 |
| CN112433269A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-03-02 | Oppo广东移动通信有限公司 | 黑色膜及其制备方法、镜筒、摄像头和电子设备 |
| CN113009600A (zh) * | 2019-12-19 | 2021-06-22 | 宁波舜宇光电信息有限公司 | 镜筒、摄像模组及摄像设备 |
| CN113031126A (zh) * | 2021-03-24 | 2021-06-25 | 浙江舜宇光学有限公司 | 防水减反膜、透镜和成像装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104730675A (zh) * | 2013-12-23 | 2015-06-24 | 大立光电股份有限公司 | 光学镜头以及可携装置 |
| CN107643554A (zh) * | 2017-11-01 | 2018-01-30 | 舜宇光学(中山)有限公司 | 减反膜镜片及其制备方法 |
| CN208351024U (zh) * | 2018-07-10 | 2019-01-08 | 浙江舜宇光学有限公司 | 膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 |
-
2018
- 2018-07-10 CN CN201810752961.6A patent/CN108761582A/zh not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104730675A (zh) * | 2013-12-23 | 2015-06-24 | 大立光电股份有限公司 | 光学镜头以及可携装置 |
| CN107643554A (zh) * | 2017-11-01 | 2018-01-30 | 舜宇光学(中山)有限公司 | 减反膜镜片及其制备方法 |
| CN208351024U (zh) * | 2018-07-10 | 2019-01-08 | 浙江舜宇光学有限公司 | 膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110161595A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-08-23 | 浙江舜宇光学有限公司 | 镀有减反膜系的光学镜片及光学镜头 |
| CN110174718A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-08-27 | 浙江舜宇光学有限公司 | 镀膜镜片及光学成像装置 |
| CN110161595B (zh) * | 2019-06-28 | 2024-01-30 | 浙江舜宇光学有限公司 | 镀有减反膜系的光学镜片及光学镜头 |
| CN113009600A (zh) * | 2019-12-19 | 2021-06-22 | 宁波舜宇光电信息有限公司 | 镜筒、摄像模组及摄像设备 |
| CN111225534A (zh) * | 2020-02-24 | 2020-06-02 | 维沃移动通信有限公司 | 一种盖板上色方法、盖板及电子设备 |
| CN111897034A (zh) * | 2020-08-21 | 2020-11-06 | 福建福特科光电股份有限公司 | 一种超大角度减反镜片 |
| CN112433269A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-03-02 | Oppo广东移动通信有限公司 | 黑色膜及其制备方法、镜筒、摄像头和电子设备 |
| CN113031126A (zh) * | 2021-03-24 | 2021-06-25 | 浙江舜宇光学有限公司 | 防水减反膜、透镜和成像装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108761582A (zh) | 膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 | |
| CN208351024U (zh) | 膜层结构以及包含该膜层结构的镜筒 | |
| CN203881963U (zh) | 环形光学元件、成像镜头组及移动装置 | |
| CN102909918B (zh) | 双面镀膜玻璃及其制备方法 | |
| CN100565248C (zh) | 新型抗反射导电膜 | |
| CN102922825B (zh) | 一种耐酸碱性减反射镀膜玻璃 | |
| CN102749667B (zh) | 用于图像芯片的光学滤波器 | |
| CN107632453A (zh) | 显示面板及制造方法和显示装置 | |
| KR100770514B1 (ko) | 액정 표시 소자용 기판 | |
| CN104007490B (zh) | 一种采用两种镀膜材料的光学增透膜 | |
| CN101236263A (zh) | 高透光率玻璃的显示器保护屏及使用该屏的液晶显示器 | |
| CN201166713Y (zh) | 新型抗反射导电膜 | |
| CN204719315U (zh) | 光学镜头和应用该光学镜头的电子设备 | |
| CN206618874U (zh) | 一种防蓝光膜结构和防蓝光镜片 | |
| CN202693835U (zh) | 一种用于图像芯片的光学滤波器 | |
| CN201000489Y (zh) | 高透光率玻璃的显示器保护屏及使用该屏的液晶显示器 | |
| CN106501992B (zh) | 一种彩膜基板和显示面板 | |
| CN105398120A (zh) | 消影增透透明薄膜、导电薄膜、导电玻璃及触摸屏 | |
| CN203965647U (zh) | 一种采用两种镀膜材料的光学增透膜 | |
| US7924374B2 (en) | Color filters for display devices | |
| CN205152070U (zh) | 一种减反射多层玻璃 | |
| CN103123433A (zh) | 镜头模组 | |
| CN103018796B (zh) | 一种光学显示用双膜系pc镜片及其制备方法 | |
| CN103135155A (zh) | 镜头模组 | |
| CN207586454U (zh) | 减反膜镜片 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20181106 |