JPH07134201A - 反射防止性光学部品及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】反射防止膜と合成樹脂からなる基材との密着性
を良くし、かつ広範囲の波長帯域に亘って低反射率を得
て、反射像が映るゴースト・フレア現象を起きにくく
し、さらには経時変化による無数のしわ・くぼみ状の欠
陥の発生を極力防止する。 【構成】合成樹脂からなるレンズ基材Ｌ上に屈折率を有
する物質が薄膜にて複数層積層された反射防止性レンズ
である。基材Ｌ上の最下層に形成される酸化ケイ素（Ｓ
ｉＯ₂ ）からなる第１の低屈折層１を、酸化けい素の分
子間に隙間が生じるような密度に形成するとともに、そ
の第１の低屈折層１の光学的膜厚を０．０２５λ〜０．
０７５λ（λは設計波長）とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は合成樹脂からなる基材上
に屈折率を持つ物質を薄膜にて複数層に亘って積層した
多層反射防止膜により、例えば可視領域等における反射
を防止するようにした反射防止性光学部品及びその製造
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば眼鏡レンズ等の光学部品に
おいて可視光領域での有効な反射防止効果を得るため
に、その表面に屈折率を持つ物質を薄膜にて複数層に亘
って積層して多層反射防止膜を形成することが広く行わ
れている。この多層反射防止膜の膜構成としては、３層
膜の場合、各層の膜厚をそれぞれ１／４λ（λ＝設計波
長）としたり、第１層，第３層を１／４λ、第２層のみ
を１／２λとする構成が良く用いられている。そして、
光学部品の基材を合成樹脂とした場合の反射防止膜を構
成する物質としては、反射防止効果が十分に得られるよ
うな適当な屈折率を有するとともに、形成した膜の品質
（硬度・透明度）が得られるような物質を選択すること
が必要となる。

【０００３】このような物質として、低屈折率層にはＳ
ｉＯ₂ ，ＳｉＯｘ等の酸化ケイ素が用いられ、高屈折率
層にはＺｒＯ₂ （酸化ジルコニウム），Ｔａ₂ Ｏ₅ （酸
化タンタル），ＴｉＯ₂ （酸化チタン）等が用いられて
いる。又、中屈折率層にはＡｌ₂ Ｏ₃ （酸化アルミニウ
ム），ＳｉＯｘ等あるいは低屈折率物質のＳｉＯ₂ ，Ｓ
ｉＯｘ等と、高屈折率物質のＺｒＯ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ ，Ｔ
ｉＯ₂ 等とから構成された等価膜層が用いられている。
合成樹脂基材に反射防止膜を形成する場合には、基材と
の密着性の向上のため、特に基材上の第１層（最下層）
をＳｉＯ₂ 膜とすることにより接着層としての役割をも
たせるようにしている。このとき、ＳｉＯ₂ の膜厚は密
着性を得るために１／４λあるいは１／２λ程度必要と
なってくる。又、基材が合成樹脂（プラスチック）レン
ズである場合、耐擦傷性に弱くキズがつき易いため基材
上にハードコート層を設け、その上に反射防止膜を形成
するようにしている。このような場合にもハードコート
層上の第１層にＳｉＯ₂ 膜を設けて密着性を得るように
している。

【０００４】反射防止膜を形成する方法としては、真空
中にて反射防止膜を構成する物質をＥＢ（電子銃）で加
熱・溶融して基材上に積層していく真空蒸着法が良く行
われている。この真空蒸着法では合成樹脂レンズに反射
防止膜を形成したときに、密着不良によるしわ状の欠陥
が発生することがある。そこで、このしわ状の欠陥を解
消する方法として、基材上に反射防止膜を構成する物質
を加熱・溶融して積層していく際に、イオンビームを照
射しながら膜を形成するという方法も行われている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、第１層がＳ
ｉＯ₂ 膜である反射防止膜が施された合成樹脂レンズ等
の光学部品においては、基材との密着性の向上を図るこ
とができても、反射防止特性が悪くなるという問題があ
る。

【０００６】この反射防止特性は反射率を測定すること
により示すことができるが、例えば合成樹脂レンズに反
射防止膜を形成したときの反射率は４００ｎｍ〜７５０
ｎｍの波長帯域で片面平均１〜２％程度である。このよ
うな反射率を示すのは、ＳｉＯ₂ の膜厚が１／４λある
いは１／２λ程度と比較的厚いので、膜厚の微妙な変化
に対して反射率変化が大きくなり、反射率が不安定とな
るためである。このため、反射防止膜が施された眼鏡レ
ンズのうち、特にその凹面に表面・裏面の反射像が映る
ゴースト・フレアという現象が起きて使用に際して若干
の支障がある。近年、さらに低反射の反射防止膜を施し
た合成樹脂レンズが求められているが、第１層のＳｉＯ
₂ 膜の膜厚が厚くなると、反射防止することが可能な波
長帯域が狭くなってしまい、それゆえ、多層反射防止膜
の膜厚設計の自由度が低くなるという問題もある。

【０００７】更に、反射防止膜を施した合成樹脂レンズ
においては、経時変化により大気中の水分・熱等の影響
により、その表面に無数のしわ・くぼみ状の欠陥が発生
して外観上好ましくないという問題が発生する場合があ
る。

【０００８】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は反射防止膜と合成樹脂か
らなる基材との密着性を良くし、かつ広範囲の波長帯域
に亘って低反射率を得ることができ、さらには経時変化
による無数のしわ・くぼみ状の欠陥の発生を極力防止す
ることができる反射防止性光学部品及びその製造方法を
提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、合成樹脂からなる光学部品基材上に屈折率
を有する物質を薄膜にて複数層積層した反射防止性光学
部品であって、前記基材上の少なくとも最下層に形成さ
れる前記屈折率を有する物質からなる薄膜を、同屈折率
を有する物質の分子間に隙間が生じるような密度にする
とともに、その薄膜の光学的膜厚を０．０２５λ〜０．
０７５λ（λは設計波長）とした。この場合、前記屈折
率を有する物質を酸化ケイ素としてもよい。又、前記基
材上に積層される薄膜を５層から構成し、その基材上に
光学的膜厚が０．０２５λ〜０．０７５λ（λは設計波
長）である屈折率１．４３〜１．４７の第１の低屈折層
を形成し、前記第１の低屈折層上に光学的膜厚が０．０
７５λ〜０．１２５λである屈折率１．８０〜２．２０
の第２の高屈折層を形成し、前記第２の高屈折層上に光
学的膜厚が０．０２５λ〜０．０７５λである屈折率
１．４３〜１．４７の第３の低屈折層を形成し、前記第
３の低屈折層に光学的膜厚が０．４７５λ〜０．５２５
λである屈折率１．８０〜２．２０の第４の高屈折層を
形成し、前記第４の高屈折層に光学的膜厚が０．２２５
λ〜０．２７５λである屈折率１．４３〜１．４７の第
５の低屈折層を形成してもよい。

【００１０】又、請求項４に記載の製造方法では、屈折
率を有する物質を槽内において分子レベルで飛散させて
合成樹脂からなる光学部品基材上に薄膜を複数層積層す
るようにした反射防止性光学部品の製造方法において、
前記基材上に少なくとも最下層の薄膜を槽内の圧力が１
×１０^-4torr〜１×１０^-3torrの状態で、０．０２５λ
〜０．０７５λ（λは設計波長）の光学的膜厚に形成す
るようにした。この場合、前記少なくとも最下層の薄膜
形成工程を、酸素、窒素、アルゴン、空気、フロンから
選択される少なくとも１種のガス雰囲気中で行うように
してもよい。

【００１１】

【作用】本発明によると、基材上の少なくとも最下層に
形成される薄膜を屈折率を有する物質の分子間に隙間が
生じるような密度にしたことにより、合成樹脂からなる
基材との密着性が良くなる。この理由としては、薄膜が
屈折率を有する物質の分子間に隙間が生じるような状態
にあると、基材の収縮又は膨張によりその基材に応力が
発生しても、前記薄膜がその応力を吸収して緩和する役
割を果たすものと考えられる。この結果、基材に対する
薄膜の追従性が向上して密着性が良くなる。又、経時変
化による無数のしわ・くぼみ状の欠陥は、大気中の水分
・熱等の影響により基材が収縮又は膨張して発生するも
のと考えられるが、前記と同様の理由から薄膜の応力吸
収作用によりその発生が極力防止される。

【００１２】更に、少なくとも最下層の薄膜の光学的膜
厚を０．０２５λ〜０．０７５λとしたことにより、比
較的薄い膜厚となる。従って、例えば、薄膜を３層から
なる等価膜層として構成するときに、基材側から第１層
（最下層）を低屈折層、第２層を高屈折層、第３層を低
屈折層としてそれぞれ適切な膜厚とすることで、低反射
の反射防止膜が広範囲の波長帯域に亘って得られる。し
かも、膜厚が多少ずれても反射特性が変わらない安定し
た低反射の反射防止膜が得られる。光学的膜厚を０．０
２５λ〜０．０７５λの範囲としたのは、その膜厚が
０．０２５λより薄いと反射防止のための適切な屈折率
を得ることができなくなり、０．０７５λより厚いと広
範囲の波長帯域に亘って低反射率が得られなくなるため
である。

【００１３】又、屈折率を有する物質を酸化ケイ素とし
たことにより、特に合成樹脂からなる基材との密着性が
良く、低屈折層として用いることにより低反射の反射防
止膜が得られる。なお、例えば、最下層にＳｉＯ₂ （酸
化ケイ素）膜を形成した場合の上層には、高屈折層とし
てＺr Ｏ₂ （酸化ジルコニウム）、Ｔａ₂ Ｏ₅ （酸化タ
ンタル）、ＴｉＯ₂ （酸化チタン）等が用いられる。

【００１４】又、前記基材上に積層される薄膜を全５層
とし、第１の低屈折層（最下層）の光学的膜厚を０．０
２５λ〜０．０７５λとしたことにより、密着性が良
く、より低反射の反射防止膜が得えられる。例えば、設
計波長を４７０〜６００ｎｍに設定したときには、４０
０ｎｍ〜７５０ｎｍの波長帯域での反射率が片面平均１
％以下となる。なお、本発明において光学部品基材は、
合成樹脂、表面にハードコートを施した合成樹脂等を用
いてもよい。又、光学部品としては眼鏡レンズ、カメラ
レンズ等の光学レンズ、反射防止フィルター等が挙げら
れる。

【００１５】請求項４に記載の製造方法によると、合成
樹脂からなる基材上に少なくとも最下層の薄膜が圧力１
×１０^-4torr〜１×１０^-3torrの状態で、０．０２５λ
〜０．０７５λの光学的膜厚に形成される。この圧力下
では屈折率を有する物質が分子レベルで飛散したとき
に、その分子が基材上へ到達するまでの距離が長くなっ
て、基材上に屈折率を有する物質の分子間に隙間が生じ
るような密度の薄膜が形成される。そして、このように
形成された薄膜は基材との密着性が良くなり、経時変化
によるしわ・くぼみ状の欠陥の発生が極力防止されると
ともに、広範囲の波長帯域に亘って低反射率が得られ
る。薄膜形成時の圧力を１×１０^-4torr〜１×１０^-3to
rrとしたのは、その圧力が１×１０^-4torrよりも低圧で
あると分子間が密になって良好な密着性あるいはしわ・
くぼみ状の欠陥の発生防止効果を発揮することができな
くなり、１×１０^-3torrよりも高圧であると薄膜形成に
支障をきたすためである。なお、屈折率を有する物質の
分子レベルでの飛散は、真空蒸着方法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等の種々の方法により行っ
てもよい。

【００１６】又、少なくとも最下層の薄膜形成工程が、
酸素、窒素、アルゴン、空気、フロンから選択される少
なくとも１種のガス雰囲気中で行われるようにすると、
ガスが飛散分子の進路を妨げるので前記と同様の密度の
薄膜が形成される。ガスを導入する場合、物質の加熱量
を通常よりも多くして薄膜を形成するようにしてもよ
い。このようにするとガスを導入しない場合とほぼ同じ
時間で薄膜が形成される。又、ガスの導入は最下層の薄
膜形成工程に限らず他の上層の薄膜形成工程で行っても
よい。

【００１７】

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により説明
する。 （実施例１）ウレタン系の合成樹脂レンズを連続式３槽
自動蒸着機の蒸着槽内に配置して排気する。第２槽へ移
動後、第２の槽内を１３０℃まで加熱した状態で真空圧
を１×１０^-3torrにＡｒ（アルゴン）ガスを導入して調
整し、ＳｉＯ₂ （酸化ケイ素）を加熱・溶融して、レン
ズ基材Ｌ上に光学的膜厚が０．０５５λ（設計波長λは
４７０ｎｍ）で屈折率１．４５の第１の低屈折層１を形
成した（図１）。次いで、第１の低屈折層１上に真空圧
１×１０^-5torrの状態でＺｒＯ₂ （酸化ジルコニウム）
を加熱・溶融して光学的膜厚が０．０９８λで屈折率
２．００の第２の高屈折層２を形成した（図１）。更
に、第２の高屈折層２上に同じ真空圧でＳｉＯ₂ を加熱
・溶融して光学的膜厚が０．０５λで屈折率１．４５の
第３の低屈折層３を形成した（図１）。次に、第３の低
屈折層３上にＺｒＯ₂ を加熱・溶融して光学的膜厚が
０．５λで屈折率２．００の第４の高屈折層４を形成し
た（図１）。次いで、第４の高屈折層４上に同じ真空圧
でＳｉＯ₂ を加熱・溶融して光学的膜厚が０．２５８λ
で屈折率１．４５の第５の低屈折層５を形成した（図
１）。そして、全５層からなる反射防止膜Ｂを得た。

【００１８】このようにして反射防止膜が形成された合
成樹脂レンズの片面の反射率特性（分光曲線）を測定し
た。測定結果を図２に示す。図２に示すように、４００
ｎｍ〜７５０ｎｍの波長帯域での反射率が片面平均１％
以下で、広範囲の波長帯域に亘って低反射率となってい
る。又、設計波長λが４７０ｎｍ付近の反射率ピークが
０．７％となっており、低反射率となっている。

【００１９】又、反射防止膜が形成された合成樹脂レン
ズ３０枚のサンプルについて、蒸着後１時間以上水中に
浸漬した後、超高圧水銀灯にて合成樹脂レンズのしわ・
くぼみ状欠陥の発生有無を目視にて確認した。サンプル
３０枚のうち１枚でもしわ状欠陥を確認した場合、「発
生有」、レンズの一部分にしわ状欠陥を確認した場合、
「若干有」とする。このテスト結果を表１に示す。表１
に示すように、しわ・くぼみ状の欠陥は１枚も発生しな
かった。

【００２０】更に、反射防止膜が形成された合成樹脂レ
ンズ３０枚のサンプルについて、密着性試験を行った。
試験はカッターナイフで試料に１ｍｍ方眼を１ｃｍ² 以
内に１００個形成した後、セロテープを全ての方眼上に
貼付けて引き剥がし、これを５回行ったのち、反射防止
膜の残っている部分を数えて、１００／１００であれば
「良」とする。このテスト結果を表１に示す。表１に示
すように、膜はがれは全くなかった。

【００２１】（実施例２，３）実施例１と同様の方法
で、実施例２ではＳｉＯ₂ からなる第１の低屈折層を光
学的膜厚が０．０７５λ（設計波長λは４７０ｎｍ）と
なるように形成した。このようにして反射防止膜が形成
された合成樹脂レンズの反射率特性を図３の破線にて示
す（実線は実施例１の反射率特性である）。図３に示す
ように、第１の低屈折層の膜厚が微妙に変化しても光学
的膜厚が０．０２５λ〜０．０７５λの範囲内であれ
ば、広範囲の波長帯域に亘って低反射率となり、反射率
特性及び干渉色（緑）が安定した反射防止膜が得られ
る。

【００２２】又、実施例３ではＳｉＯ₂ からなる第３の
低屈折層を光学的膜厚が０．０７５λとなるように形成
した。このときの反射率特性を図４の破線にて示す（実
線は実施例１の反射率特性である）。図４に示すよう
に、第１の低屈折層以外の膜厚が変化しても広範囲の波
長帯域に亘って低反射率となり、同様に反射率特性及び
干渉色が安定した反射防止膜が得られる。

【００２３】実施例２，３にて得られた合成樹脂レンズ
３０枚のサンプルについて、同様にしわ・くぼみ状欠陥
の確認と密着性試験を行った。このテスト結果を表１に
示す。表１に示すように、しわ・くぼみ状の欠陥は１枚
も発生せず、膜はがれは全くなかった。

【００２４】（実施例４〜８）実施例４ではウレタン系
の合成樹脂レンズの表面にシリコーン系のハードコート
をディッピングにより塗布したものを基材として、実施
例１と同様の方法で反射防止膜を形成した。実施例５で
は第１の低屈折層を真空圧が５×１０^-4torrの状態で形
成した。実施例６では第１の低屈折層を真空圧が１×１
０^-4torrの状態で形成した。実施例７では第１の低屈折
層を真空圧が５×１０^-5torrの状態で形成した。実施例
８では第１の低屈折層を真空圧が１×１０^-5torrの状態
で形成した。これら実施例４〜８の反射率特性における
ピーク値、しわ・くぼみ状欠陥の確認と密着性試験の結
果を表１に示す。表１に示すように、反射率ピークは全
て０．７％で低反射率となっている。又、膜はがれもな
くハードコートを施したレンズに対する密着性は良好で
あった。しわ状欠陥については、実施例７，８のレンズ
について一部分に確認された。

【００２５】（実施例９，１０）実施例９ではハードコ
ートが塗布されたウレタン系の合成樹脂レンズに、第１
の低屈折層を真空圧が１×１０^-4torrの状態で、蒸着槽
内にＯ₂ （酸素）ガスを導入して形成し、第２の高屈折
層の形成時にもＯ₂ ガスを導入した。実施例１０ではハ
ードコート付きレンズの第１の低屈折層の形成時のみ
に、真空圧が５×１０^-4torrの状態で、蒸着槽内にＯ₂
ガスを導入した。これら実施例９，１０の反射率特性に
おけるピーク値、しわ・くぼみ状欠陥の確認と密着性試
験の結果を表１に示す。表１に示すように、反射率ピー
クは０．７％で低反射率となっており、膜はがれもな
く、しわ状欠陥についても確認されなかった。

【００２６】（実施例１１，１２）実施例１１では実施
例９と同様の方法で第１の低屈折層及び第２の高屈折層
の形成時に、Ａｒ（アルゴン）ガスを導入した。実施例
１２では実施例１０と同様の方法で第１の低屈折層の形
成時に、Ａｒガスを導入した。これら実施例１１，１２
の反射率特性におけるピーク値、しわ・くぼみ状欠陥の
確認と密着性試験の結果を表１に示す。表１に示すよう
に、反射率ピークは０．７％で低反射率となっており、
膜はがれもなく、しわ状欠陥についても確認されなかっ
た。

【００２７】（比較例１，２）実施例１と同様の方法
で、比較例１ではＳｉＯ₂ からなる第１の低屈折層を光
学的膜厚が０．２５λ（設計波長λは４７０ｎｍ）とな
るように形成した。このようにして反射防止膜が形成さ
れた合成樹脂レンズの反射率特性を図４に示す。図２に
示すように、第１の低屈折層の膜厚を厚くすると、反射
率が高くなり、広範囲の波長帯域に亘って低反射率が得
られなくなる。

【００２８】又、比較例２ではＳｉＯ₂ からなる第３の
低屈折層を光学的膜厚が０．２７５λとなるように形成
した。このときの反射率特性を図６の破線にて示す（実
線は比較例１の反射率特性である。）。図６に示すよう
に、比較例２と同様に広範囲の波長帯域に亘って低反射
率が得られなくなる。

【００２９】（比較例３〜５）実施例４〜８と同様に、
比較例３では第１の低屈折層を真空圧が５×１０^-6torr
の状態で形成した。比較例４では第１の低屈折層を真空
圧が１×１０^-6torrの状態で形成した。比較例５では第
１の低屈折層を真空圧が５×１０^-7torrの状態で形成し
た。これら比較例３〜５の反射率特性におけるピーク
値、しわ・くぼみ状欠陥の確認と密着性試験の結果を表
１に示す。表１に示すように、反射率ピークは全て０．
７％で低反射率となっており、膜はがれもなかった。し
かしながら、真空圧を低くしたことによりしわ状欠陥の
発生が確認された。

【００３０】（比較例６，７）比較例６ではハードコー
トが塗布されたウレタン系の合成樹脂レンズに、第１の
低屈折層を真空圧が１×１０^-6torrの状態で、イオンア
シストによりＳｉＯ₂膜を形成した。比較例１０では第
２の高屈折層を真空圧が１×１０^-6torrの状態で、イオ
ンアシストによりＺｒＯ₂ 膜を形成した。これら比較例
６，７の反射率特性におけるピーク値、しわ・くぼみ状
欠陥の確認と密着性試験の結果を表１に示す。表１に示
すように、反射率ピークは全て０．７％で低反射率とな
っており、膜はがれもなかった。しかしながら、真空圧
を低くし、かつイオンアシストを行ったことによりしわ
状欠陥の発生が確認された。

【００３１】

【表１】

【００３２】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
反射防止膜と合成樹脂からなる基材との密着性を良く
し、かつ広範囲の波長帯域に亘って低反射率を得ること
ができ、それゆえ、反射像が映るゴースト・フレア現象
が起きにくくなり、さらには経時変化による無数のしわ
・くぼみ状の欠陥の発生を極力防止することができると
いう優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１における反射防止膜が形成さ
れた合成樹脂レンズを示す一部拡大断面図である。

【図２】本発明の実施例１における反射防止膜が形成さ
れた合成樹脂レンズの反射率特性を示す図である。

【図３】実施例１，２における反射防止膜が形成された
合成樹脂レンズの反射率特性を示す図である。

【図４】実施例１，３における反射防止膜が形成された
合成樹脂レンズの反射率特性を示す図である。

【図５】比較例１における反射防止膜が形成された合成
樹脂レンズの反射率特性を示す図である。

【図６】比較例１，２における反射防止膜が形成された
合成樹脂レンズの反射率特性を示す図である。

【符号の説明】

１…第１の低屈折層、２…第２の高屈折層２、３…第３
の低屈折層、４…第４の高屈折層、５…第５の低屈折層
５、Ｌ…レンズ基材、Ｂ…反射防止膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 康洋 愛知県岡崎市恵田町字下田５番地26号 東 海光学株式会社内 (72)発明者 鬼崎 康成 愛知県岡崎市恵田町字下田５番地26号 東 海光学株式会社内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 合成樹脂からなる光学部品基材上に屈折
   率を有する物質を薄膜にて複数層積層した反射防止性光
   学部品であって、 前記基材上の少なくとも最下層に形成される前記屈折率
   を有する物質からなる薄膜を、同屈折率を有する物質の
   分子間に隙間が生じるような密度に形成するとともに、
   その薄膜の光学的膜厚を０．０２５λ〜０．０７５λ
   （λは設計波長）としたことを特徴とする反射防止性光
   学部品。
2. 【請求項２】 前記屈折率を有する物質は酸化ケイ素で
   あることを特徴とする請求項１に記載の反射防止性光学
   部品。
3. 【請求項３】 前記基材上に積層される薄膜を５層から
   構成し、その基材上に光学的膜厚が０．０２５λ〜０．
   ０７５λ（λは設計波長）である屈折率１．４３〜１．
   ４７の第１の低屈折層を形成し、 前記第１の低屈折層上に光学的膜厚が０．０７５λ〜
   ０．１２５λである屈折率１．８０〜２．２０の第２の
   高屈折層を形成し、 前記第２の高屈折層上に光学的膜厚が０．０２５λ〜
   ０．０７５λである屈折率１．４３〜１．４７の第３の
   低屈折層を形成し、 前記第３の低屈折層に光学的膜厚が０．４７５λ〜０．
   ５２５λである屈折率１．８０〜２．２０の第４の高屈
   折層を形成し、 前記第４の高屈折層に光学的膜厚が０．２２５λ〜０．
   ２７５λである屈折率１．４３〜１．４７の第５の低屈
   折層を形成したことを特徴とする請求項１又は２に記載
   の反射防止性光学部品。
4. 【請求項４】 屈折率を有する物質を槽内において分子
   レベルで飛散させて合成樹脂からなる光学部品基材上に
   薄膜を複数層積層するようにした反射防止性光学部品の
   製造方法において、 前記基材上に少なくとも最下層の薄膜を槽内の圧力が１
   ×１０^-4torr〜１×１０^-3torrの状態で、０．０２５λ
   〜０．０７５λ（λは設計波長）の光学的膜厚に形成す
   るようにしたことを特徴とする反射防止性光学部品の製
   造方法。
5. 【請求項５】 前記少なくとも最下層の薄膜形成工程
   は、酸素、窒素、アルゴン、空気、フロンから選択され
   る少なくとも１種のガス雰囲気中で行われることを特徴
   とする請求項４に記載の反射性光学部品の製造方法。