CN107639072A - 一种陶瓷清洗方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种陶瓷清洗方法，包括以下步骤：除胶：采用加热至65±5℃的有机碱性洗剂进行超声波清洗；清除油污、脏污后喷淋：用加热至60‑85℃、质量分数为3‑10％水基环保清洗剂进行超声波清洗，然后用常温去离子水进行喷淋；纯水超声波清洗：用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；脱水烘干：用70±5℃的去离子水对陶瓷产品进行浸泡加热再脱水；使用温度在100±10℃的空气对产品表面进行烘干。本发明采用有机碱性洗剂进行除胶、除油污以及脏污，取代传统强酸性、强碱性、强腐蚀性洗剂的使用，通过逐个不良除去以及多次喷淋清洗，减少洗剂之间的交叉污染，同时保证了陶瓷产品表面的清洗效果。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷产品加工清洗的技术领域，特别地，涉及一种能除去陶瓷抛光液残留在陶瓷表面的硅溶胶成分的陶瓷清洗方法。
背景技术
在陶瓷材料在生产加工过程中，为满足产品表面要求所进行的除油险除污垢除灰尘步骤，需要使用陶瓷材料超声波清洗机对陶瓷进行清洗。陶瓷材料超声波清洗机一般设有抛动系统、超声波系统、过滤循环系统等，步骤一般为环保型水溶剂洗涤、纯水漂洗，然后进行热风干燥。
在超声波清洗机中对陶瓷产品进行清洗之前，需对陶瓷产品使用陶瓷抛光液进行抛光。陶瓷抛光液含有硅溶胶成分，硅溶胶具有极强粘性且易于结晶，结晶后粘附在产品表面，传统的清洗方式难以除去表面已结晶的硅溶胶。
发明内容
本发明目的在于提供一种的陶瓷清洗方法，以解决采用强酸性、强碱性、强腐蚀性、氧化还原、有机溶剂的现有陶瓷清洗方法存在的清洗不彻底、易腐蚀设备并且对操作人员及环境危害大的技术问题。
为实现上述目的，本发明提供了一种陶瓷清洗方法，包括以下步骤：
A、除胶：采用加热至65±5℃的有机碱性洗剂进行超声波清洗；
B、清除油污、脏污后喷淋：用加热至60-85℃、质量分数为3-10％水基环保清洗剂进行超声波清洗，然后用常温去离子水进行喷淋，至少重复2次；
C、纯水超声波清洗：用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；
D、脱水烘干：用70±5℃的去离子水对陶瓷产品进行浸泡加热，再进行脱水；使用温度在100±10℃、尘埃粒子含量达到Class1000无尘室标准的空气对产品表面进行烘干。
优选的，步骤A中：采用质量分数为100％、温度在65±5℃的LR-301溶剂型碱性有机环保脱模剂，设定超声波频率为28KHZ，除胶清洗时间为600秒；采用带上下抛动功能的单槽清洗机进行清洗，清洗后进行纯水浸泡，除去表面残留的清洗剂。
优选的，步骤B的用加热至60-85℃、质量分数为3-10％水基环保清洗剂进行超声波清洗中，包括：
B1、进行粗除油污，采用质量分数为8-10％、温度在80±5℃的水基环保清洗剂；超声波频率为28KHZ，清洗120秒；
B2、进行精除油污，采用质量分数为3-5％、温度在80±5℃的水基环保清洗剂；超声波频率为40KHZ，清洗120秒。
优选的，步骤B的用加热至60-85℃、质量分数为3-10％水基环保清洗剂进行超声波清洗中，在步骤B1和B2之后还包括：
B1、进行粗除脏污，采用质量分数为8-10％、温度在65±5℃℃的水基环保清洗剂；超声波频率为28KHZ，清洗120秒；
B2、进行精除脏污，采用质量分数为3-5％、温度在65±5℃℃的水基环保清洗剂；超声波频率为40KHZ，清洗120秒。
优选的，步骤C包括：三个单独的清洗槽中分三次纯水漂洗，每一次均在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
本发明具有以下有益效果：
本发明采用有机碱性洗剂进行除胶、除油污以及脏污，取代传统强酸性、强碱性、强腐蚀性洗剂的使用，通过逐个不良除去以及多次喷淋清洗，减少洗剂之间的交叉污染，同时保证了陶瓷产品表面的清洗效果。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将对本发明作进一步详细的说明。
具体实施方式
以下对本发明的实施例进行详细说明，但是本发明可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
实施例1
本实施例中清洗的为153.44±0.1*76.00±0.08mm*0.7±0.05mm陶瓷产品，采用的去离子水电阻率为18MΩ.cm，循环进水量:3-5L/min，超声波电流控制在：2.5±0.5A；清洗车间按照要求达到千级无尘室标准，按以下具体工艺步骤进行清洗：
1、除胶，采用质量分数为100％的溶剂型环保清洗剂(采用湖南利尔电子材料有限公司的LR-301型碱性有机环保脱模剂，其主要成分为：三乙醇胺、二乙醇胺、乙二醇乙醚、异丙基苯磺酸钠，pH值在12-13)加热至65±5℃进行超声波清洗，在28KHZ的超声波环境下清洗600秒。
2、粗除油污，采用质量分数为10％水基环保清洗剂(WIN-152B)加热至80±5℃进行超声波清洗，在28KHZ的超声波环境下清洗120秒。
3、精除油污，采用质量分数为5％水基环保清洗剂(WIN-152B)加热至80±5℃进行超声波清洗，在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
4、喷淋，用常温去离子水进行喷淋120秒；
5、粗除脏污，采用质量分数为10％水基环保清洗剂(WIN-62)加热至65±5℃进行超声波清洗；在28KHZ的超声波环境下清洗120秒。
6、精除脏污，采用质量分数为5％水基环保清洗剂(WIN-62)加热至65±5℃进行超声波清洗；在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
7、喷淋，用常温去离子水进行喷淋120秒；
8、水洗残留的除洗剂，用加热至70±5℃纯水进行超声波清洗，在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
9、喷淋，用常温去离子水喷淋120秒；
10、纯水超声波清洗，用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
11、纯水超声波清洗，用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
12、纯水超声波清洗，用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
13、慢拉脱水，将上述三步清洗后的陶瓷产品浸入70±5℃的去离子水中，通过去离子水导热，然后在10±1Hz的超声波环境下将蓝宝石晶片缓慢拉出，从去离子水中拉出的陶瓷产品在余热的状态下将表面的残余水滴蒸发，实现陶瓷产品表面初步脱水。
14、烘干，将初步脱水后的陶瓷产品使用100±10℃的空气进行烘干，空气需经过高效过滤净化、除油、除水，尘埃粒子含量达到Class1000无尘室标准。
15、去静电：通过离子风机对陶瓷产品表面除静电。
其余实施例的工艺过程与上述实施例一致，各个步骤中不同的工艺参数请见下表：
对比实施例：
本对比实施例中清洗的为153.44±0.1*76.00±0.08mm*0.7±0.05mm陶瓷产品，采用的去离子水电阻率为18MΩ.cm，循环进水量:3-5L/min，超声波电流控制在：2.5±0.5A；清洗车间按照要求达到千级无尘室标准，按以下具体工艺步骤进行清洗：
1、除胶，采用质量分数为15％的氢氧化钠溶液加热至80±5℃进行超声波清洗，在28KHZ的超声波环境下清洗600秒。
2、粗除油污，采用质量分数为10％氢氧化钠溶液加热至80±5℃进行超声波清洗，在28KHZ的超声波环境下清洗120秒。
3、精除油污，采用质量分数为5％氢氧化钠溶液加热至80±5℃进行超声波清洗，在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
4、喷淋，用常温去离子水进行喷淋120秒；
5、粗除脏污，采用质量分数为10％水基环保清洗剂(WIN-62)加热至65±5℃进行超声波清洗；在28KHZ的超声波环境下清洗120秒。
6、精除脏污，采用质量分数为5％水基环保清洗剂(WIN-62)加热至65±5℃进行超声波清洗；在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
7、喷淋，用常温去离子水进行喷淋120秒；
8、水洗除洗剂残留，用加热至70±5℃纯水进行超声波清洗，在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
9、喷淋，用常温去离子水喷淋120秒；
10、纯水超声波清洗，用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
11、纯水超声波清洗，用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
12、纯水超声波清洗，用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
13、慢拉脱水，将上述三步清洗后的陶瓷产品浸入70±5℃的去离子水中，通过去离子水导热，然后在10±1Hz的超声波环境下将蓝宝石晶片缓慢拉出，从去离子水中拉出的陶瓷产品在余热的状态下将表面的残余水滴蒸发，实现陶瓷产品表面初步脱水。
14、烘干，将初步脱水后的陶瓷产品使用100±10℃的空气进行烘干，空气需经过高效过滤净化、除油、除水，尘埃粒子含量达到Class1000无尘室标准。
15、去静电：通过离子风机对陶瓷产品表面除静电。
各个实施例的清洗结果如下表所示：
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种陶瓷清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
A、除胶：采用加热至65±5℃的有机碱性洗剂进行超声波清洗；
B、清除油污、脏污后喷淋：用加热至60-85℃、质量分数为3-10％水基环保清洗剂进行超声波清洗，然后用常温去离子水进行喷淋，至少重复2次；
C、纯水超声波清洗：用65±5℃的去离子水进行超声波清洗；
D、脱水烘干：用70±5℃的去离子水对陶瓷产品进行浸泡加热，再进行脱水；使用温度在100±10℃、尘埃粒子含量达到Class1000无尘室标准的空气对产品表面进行烘干。
2.根据权利要求1所述的陶瓷清洗方法，其特征在于，步骤A中：采用质量分数为100％、温度在65±5℃的LR-301溶剂型碱性有机环保脱模剂，设定超声波频率为28KHZ，除胶清洗时间为600秒；采用带上下抛动功能的单槽清洗机进行清洗，清洗后进行纯水浸泡，除去表面残留的清洗剂。
3.根据权利要求1所述的陶瓷清洗方法，其特征在于，步骤B的用加热至60-85℃、质量分数为3-10％水基环保清洗剂进行超声波清洗中，包括：
B1、进行粗除油污，采用质量分数为8-10％、温度在80±5℃的水基环保清洗剂；超声波频率为28KHZ，清洗120秒；
B2、进行精除油污，采用质量分数为3-5％、温度在80±5℃的水基环保清洗剂；超声波频率为40KHZ，清洗120秒。
4.根据权利要求3所述的陶瓷清洗方法，其特征在于，步骤B的用加热至60-85℃、质量分数为3-10％水基环保清洗剂进行超声波清洗中，在步骤B1和B2之后还包括：
B1、进行粗除脏污，采用质量分数为8-10％、温度在65±5℃℃的水基环保清洗剂；超声波频率为28KHZ，清洗120秒；
B2、进行精除脏污，采用质量分数为3-5％、温度在65±5℃℃的水基环保清洗剂；超声波频率为40KHZ，清洗120秒。
5.根据权利要求1-4任一项所述的陶瓷清洗方法，其特征在于，步骤C包括：
在三个单独的清洗槽中分三次纯水漂洗，每一次均在40KHZ的超声波环境下清洗120秒。
6.根据权利要求1-4任一项所述的陶瓷清洗方法，其特征在于，步骤D脱水包括：
慢拉脱水设定慢拉频率为10±1HZ。
7.根据权利要求1-4任一项所述的陶瓷清洗方法，其特征在于，去离子水采用超纯水电阻率≥15MΩ·cm的去离子水，并且循环过滤使用，循环进水量为3-5L/min。
8.根据权利要求1-4任一项所述的陶瓷清洗方法，其特征在于，超声波设定电流强度为2.5±0.5A。
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