CN107556054A - 一种日用陶瓷坯体的施釉工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种日用陶瓷坯体的施釉工艺，涉及日用陶瓷技术领域，包括如下步骤：(1)釉料准备，(2)釉浆配制，(3)自动化施釉，(4)坯体擦底。本发明通过在釉料准备阶段将釉料进行抽真空和冷冻处理来大大减小釉料的粉碎粒度，减轻釉料粉碎过程中对粉碎机叶片的磨损程度，同时缩短粉碎时间；通过所述施釉工艺保证施釉质量，使釉料经烧制后在陶瓷坯体表面形成手感光滑细腻、光泽晶莹亮丽、线条明快流畅的釉面，从而提高所制陶瓷产品的市场竞争力。
Description
技术领域：
本发明涉及日用陶瓷技术领域，具体涉及一种日用陶瓷坯体的施釉工艺。
背景技术：
日用陶瓷，顾名思义是指人们日常生活中必不可少的生活用瓷。人们在日常生活中接触最多的是陶瓷类餐具、茶具、咖啡具、酒具、饭具等，使用十分广泛。施釉工艺是指在成型的陶瓷坯体表面施以釉浆以形成釉层的过程，具有如下作用：改善陶瓷制品的表面性能，使制品表面更光滑，不易沾污；釉层可以降低坯体的吸水率，能阻止液体和气体透过；釉层能提高制品的机械强度，延长陶瓷制品的寿命；能提高陶瓷制品的化学稳定性和热稳定性；能起到装饰作用，大大提高陶瓷制品的艺术效果。
釉浆的配制是施釉工艺的关键步骤之一，想要提高釉层的表面光滑度并防止釉层出现气孔，在严格筛选釉料原料的同时需要控制最终釉浆中釉料的粒度。釉料的主要原料来自于天然矿石成分，其硬度较高，目前常用粒度控制方法是粉碎和球磨方式结合，但球磨方式所需时间较长，而粉碎机的粉碎粒度有限，且粉碎叶片的磨损较严重，因此在控制釉料粒度的同时需要考虑球磨时间及粉碎机叶片使用寿命的问题。
发明内容：
本发明所要解决的技术问题在于提供一种操作简单且能有效保证施釉质量以提高产品市场竞争力的日用陶瓷坯体的施釉工艺。
本发明所要解决的技术问题采用以下的技术方案来实现：
一种日用陶瓷坯体的施釉工艺，包括如下步骤：
(1)釉料准备：将釉料充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后置于 -15℃环境中冷冻3-5h，取出釉料，并利用粉碎机制成270目的微粉，再以5-10℃/min的升温速度加热至115-125℃保温混合10-15min，自然冷却至室温；
(2)釉浆配制：将水加热至40-50℃保温搅拌5-10min，再加入经上述处理后的釉料，继续于40-50℃下保温搅拌15-30min，经自然冷却至室温后静置 0.5-1h，并过270目筛，所得滤液转入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm，即得釉浆；
(3)自动化施釉：将上述所制釉浆送入自动喷釉机中，利用自动喷釉机对陶瓷坯体进行施釉，保证釉浆喷施均匀；
(4)坯体擦底：利用擦底装置将施釉后的陶瓷坯体底部多余釉浆擦去，然后利用传送设备将陶瓷坯体送入窑炉中进行烧制工序。
所述釉料由如下重量份数的原料混合制成：长石粉15-25份、重质碳酸钙 1-5份、超细氧化镁1-5份、微细二氧化硅气凝胶1-5份、分子筛原粉0.5-2份、纳米钛白粉0.5-2份、无机颜料0.5-2份、羟丙基甲基纤维素0.5-2份。
所述釉料与水的质量比为1:2-5。
所述擦底装置包括机架、擦拭机构和清洗机构，所述擦拭机构由第一转轮、第二转轮、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带以及驱动第一转轮旋转的第一电机组成，传送带上紧密外套有擦釉布，所述清洗机构由装有清洗液的清洗槽、通过辊筒安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
所述海绵清洗辊由第一海绵清洗辊和第二海绵清洗辊组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转。
所述清洗液的制备步骤如下：
(1)将25g泊洛沙姆407加热至120-125℃保温搅拌10min，再加入5g水解聚马来酸酐和1g三羟甲基丙烷三缩水甘油醚，继续在120-125℃保温搅拌30 min，研磨下自然冷却至室温，即得改性泊洛沙姆；
(2)向300g水中加入改性泊洛沙姆和10g羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸- 壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入2g羟丙基淀粉醚和1g田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm即可。
羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖的制备：搅拌下向5g羟丙基-β-环糊精和15g土壤级多聚谷氨酸的混合粉体中滴加55-60℃热水直至完全溶解，并利用微波频率2450MHz、输出功率700W的微波处理器微波回流处理10min，间隔10min后继续微波回流处理10min，然后加入5g壳寡糖，补加55-60℃热水使壳寡糖完全溶解，再次微波回流处理10min，所得混合物以5-10℃/min的冷却速度冷却至10℃以下并保温静置30min，最后于70-75℃下保温研磨至水分挥干，即得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖。
羟丙基-β-环糊精、多聚谷氨酸与壳寡糖经酯化反应(化学交联)后制得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖，在保证水溶性的基础上显著增强其对釉料的清洗能力。
本发明的有益效果是：
(1)通过在釉料准备阶段将釉料进行抽真空和冷冻处理来大大减小釉料的粉碎粒度，减轻釉料粉碎过程中对粉碎机叶片的磨损程度，同时缩短粉碎时间；通过所述施釉工艺保证施釉质量，使釉料经烧制后在陶瓷坯体表面形成手感光滑细腻、光泽晶莹亮丽、线条明快流畅的釉面，从而提高所制陶瓷产品的市场竞争力；
(2)通过传送带与擦釉布的分开设置，避免直接以擦釉布作为传送带存在的转轮磨擦损耗，延长擦釉布的使用寿命，并且便于擦釉布的更换；再通过海绵清洗辊与擦釉布的过盈接触以及反向旋转，利用粘附有清洗液的海绵清洗辊即时将擦釉布上附着的釉液清洗除去，以保证擦釉布对后续陶瓷坯体底部釉液的擦拭效果，防止擦釉布因粘附过多釉液而难以正常工作；
(3)所述清洗液属于水性清洗液，不含有机溶剂，使用安全性高；且该清洗液能有效清除擦釉布上附着的釉液，从而显著降低擦釉布上釉液的残留率，经试验测得其釉液残留率最低低至0.06％以下；同时该清洗液的使用周期长，降低了清洗液的更换频率，在废弃时只需通过简单的水处理工艺处理后即可直排，减轻了废水处理难度和对环境的污染。
附图说明：
图1为本发明的结构示意图；
其中：1-机架；2-第一转轮；3-第二转轮；4-传送带；5-第一电机；6-擦釉布；7-清洗槽；8-辊筒；9-第二电机；10-第一海绵清洗辊；11-第二海绵清洗辊。
具体实施方式：
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示和实施例，进一步阐述本发明。
实施例1
一种日用陶瓷坯体的施釉工艺，包括如下步骤：
(1)釉料准备：将釉料充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后置于 -15℃环境中冷冻5h，取出釉料，并利用粉碎机制成270目的微粉，再以5-10℃ /min的升温速度加热至115-125℃保温混合15min，自然冷却至室温；
(2)釉浆配制：将水加热至40-50℃保温搅拌10min，再加入经上述处理后的釉料，继续于40-50℃下保温搅拌30min，经自然冷却至室温后静置1h，并过270目筛，所得滤液转入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm，即得釉浆；其中，釉料与水的质量比为1:2；
(3)自动化施釉：将上述所制釉浆送入自动喷釉机中，利用自动喷釉机对陶瓷坯体进行施釉，保证釉浆喷施均匀；
(4)坯体擦底：利用擦底装置将施釉后的陶瓷坯体底部多余釉浆擦去，然后利用传送设备将陶瓷坯体送入窑炉中进行烧制工序。
釉料的制备：将20g长石粉、3g重质碳酸钙、2g超细氧化镁、1g微细二氧化硅气凝胶、0.5g分子筛原粉、0.5g纳米钛白粉、0.5g无机颜料、0.5g羟丙基甲基纤维素充分混合。
实施例2
一种日用陶瓷坯体的施釉工艺，包括如下步骤：
(1)釉料准备：将釉料充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后置于 -15℃环境中冷冻5h，取出釉料，并利用粉碎机制成270目的微粉，再以5-10℃/min的升温速度加热至115-125℃保温混合15min，自然冷却至室温；
(2)釉浆配制：将水加热至40-50℃保温搅拌10min，再加入经上述处理后的釉料，继续于40-50℃下保温搅拌30min，经自然冷却至室温后静置1h，并过270目筛，所得滤液转入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm，即得釉浆；其中，釉料与水的质量比为1:2；
(3)自动化施釉：将上述所制釉浆送入自动喷釉机中，利用自动喷釉机对陶瓷坯体进行施釉，保证釉浆喷施均匀；
(4)坯体擦底：利用擦底装置将施釉后的陶瓷坯体底部多余釉浆擦去，然后利用传送设备将陶瓷坯体送入窑炉中进行烧制工序。
釉料的制备：将25g长石粉、5g重质碳酸钙、2g超细氧化镁、2g微细二氧化硅气凝胶、0.5g分子筛原粉、0.5g纳米钛白粉、0.5g无机颜料、0.5g羟丙基甲基纤维素充分混合。
实施例3
(1)釉料准备：将釉料充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后置于 -15℃环境中冷冻5h，取出釉料，并利用粉碎机制成270目的微粉，再以5-10℃ /min的升温速度加热至115-125℃保温混合15min，自然冷却至室温；
(2)釉浆配制：将水加热至40-50℃保温搅拌10min，再加入经上述处理后的釉料，继续于40-50℃下保温搅拌30min，经自然冷却至室温后静置1h，并过270目筛，所得滤液转入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm，即得釉浆；其中，釉料与水的质量比为1:2；
(3)自动化施釉：将上述所制釉浆送入自动喷釉机中，利用自动喷釉机对陶瓷坯体进行施釉，保证釉浆喷施均匀；
(4)坯体擦底：利用擦底装置将施釉后的陶瓷坯体底部多余釉浆擦去，然后利用传送设备将陶瓷坯体送入窑炉中进行烧制工序。
釉料的制备：将25g长石粉、5g重质碳酸钙、2g超细氧化镁、2g微细二氧化硅气凝胶、0.5g分子筛原粉、0.5g纳米钛白粉、0.5g无机颜料、0.5g羟丙基甲基纤维素充分混合。
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转。
实施例4
(1)釉料准备：将釉料充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后置于 -15℃环境中冷冻5h，取出釉料，并利用粉碎机制成270目的微粉，再以5-10℃ /min的升温速度加热至115-125℃保温混合15min，自然冷却至室温；
(2)釉浆配制：将水加热至40-50℃保温搅拌10min，再加入经上述处理后的釉料，继续于40-50℃下保温搅拌30min，经自然冷却至室温后静置1h，并过270目筛，所得滤液转入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm，即得釉浆；其中，釉料与水的质量比为1:2；
(3)自动化施釉：将上述所制釉浆送入自动喷釉机中，利用自动喷釉机对陶瓷坯体进行施釉，保证釉浆喷施均匀；
(4)坯体擦底：利用擦底装置将施釉后的陶瓷坯体底部多余釉浆擦去，然后利用传送设备将陶瓷坯体送入窑炉中进行烧制工序。
釉料的制备：将25g长石粉、5g重质碳酸钙、2g超细氧化镁、2g微细二氧化硅气凝胶、0.5g分子筛原粉、0.5g纳米钛白粉、0.5g无机颜料、0.5g羟丙基甲基纤维素充分混合。
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转。
清洗液的制备：
(1)将25g泊洛沙姆407加热至120-125℃保温搅拌10min，再加入5g水解聚马来酸酐和1g三羟甲基丙烷三缩水甘油醚，继续在120-125℃保温搅拌30 min，研磨下自然冷却至室温，即得改性泊洛沙姆；
(2)向300g水中加入改性泊洛沙姆和10g羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸- 壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入2g羟丙基淀粉醚和1g田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm即可。
羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖的制备：搅拌下向5g羟丙基-β-环糊精和15g土壤级多聚谷氨酸的混合粉体中滴加55-60℃热水直至完全溶解，并利用微波频率2450MHz、输出功率700W的微波处理器微波回流处理10min，间隔10min后继续微波回流处理10min，然后加入5g壳寡糖，补加55-60℃热水使壳寡糖完全溶解，再次微波回流处理10min，所得混合物以5-10℃/min的冷却速度冷却至10℃以下并保温静置30min，最后于70-75℃下保温研磨至水分挥干，即得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖。
对照例1
(1)釉料准备：将釉料充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后置于 -15℃环境中冷冻5h，取出釉料，并利用粉碎机制成270目的微粉，再以5-10℃ /min的升温速度加热至115-125℃保温混合15min，自然冷却至室温；
(2)釉浆配制：将水加热至40-50℃保温搅拌10min，再加入经上述处理后的釉料，继续于40-50℃下保温搅拌30min，经自然冷却至室温后静置1h，并过270目筛，所得滤液转入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm，即得釉浆；其中，釉料与水的质量比为1:2；
(3)自动化施釉：将上述所制釉浆送入自动喷釉机中，利用自动喷釉机对陶瓷坯体进行施釉，保证釉浆喷施均匀；
(4)坯体擦底：利用擦底装置将施釉后的陶瓷坯体底部多余釉浆擦去，然后利用传送设备将陶瓷坯体送入窑炉中进行烧制工序。
釉料的制备：将25g长石粉、5g重质碳酸钙、2g超细氧化镁、2g微细二氧化硅气凝胶、0.5g分子筛原粉、0.5g纳米钛白粉、0.5g无机颜料、0.5g羟丙基甲基纤维素充分混合。
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转。
清洗液的制备：
(1)将25g泊洛沙姆407加热至120-125℃保温搅拌10min，再加入5g水解聚马来酸酐和1g三羟甲基丙烷三缩水甘油醚，继续在120-125℃保温搅拌30 min，研磨下自然冷却至室温，即得改性泊洛沙姆；
(2)向300g水中加入改性泊洛沙姆、2g羟丙基-β-环糊精、6g多聚谷氨酸和2g壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入2g羟丙基淀粉醚和1 g田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm即可。
对照例2
(1)釉料准备：将釉料充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后置于 -15℃环境中冷冻5h，取出釉料，并利用粉碎机制成270目的微粉，再以5-10℃ /min的升温速度加热至115-125℃保温混合15min，自然冷却至室温；
(2)釉浆配制：将水加热至40-50℃保温搅拌10min，再加入经上述处理后的釉料，继续于40-50℃下保温搅拌30min，经自然冷却至室温后静置1h，并过270目筛，所得滤液转入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm，即得釉浆；其中，釉料与水的质量比为1:2；
(3)自动化施釉：将上述所制釉浆送入自动喷釉机中，利用自动喷釉机对陶瓷坯体进行施釉，保证釉浆喷施均匀；
(4)坯体擦底：利用擦底装置将施釉后的陶瓷坯体底部多余釉浆擦去，然后利用传送设备将陶瓷坯体送入窑炉中进行烧制工序。
釉料的制备：将25g长石粉、5g重质碳酸钙、2g超细氧化镁、2g微细二氧化硅气凝胶、0.5g分子筛原粉、0.5g纳米钛白粉、0.5g无机颜料、0.5g羟丙基甲基纤维素充分混合。
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转。
清洗液的制备：
向300g水中加入25g泊洛沙姆407和10g羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入2g羟丙基淀粉醚和1g田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm即可。
羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖的制备：搅拌下向5g羟丙基-β-环糊精和15g土壤级多聚谷氨酸的混合粉体中滴加55-60℃热水直至完全溶解，并利用微波频率2450MHz、输出功率700W的微波处理器微波回流处理10min，间隔10min后继续微波回流处理10min，然后加入5g壳寡糖，补加55-60℃热水使壳寡糖完全溶解，再次微波回流处理10min，所得混合物以5-10℃/min的冷却速度冷却至10℃以下并保温静置30min，最后于70-75℃下保温研磨至水分挥干，即得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖。
实施例5
分别测定实施例4、对照例1、对照例2中当相同材质的干净擦釉布使用12 h后其表面釉液残留率，结果如表1所示，并以等量清水替代清洗剂作为对照例3。
表1实施例4、对照例1-3所制清洗剂对擦底海绵的清洗效果
| 测定项目 | 实施例4 | 对照例1 | 对照例2 | 对照例3 |
| 釉液残留率/％ | 0.18 | 0.39 | 0.97 | 10.56 |
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (3)
1.一种日用陶瓷坯体的施釉工艺，其特征在于：包括如下步骤：
(1)釉料准备：将釉料充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后置于-15℃环境中冷冻3-5h，取出釉料，并利用粉碎机制成270目的微粉，再以5-10℃/min的升温速度加热至115-125℃保温混合10-15min，自然冷却至室温；
(2)釉浆配制：将水加热至40-50℃保温搅拌5-10min，再加入经上述处理后的釉料，继续于40-50℃下保温搅拌15-30min，经自然冷却至室温后静置0.5-1h，并过270目筛，所得滤液转入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm，即得釉浆；
(3)自动化施釉：将上述所制釉浆送入自动喷釉机中，利用自动喷釉机对陶瓷坯体进行施釉，保证釉浆喷施均匀；
(4)坯体擦底：利用擦底装置将施釉后的陶瓷坯体底部多余釉浆擦去，然后利用传送设备将陶瓷坯体送入窑炉中进行烧制工序。
2.根据权利要求1所述的日用陶瓷坯体的施釉工艺，其特征在于：所述釉料由如下重量份数的原料混合制成：长石粉15-25份、重质碳酸钙1-5份、超细氧化镁1-5份、微细二氧化硅气凝胶1-5份、分子筛原粉0.5-2份、纳米钛白粉0.5-2份、无机颜料0.5-2份、羟丙基甲基纤维素0.5-2份。
3.根据权利要求1所述的日用陶瓷坯体的施釉工艺，其特征在于：所述釉料与水的质量比为1:2-5。
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Publications (1)
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