CN107460506A - 一种镍的电镀液 - Google Patents

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    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
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Abstract

本发明公开了一种碱性氰化金的电镀液，包括溶剂水、4‑10g/L的氰化亚金钾、7‑14g/L的络合剂、17‑22g/L的缓冲剂、20‑25g/L的柠檬酸钾、0.1‑0.2g/L的表氯醇或表溴醇以及15‑20g/L导电盐。本发明的金电镀液配方简单，电镀的金薄膜层效果好、均一性高；金沉积的选择性高；工艺条件要求温和，易于实现；降低了电镀金的成本。

Description

一种镍的电镀液
技术领域
本发明涉及电镀液，尤其涉及一种镍的电镀液。
背景技术
镍是银白色金属，具有良好延展性、可塑性和磁性，能够高度磨光，具有中等硬度，且具有好的耐腐蚀性。因此，镍具有优良的装饰性和功能性，是目前使用最普遍的电镀材料之一。主要用于合金，也可用来制造货币等，镀在其他金属上可以防止生锈。主要用来制造不锈钢和其他抗腐蚀合金，如镍钢、镍铬钢及各种有色金属合金，含镍成分较高的铜镍合金，就不易腐蚀。也作加氢催化剂和用于陶瓷制品、特种化学器皿、电子线路、玻璃着绿色以及镍化合物制备等等。
电解镍是使用电解法制成的镍，用它制造的不锈钢和各种合金钢被广泛地用于飞机、坦克、舰艇、雷达、导弹、宇宙飞船和民用工业中的机器制造、陶瓷颜料、永磁材料、电子遥控等领域。
使用现有技术的镍电镀液镀镍时，镀件表面和电镀液的清洁度影响电镀后镀件的质量，如镀件表面起皮、起泡、麻点或黑点等，且均镀能力差，如镀件在渡槽中的不同位置，镀件表面的镍层不同，尤其对于形状复杂或有细小的深孔或盲孔的镀件，不能获得质量较好的电镀表面。
酸性体系的镍电镀液成分较简单，效率高，易于操作，但镀层不均匀，并且电流密度变化对镀层组成影响太大，最终影响电镀质量。
发明内容
发明目的：本发明提供了一种镍的电镀液，解决了镀件表面由于镀件表面和电镀液的清洁度影响电镀效果的问题，同时解决了电镀的镍层不均的问题。
技术方案：本发明的一种镍的电镀液，包括溶剂水、20-40g/L的主盐、40-80g/L的络合剂、30-70g/L的导电盐、0.02-0.07g/L的光亮剂、2-7g/L的缓冲剂、0.04-0.07g/L的稳定剂、4-7g/L的添加剂，其中，所述添加剂为如下通式中的结构，
其中，R1选自C1-C5的卤代烃。
所述主盐为硫酸镍和氯化镍中的一种或两种。
所述络合剂为醋酸、乳酸、琥珀酸、苹果酸和甘氨酸中的一种或几种。
所述导电盐为硫酸钾、氯酸钾、硫酸铵和氯化铵中的一种或几种。
所述光亮剂为硫代硫酸钠、硫氰酸钾和呋喃中的一种或几种。
所述缓冲剂为碳酸氢钠、碳酸氢钾、硼酸和柠檬酸中的一种或几种。
所述稳定剂为铅离子、镉离子和锡离子中的一种或几种。
有益效果：1、本发明的镍电镀液配方简单，易于操作，镀层均匀，均镀能力好；2、电镀条件温和，易于实现，受电流密度的影响较小；3、电镀的镍薄膜光亮效果好、均一性高、耐腐蚀性好；4、电镀的镍层效果好，避免起皮、起泡、麻点或黑点等现象；5、对于形状复杂或有细小的深孔或盲孔的镀件能够获得质量较好的电镀表面；6、镀层结合力良好，满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。
具体实施方式
实施例1
将薄壁铜管在电镀槽中进行电镀，电镀槽中电镀液包括溶剂水、20g/L的硫酸镍、40g/L的苹果酸、30g/L的硫酸钾、0.04g/L的硫氰酸钾、5g/L的碳酸氢钠、0.04g/L的镉离子、4.5g/L的添加剂，其中，所述添加剂为如下的结构，
电镀槽中镀液的pH值为5，电流密度为2.5A/dm2，温度为25℃，电镀时间7分钟。
电镀完成后，电镀的镍层光亮效果好、均一性高，无麻点、黑点等现象；依据ASTMB571标准，将电镀镍镀层的铜管在炉中加热至240-260℃，然后取出放入室温的水中冷却，镍镀层没有鼓泡或脱落，说明镍层与基体结合强度合格；镀镍层铜管做中性盐雾试验8小时，未见镍层腐蚀。
实施例2
将长方形铁片在电镀槽中进行电镀，电镀槽中电镀液包括溶剂水、30g/L的硫酸镍、60g/L的琥珀酸、40g/L的硫酸钾、0.02g/L的硫氰酸钾、4g/L的碳酸氢钾、0.06g/L的锡离子、5g/L的添加剂，其中，所述添加剂为如下的结构，
电镀槽中镀液的pH值为4.5，电流密度为3.5A/dm2，温度为45℃，电镀时间4分钟。
电镀完成后，电镀的镍层光亮效果好、均一性高，无麻点、黑点等现象；依据ASTMB571标准，将电镀镍镀层的长方形铁片在炉中加热至240-260℃，然后取出放入室温的水中冷却，镍镀层没有鼓泡或脱落，说明镍层与基体结合强度合格；镀镍层长方形铁片做中性盐雾试验7小时，未见镍层腐蚀。
实施例3
将带有若干深孔和盲孔的铁块在电镀槽中进行电镀，电镀槽中电镀液包括溶剂水、25g/L的硫酸镍、50g/L的甘氨酸、50g/L的氯酸钾、0.07g/L的硫氰酸钾、6g/L的硼酸、0.045g/L的镉离子、4g/L的添加剂，其中，所述添加剂为如下的结构，
电镀槽中镀液的pH值为4，电流密度为1.5A/dm2，温度为50℃，电镀时间6分钟。
电镀完成后，电镀的镍层光亮效果好、均一性高，无麻点、黑点等现象；依据ASTMB571标准，将电镀镍镀层的铁块在炉中加热至240-260℃，然后取出放入室温的水中冷却，镍镀层没有鼓泡或脱落，说明镍层与基体结合强度合格；镀镍层铁块做中性盐雾试验8小时，未见镍层腐蚀；且证明对于有细小的深孔或盲孔的镀件能够获得质量较好的电镀表面。
实施例4
将中空的环形的铜片在电镀槽中进行电镀，电镀槽中电镀液包括溶剂水、35g/L的氯化镍、70g/L的乳酸、60g/L的硫酸铵、0.05g/L的硫代硫酸钠、2g/L的硼酸、0.05g/L的铅离子、6g/L的添加剂，其中，所述添加剂为如下的结构，
电镀槽中镀液的pH值为6，电流密度为3A/dm2，温度为30℃，电镀时间2分钟。
电镀完成后，电镀的镍层光亮效果好、均一性高，无麻点、黑点等现象；依据ASTMB571标准，将电镀镍镀层的铜片在炉中加热至240-260℃，然后取出放入室温的水中冷却，镍镀层没有鼓泡或脱落，说明镍层与基体结合强度合格；镀镍层铜片做中性盐雾试验9小时，未见镍层腐蚀；且证明对于形状复杂的镀件能够获得质量较好的电镀表面。
实施例5
将碳钢材质的螺栓在电镀槽中进行电镀，电镀槽中电镀液包括溶剂水、40g/L的氯化镍、80g/L的醋酸、70g/L的氯化铵、0.06g/L的硫代硫酸钠、7g/L的柠檬酸、0.07g/L的铅离子、7g/L的添加剂，其中，所述添加剂为如下的结构，
电镀槽中镀液的pH值为5.5，电流密度为4A/dm2，温度为35℃，电镀时间3分钟。
电镀完成后，电镀的镍层光亮效果好、均一性高，无麻点、黑点等现象；依据ASTMB571标准，将电镀镍镀层的螺栓在炉中加热至240-260℃，然后取出放入室温的水中冷却，镍镀层没有鼓泡或脱落，说明镍层与基体结合强度合格；镀镍层螺栓做中性盐雾试验8小时，未见镍层腐蚀；且证明对于形状复杂的镀件能够获得质量较好的电镀表面。

Claims (7)

1.一种镍的电镀液，其特征在于：包括溶剂水、20-40g/L的主盐、40-80g/L的络合剂、30-70g/L的导电盐、0.02-0.07g/L的光亮剂、2-7g/L的缓冲剂、0.04-0.07g/L的稳定剂、4-7g/L的添加剂，其中，所述添加剂为如下通式中的结构，
其中，R1选自C1-C5的卤代烃。
2.根据权利要求1所述的镍的电镀液，其特征在于：所述主盐为硫酸镍和氯化镍中的一种或两种。
3.根据权利要求1所述的镍的电镀液，其特征在于：所述络合剂为醋酸、乳酸、琥珀酸、苹果酸和甘氨酸中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的镍的电镀液，其特征在于：所述导电盐为硫酸钾、氯酸钾、硫酸铵和氯化铵中的一种或几种。
5.根据权利要求1所述的镍的电镀液，其特征在于：所述光亮剂为硫代硫酸钠、硫氰酸钾和呋喃中的一种或几种。
6.根据权利要求1所述的镍的电镀液，其特征在于：所述缓冲剂为碳酸氢钠、碳酸氢钾、硼酸和柠檬酸中的一种或几种。
7.根据权利要求1所述的镍的电镀液，其特征在于：所述稳定剂为铅离子、镉离子和锡离子中的一种或几种。
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