CN107428985A - 亲水性超高分子量塑料多孔片及其制造方法 - Google Patents

亲水性超高分子量塑料多孔片及其制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明的目的在于提供吸水性高的亲水性多孔片。此外,本发明的目的在于提供胶粘力也优良的亲水性多孔片。另外,本发明的目的在于提供上述多孔片的简便的制造方法。本发明涉及一种亲水性超高分子量塑料多孔片,其特征在于,在25℃、60%RH的气氛下使片的一端浸渍到纯水中时的吸收速度为15mm/3分钟以上,所述多孔片由超高分子量塑料构成,在利用红外光谱法(FT‑IR)测定的IR光谱中,在3000cm‑1~3500cm‑1未观察到特征吸收。

Description

亲水性超高分子量塑料多孔片及其制造方法
技术领域
本发明涉及要求亲水性、透气性和纯水的吸收性的超高分子量塑料多孔片及其制造方法。
背景技术
聚烯烃树脂粒子的多孔片由于其优良的过滤功能、透过性而在各种过滤器、用于吸附固定的缓冲材料等中广泛利用。其中特别是进行了亲水化的聚乙烯多孔片由于其亲水性、吸水性而在水的吸收、保持、扩散、透过等用途中发挥作用,已经开发了专利文献1记载的聚烯烃烧结体等。
作为这样的具有吸水功能的多孔片,还开发了进行了亲水化处理的合成纤维的片、无纺布或天然纤维的布、以及进行了亲水化处理的热塑性树脂的微孔膜或吸水性聚合物、金属或陶瓷的烧结体等。
这样的亲水性聚乙烯多孔片具有在吸水时优良的尺寸稳定性、高机械强度、能够应对复杂形状的成形性,因此,期待在空调用的加湿元件或打印机的油墨吸收体等多种领域中展开用途。
为了对聚乙烯多孔片赋予亲水性,通常是如专利文献2记载的方法那样通过接枝聚合等向作为原料的聚乙烯粉体中引入具有亲水性官能团的物质的方法,但是存在其制造工序复杂、难以得到所需要的充分的亲水性或吸水性等问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特公平4-28021号公报
专利文献2:日本特开2009-114238号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的目的在于提供无需引入具有亲水性官能团的物质、吸水性高的亲水性多孔片。此外,本发明的目的在于提供胶粘力也优良的亲水性多孔片。另外,本发明的目的在于提供上述多孔片的简便的制造方法。
用于解决问题的手段
本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片在25℃、60%RH的气氛下使片的一端浸渍到纯水中时的吸收速度为15mm/3分钟以上,由超高分子量塑料构成,在利用红外光谱法(FT-IR)测定的IR光谱中,在3000cm-1~3500cm-1未观察到特征吸收。
本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片的制造方法具有对多孔片进行防静电处理和/或等离子体处理的工序,上述多孔片由超高分子量塑料构成,且平均孔径小于20.0μm,在不进行防静电处理的况下,上述等离子体处理在氧气气氛下进行。
发明效果
根据本发明,能够提供无需引入(例如层叠)具有亲水性官能团的物质、显示出高吸水性的亲水性超高分子量塑料多孔片。此外,本发明能够提供胶粘力也优良的亲水性多孔片。另外,通过使用本发明的制造方法,能够简便地得到提高了纯水吸收性的多孔片。
具体实施方式
本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片的特征在于,在25℃、60%RH的气氛下使片的一端浸渍到纯水中时的吸收速度为每3分钟15mm以上,所述多孔片由超高分子量塑料构成,在利用红外光谱法(FT-IR)测定的IR光谱中,在3000cm-1~3500cm-1未观察到特征吸收。
上述吸收速度的测定方法如后述的实施例所记载。本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片能够作为吸水片使用,在25℃、湿度60%RH的气氛下使片的一端浸渍到纯水中时的吸收速度优选为20mm/3分钟以上,更优选为25mm/3分钟以上,进一步优选为30mm/3分钟以上,特别优选为35mm/3分钟以上,进一步特别优选为40mm/3分钟以上,尤其优选为45mm/3分钟以上,最优选为55mm/3分钟以上。
本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片的胶粘力优选为0.5N/mm以上,更优选为2.1N/mm以上,进一步优选为2.5N/mm以上。上述胶粘力的测定方法如后述的实施例所记载。
作为本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片,优选上述吸收速度为15mm/3分钟以上、且胶粘力为2.1N/mm以上的多孔片,更优选吸收速度为20mm/3分钟以上、且胶粘力为2.1N/mm以上的多孔片,进一步优选吸收速度为25mm/3分钟以上、且胶粘力为2.5N/mm以上的多孔片。
作为构成本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片的超高分子量塑料,没有特别限定,可以列举例如:超高分子量聚乙烯、超高分子量聚丙烯、超高分子量聚氯乙烯和超高分子量聚酰胺等,优选超高分子量聚乙烯(以下也称为UHMWPE)。这些超高分子量塑料可以单独使用一种,也可以混合使用两种以上。另外,这些超高分子量塑料可以使用市售品。作为高分子量塑料的市售品,可以列举例如Hi-Zex-Million(三井化学公司)、Sunfine UH、UTS(旭化成化学公司)、HIFAX 1000(Hercules公司)、Hostalen GUR(赫斯特公司)等超高分子量聚乙烯;TK2500系列(信越化学工业)等超高分子量聚氯乙烯;DAIAMID(大赛璐化学工业)等超高分子量聚酰胺等。
本发明中,超高分子量塑料的重均分子量(Mw)(以下也简称为平均分子量)没有特别限定,优选为50万以上,更优选为100万以上,进一步优选为150万以上,特别优选为200万以上。另外,重均分子量(Mw)的上限没有特别限定,优选为1500万以下,更优选为1200万以下,进一步优选为900万以下,特别优选为800万以下。上述重均分子量为利用光散射测定法测定的值。
作为材料使用的超高分子量塑料多孔片可以利用公知的方法来制造,例如可以按照日本特公平7-55541号公报、日本特开2002-177390号记载的方法来制造。例如,可以通过将上述超高分子量塑料粉末填充到形状保持工具(模具等)中,将形成于模具框上的塑料在加热至该塑料的熔点以上的水蒸气气氛中烧结,然后进行冷却来制作。具体而言,在超高分子量塑料为超高分子量聚乙烯的情况下,制备包含超高分子量聚乙烯粉末等的规定的分散液,将该分散液涂布成片状,然后进行约130℃~约200℃的加热处理,然后自然冷却至室温,由此能够制造超高分子量塑料多孔片。
另外,作为材料使用的超高分子量塑料多孔片可以使用分散剂、增稠剂等添加剂来制造。
作为分散剂,可以列举表面活性剂,优选非离子表面活性剂。作为非离子表面活性剂,可以列举:甘油脂肪酸酯及其亚烷基二醇加成物、聚甘油脂肪酸酯及其亚烷基二醇加成物、丙二醇脂肪酸酯及其亚烷基二醇加成物、失水山梨糖醇脂肪酸酯及其亚烷基二醇加成物、山梨醇脂肪酸酯及其亚烷基二醇加成物、聚氧亚乙基甘油脂肪酸酯、聚亚烷基二醇脂肪酸酯、蔗糖脂肪酸酯、甘油烷基醚、聚氧亚烷基烷基醚、聚(氧亚乙基)烷基苯基醚、聚(氧亚乙基)烷基醚、聚氧亚乙基氢化蓖麻油、羊毛脂的亚烷基二醇加成物、聚氧亚乙基-聚氧亚丙基嵌段共聚物等。上述非离子表面活性剂的例示中的脂肪酸的碳原子数优选为12~18。非离子表面活性剂的HLB值没有特别限定,可以为12.5以上。另外,非离子表面活性剂的HLB值可以小于15.0,也可以小于14.5。这些非离子表面活性剂可以使用市售品。作为市售品,可以列举例如Triton X-100(HLB值13.5,为聚氧亚乙基烷基苯基醚的一种,包含聚乙二醇对(1,1,3,3-四甲基丁基)苯基醚等化合物;Roche Applied Science公司制造)等。分散剂的使用量没有特别限定,优选超高分子量塑料粉末:分散剂(体积比)=1:0.01~1:0.20,更优选为1:0.05~1:0.15。
作为增稠剂,没有特别限定,可以列举膨润土、蒙脱石、锌蒙脱石、绿脱石、皂石、锂皂石、蛭石、合成锂皂石等天然和合成的粘土矿物(也包括有机改性粘度矿物);阿拉伯树胶、黄芪胶、卡拉胶等植物类增稠剂;黄原胶等微生物类增稠剂;明胶、硫酸软骨素钠等动物类增稠剂;甲基纤维素、羧甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、硝化纤维素、乙基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素等纤维素衍生物;大米淀粉、小麦淀粉等淀粉类增稠剂;海藻酸钠、海藻酸丙二醇酯等海藻酸类增稠剂;聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯等乙烯基衍生物;聚丙烯酸钠、聚丙烯酸类树脂烷醇胺溶液、聚甲基丙烯酸乙酯、羧基乙烯基聚合物等丙烯酸类衍生物等。增稠剂的使用量没有特别限定,优选超高分子量塑料粉末:增稠剂(体积比)=1:0.005~1:0.10,更优选为1:0.01~1:0.08。另外,增稠剂的使用量没有特别限定,优选分散剂:增稠剂(体积比)=1:0.05~1:0.9,更优选为1:0.1~1:0.8。
本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片只要以超高分子量塑料为主而构成,就可以在不妨碍本发明效果的范围内含有其它树脂。作为这种其它树脂,可以列举例如高密度聚乙烯、低密度聚乙烯等。这种其它树脂的配合量只要在不妨碍本发明效果的范围内就没有特别限定,相对于亲水性超高分子量塑料多孔片整体,优选为10质量%以下,更优选为5.0质量%以下,进一步优选为1.0质量%以下。
如上所述,本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片可以在不妨碍本发明效果的范围内含有其它树脂,但是作为树脂材料(塑料),优选仅由超高分子量塑料构成。
从在等离子体处理后得到更高的吸水性的观点出发,本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片的平均孔径小于20.0μm,优选为3.0μm~18.0μm,更优选为5.0μm~15.0μm,进一步优选为8.0μm~13.0μm。另外,上述多孔片的平均孔径可以为1.0μm以上,也可以为2.0μm以上。
本发明中的平均孔径是使用基于氮气吸附脱附方式的比表面积/孔分布测定器ASAP2010(株式会社岛津制作所制造),利用BJH法测定孔径分布,并由此求出的值。
关于本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片的孔隙率,在不进行防静电处理而仅进行等离子体处理的情况下,从在等离子体处理后得到更高的吸水性的观点出发,优选大于30%且为80%以下,更优选为33%~70%,进一步优选为35%~60%。在等离子体处理前或等离子体处理后进行防静电处理的情况下,从在两种处理后得到更高的吸水性的观点出发,上述多孔片的孔隙率优选大于20%且为70%以下,更优选为25%~65%,进一步优选为25%~50%。
本发明中的孔隙率是指多孔片中的孔的部分的体积比例,是由下式定义的值。
孔隙率={孔部分的体积/(多孔体物质部分的体积+孔部分的体积)}×100(%)
需要说明的是,本发明中的孔隙率为开孔的孔隙率,不包含闭孔。
通过使用这样的多孔片作为材料,能够进一步提高等离子体表面处理后的片的吸水性。
本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片的厚度没有特别限定,优选为约5μm~约500μm,更优选为约10μm~约450μm,进一步优选为约50μm~约400μm,特别优选为约80μm~约350μm。
本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片可以通过下述制造方法来制造,该制造方法具有对材料的多孔片进行防静电处理和/或等离子体处理的工序,上述多孔片由上述超高分子量塑料构成,且平均孔径小于20.0μm,在不进行抗静电处理的情况下的上述等离子体处理在氧气气氛下进行,在等离子体处理前或等离子体处理后进行防静电处理的情况下,等离子体处理在氧气或氩气气氛下进行。
上述的本发明的制造方法中,对材料的多孔片进行的处理优选不进行防静电处理而仅进行等离子体处理的情况;或者在防静电处理前或防静电处理后进行等离子体处理。
在不进行防静电处理的情况下的等离子体处理工序中,通过使用氧气,与氩气、氦气等非反应性气体相比,能够得到更优良的吸水性。
在防静电处理前或防静电处理后进行等离子体处理的情况下的等离子体处理工序中,通过使用氧气或氩气,能够得到优良的吸水性。
关于不进行防静电处理的情况下的等离子体处理工序中的氧气的导入量,只要能够得到本发明的效果就没有特别限定,从在等离子体处理后得到更高的吸水性的观点出发,优选为10sccm~100sccm,更优选为20sccm~80sccm,进一步优选为30sccm~50sccm。
关于在防静电处理前或防静电处理后进行等离子体处理的情况下的等离子体处理工序中的氧气或氩气的导入量,只要能够得到本发明的效果就没有特别限定,从得到高吸水性的观点出发,优选为101sccm~600sccm,更优选为110sccm~550sccm,进一步优选为150sccm~500sccm,特别优选为200sccm~480sccm。
等离子体处理工序中的气压没有特别限定,从在不进行防静电处理的情况下进行等离子体处理后以及在防静电处理前或防静电处理后进行等离子体处理后得到更高的吸水性的观点出发,优选为0.5Pa~10Pa,更优选为2.0Pa~7.0Pa。
关于不进行防静电处理的情况下的等离子体处理工序中的处理密度与处理时间之积(处理能量),从在等离子体处理后得到更高的吸水性的观点出发,优选为10J/cm2以上且300J/cm2以下,更优选为15J/cm2以上且300J/cm2以下,进一步优选为20J/cm2以上且250J/cm2以下,特别优选为25J/cm2以上且200J/cm2以下。上述处理密度(处理功率[W]/处理面积[cm2])与处理时间([秒])之积可以使用5MHz~15MHz的高频电源进行调节。
关于在防静电处理前或防静电处理后进行等离子体处理的情况下的等离子体处理工序中的处理密度与处理时间之积(处理能量),从得到更高的吸水性的观点出发,优选为0.10J/cm2以上且小于10J/cm2,更优选为0.20J/cm2以上且8.0J/cm2以下,进一步优选为0.30J/cm2以上且5.0J/cm2以下,特别优选为0.35J/cm2以上且4.0J/cm2以下。
作为防静电处理,可以列举对多孔片涂布防静电剂的方法。作为防静电剂,没有特别限定,可以列举阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、两性表面活性剂、非离子表面活性剂等,优选阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂。这些防静电剂可以单独使用一种,也可以并用两种以上,但是优选不将阳离子表面活性剂与阴离子表面活性剂并用。作为本发明的防静电剂,没有特别限定,可以还含有紫外线吸收剂、脱模剂等添加剂。
作为用作防静电剂的阳离子表面活性剂,没有特别限定,可以列举烷基铵乙酸盐类、烷基二甲基苄基铵盐类、烷基三甲基铵盐类、二烷基二甲基铵盐类、烷基吡啶盐类、氧亚烷基烷基胺类、聚氧亚烷基烷基胺类等。
作为用作防静电剂的阴离子表面活性剂,没有特别限定,可以列举硬脂酸钠皂等脂肪酸钠皂类、月桂基硫酸钠等烷基硫酸盐类、α-磺基脂肪酸酯盐类、烷基醚硫酸盐类、烷基苯磺酸钠类、烷基萘磺酸钠类、二烷基磺基琥珀酸盐类、烷基磷酸盐类、烷基二苯基醚二磺酸盐类等。
作为用作防静电剂的两性离子表面活性剂,可以列举烷基羧基甜菜碱类等。
作为用作防静电剂的非离子表面活性剂,可以列举与上述的分散剂相同的物质。
作为防静电剂,可以使用市售品。作为市售品,可以列举例如Adeka(注册商标)Pluronic L·P·F系列、Adeka(注册商标)Pluronic TR系列等聚氧亚乙基-聚氧亚丙基嵌段共聚物型非离子表面活性剂;ADEKA TOL LB系列、ADEKA TOL LA系列、ADEKA TOL TN系列等烷基醚型非离子表面活性剂;ADEKA TOL NK(甘油酯环氧乙烷加成物)等酯型非离子表面活性剂;ADEKA TOL PC等特种酚型非离子表面活性剂;ADEKA HOPE系列等硫酸盐型阴离子表面活性剂;ADEKA COL系列等磷酸酯型或琥珀酸酯型的阴离子表面活性剂;ADEKA MINE系列等季阳离子型阳离子表面活性剂(以上为株式会社ADEKA制造);エレクノン系列(大日精化工业株式会社制造)等阳离子表面活性剂、エレクトロストリッパーAC等两性表面活性剂(花王株式会社制造)等。
涂布方法没有特别限定,可以采用公知的方法。作为涂布方法,可以列举例如流延法、浸渍法、辊涂法、凹版涂布法、丝网印刷法、逆向涂布法、喷涂法、接触式涂布法、口模式涂布法、计量棒涂布法、封闭式刮刀组合涂布法、幕涂法、刮棒涂布法等。
对多孔片涂布防静电剂后,可以进行干燥处理。干燥处理的温度没有特别限定,例如可以为约50℃~约130℃,也可以为约60℃~约110℃。
本发明的多孔片的制造方法中,为了进一步赋予亲水性,可以进行电晕放电处理等除上述等离子体处理和防静电处理以外的其它处理,但不是特别必要的。
对于本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片而言,在利用红外光谱法(FT-IR)测定的IR光谱中,在3000cm-1~3500cm-1几乎观察不到特征吸收。这意味着在亲水性多孔片的表面(自表面起沿厚度方向至约几十μm)亲水性官能团(OH基)未引入至能够利用红外光谱法(FT-IR)检出的程度,即,亲水性官能团的引入量是极微量的。
只要取得本发明的效果,本发明包括在本发明的技术范围内将上述构成进行各种组合而得到的方式。
实施例
接着,列举实施例更具体地对本发明进行说明,但是本发明不受这些实施例的任何限定。
[实施例1]
将UHMWPE粉末(重均分子量450万)与水、分散剂(商品名:Triton X-100(RocheApplied Science公司制造))、增稠剂(羧甲基纤维素钠)混合,从而得到分散液。此时的配比为水/UHMWPE粉末/分散剂/增稠剂=100/60/5/2(体积比)。使用刮刀将该分散液以任意的厚度涂布到聚酰亚胺薄膜(JIS B 0601:2013的算术平均粗糙度Ra<0.1)上。将涂布在该薄膜上的分散液投入到设定为180℃的干燥机中,静置10分钟。干燥后取出聚酰亚胺薄膜层叠体,自然冷却至室温,然后从上述层叠体剥离背面的聚酰亚胺薄膜。然后,将所得到的片在超声波清洗槽中进行蒸馏水清洗,从上述片中充分地提取出分散剂,由此得到平均孔径为10μm、孔隙率为40%的UHMWPE多孔片。
对所得到的UHMWPE多孔片实施等离子体处理。作为上述等离子体处理,在O2气体的存在下通过利用高频等离子体的溅射蚀刻处理来实施。关于溅射蚀刻处理的条件,将真空腔室内的O2气体的导入量设定为30sccm,使腔室内的气压设定为3.6Pa,并使用高频电源进行处理。以此时的处理密度与处理时间之积为30J/cm2的方式实施处理,由此得到亲水性UHMWPE多孔片。
(FT-IR的测定)
利用日本分光公司制造的FT-IR对所得到的实施例和比较例的各片进行测定。将结果示于表1。
(吸水性评价)
关于所得到的实施例和比较例的各片,依据JIS L 1907:2010(纤维制品的吸水性试验方法)的Byreck法,在25℃、60%RH的气氛下使片的一端浸渍到纯水中1cm,放置3分钟后提起,测定水在片内移动的距离来进行评价。将结果示于表1。
(胶粘性评价)
利用双面胶带(型号:No.5000NS、日东电工株式会社制造)将所得到的实施例和比较例的各片固定在SUS板上。接着,在片的表面(处理面)粘贴丙烯酸类粘合带(型号:No.31B、日东电工株式会社制造)。然后,在常温下放置,经过30分钟后,使用拉伸试验机(商品名:Tensilon万能材料试验机、型号:RTC-1210A、株式会社A&D制造),求出片与粘合带的胶粘力。
[实施例2]
除了将利用O2氧气的溅射蚀刻处理的处理密度与处理时间之积调节为10J/cm2以外,与实施例1同样地进行。对于所得到的片,与实施例1同样地进行FT-IR的测定和吸水性评价。将结果示于表1。
[比较例1]
未对实施例1中得到的超高分子量聚乙烯多孔片实施等离子体处理。对于所得到的片,与实施例1同样地进行FT-IR的测定和吸水性评价。将结果示于表1。
[比较例2]
除了在溅射蚀刻处理中使用Ar气体以外,与实施例1同样地进行。对于所得到的片,与实施例1同样地进行FT-IR的测定和吸水性评价。将结果示于表1。
[实施例3]
对UHMWPE多孔片进行防静电处理来代替进行等离子体处理,除此以外,与实施例1同样地进行,得到了亲水性UHMWPE多孔片。作为防静电处理,通过浸渍在UHMWPE多孔片上涂布阳离子型防静电剂(阳离子表面活性剂、商品名:エレクノンOR-W、大日精化工业株式会社制造)。具体而言,在上述阳离子型防静电剂中添加去离子水,制备3%水溶液,通过浸渍涂布将所得到的水溶液涂布到上述多孔片上,并在90℃干燥2分钟。对于所得到的亲水性UHMWPE多孔片,与实施例1同样地进行FT-IR的测定和吸水性评价。将结果示于表1。
[实施例4]
作为材料的UHMWPE多孔片,使用平均孔径为17μm、孔隙率为30%的サンマップLC-T(商品名、日东电工株式会社)。与实施例3同样地对サンマップLC-T进行防静电处理。对于所得到的亲水性UHMWPE多孔片,与实施例1同样地进行FT-IR的测定和吸水性评价。将结果示于表1。
[实施例5~6]
作为材料的UHMWPE多孔片,与实施例3同样地使用サンマップLC-T。对于サンマップLC-T,除了如表1所记载地变更条件以外,与实施例1同样地进行等离子体处理。接着,与实施例4同样地对所得到的多孔片进行防静电处理。对于所得到的各亲水性UHMWPE多孔片,与实施例1同样地进行FT-IR的测定和吸水性评价。
[实施例7~8]
作为材料的UHMWPE多孔片,与实施例3同样地使用サンマップLC-T,并进行防静电处理。接着,对于所得到的多孔片,除了如表1所记载地变更各条件以外,与实施例1同样地进行等离子体处理。对于所得到的各亲水性UHMWPE多孔片,与实施例1同样地进行FT-IR的测定和吸水性评价。
由表1的结果确认,对于实施例的各片而言,虽然亲水性官能团(OH)未引入至在多孔片的表面(自表面起沿厚度方向至约几十μm)上能够检出的程度,但是吸收速度为15mm/3分钟以上。另外,胶粘力在实施例3中为0.6N/mm,在实施例4中为0.5N/mm。实施例1、2、5~8中为2.1N/mm以上。
产业实用性
本发明的亲水性超高分子量塑料多孔片具有高吸水性,特别是在使用超高分子聚乙烯的亲水性超高分子量塑料多孔片的情况下,具有高吸水性,具有源自聚乙烯的优良的尺寸稳定性,因此设想能够用作要求液体的吸水保持性的电池隔板或空调等的加湿元件、或打印机的油墨吸收体。

Claims (11)

1.一种亲水性超高分子量塑料多孔片,其特征在于,
在25℃、湿度60%RH的气氛下使片的一端浸渍到纯水中时的吸收速度为15mm/3分钟以上,
所述多孔片由超高分子量塑料构成,
在利用红外光谱法(FT-IR)测定的IR光谱中,在3000cm-1~3500cm-1未观察到特征吸收。
2.如权利要求1所述的亲水性超高分子量塑料多孔片,其特征在于,超高分子量塑料为选自由超高分子量聚乙烯、超高分子量聚丙烯、超高分子量聚氯乙烯和超高分子量聚酰胺构成的组中的一种以上。
3.如权利要求1所述的亲水性超高分子量塑料多孔片,其特征在于,超高分子量塑料为超高分子量聚乙烯。
4.如权利要求1所述的亲水性超高分子量塑料多孔片,其特征在于,所述多孔片的平均孔径小于20.0μm。
5.如权利要求1~4中任一项所述的亲水性超高分子量塑料多孔片,其特征在于,所述多孔片的平均孔径为5.0μm~15.0μm,孔隙率大于30%且为80%以下。
6.如权利要求1~5中任一项所述的亲水性超高分子量塑料多孔片,其特征在于,所述吸收速度为20mm/3分钟以上。
7.一种权利要求1~6中任一项所述的亲水性超高分子量塑料多孔片的制造方法,其特征在于,
所述方法具有对多孔片进行防静电处理和/或等离子体处理的工序,
所述多孔片由超高分子量塑料构成,且平均孔径小于20.0μm,
在不进行防静电处理的情况下的所述等离子体处理在氧气气氛下进行,在等离子体处理前或等离子体处理后进行防静电处理的情况下,等离子体处理在氧气或氩气气氛下进行。
8.如权利要求7所述的亲水性超高分子量塑料多孔片的制造方法,其特征在于,所述等离子体处理在0.5Pa~10Pa的气压下进行。
9.如权利要求7或8所述的亲水性超高分子量塑料多孔片的制造方法,其特征在于,在等离子体处理前或等离子体处理后进行防静电处理。
10.如权利要求7~9中任一项所述的亲水性超高分子量塑料多孔片的制造方法,其特征在于,在不进行防静电处理的情况下的所述等离子体处理工序中的处理密度与处理时间之积为10J/cm2以上且300J/cm2以下。
11.如权利要求7~9中任一项所述的亲水性超高分子量塑料多孔片的制造方法,其特征在于,在等离子体处理前或等离子体处理后进行防静电处理的情况下的所述等离子体处理工序中的处理密度与处理时间之积为0.10J/cm2以上且小于10J/cm2
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